TWM451035U

TWM451035U - 美甲照射機

Info

Publication number: TWM451035U
Application number: TW101216435U
Authority: TW
Inventors: Jian-Yuan Chen; Ying-De Zhuang; jian-zhong Chen; mei-jun Qiu
Original assignee: Power Digital Delight Co Ltd; Easthill Ind Co Ltd
Priority date: 2012-08-27
Filing date: 2012-08-27
Publication date: 2013-04-21

Description

美甲照射機

一種「美甲照射機」，尤指一種於指甲彩繪或美容後的照射紫外線設備。

指甲的美容包含了彩繪、鑽刻、繪畫等，主要是以指甲油、亮片及接著劑塗繪於手指或腳趾上，尤其是有些美容的上色是需要有層次的，也就是要多次的著色或多道彩繪鑽刻的程序，因此在每一次的程序中間，都需要等指甲油或接著劑乾了，才能再進行下一個步驟；為了節省時間，需要將指甲油或接著劑加速凝固，通常會使用紫外線的美甲照射機來照射指甲，以使指甲上的指甲油或接著劑能加速變乾凝固，如台灣專利第M427838號所示者，即為較新且常見之設計。

請參看第6、7圖所示，係為前述習用常用的美甲照射機的照射結構示意圖，主要是設有一具開口51的箱形外殼50，在內部的頂部密佈設有多個光源體60，一般是紫外線的發光二極體，由於手指或腳趾有長短不同，所以上方的光源體60為能適應各種大小尺寸的手指或腳趾，或者左、右手指或腳趾的指甲都能使用，且能被充分的照射到，該光源體60通常是以矩陣式的排列，這種設計雖然是提供了大片的照射區域，光線是由上垂直向下的照射，造成了將手(腳)掌背面也被大面積且大量的紫外線所照射，長期下來，皮膚容易產生病變。

甚至於在製造上，將該箱形外殼50的底部52設為銀色或裸露的金屬色澤，雖是美觀，卻也將上方的大片光源體60所產生的紫外線直接或間接的反射，很容易即由箱形外殼50的開口51處漫射而出，就實際的測試，多半手臂及眼睛(面部)均有大量的紫外線照射到，對人體產生了危害，這皆是習用光源設計不佳所造成的缺點，也是該種機具最應改善之所在。

另外，由於大量的光源體60的密集設置，將產生大量的熱能留在該箱形外殼50內，所以又必需使用較高速或較大的風扇將熱能散去，是增加體積同時製造之成本增加，浪費能源，是其另一缺點。

本創作之主要目的，主要設有一任意造形的底板與一拱形殼體而構成照射空間；其特徵在：設數個照射光源組分別設於殼體的頂部及兩側部，而使光源呈環狀的分佈，該照射光源組包括有光源體及散熱片，且設在殼體頂部的照射光源組，它的光線投射方向是朝向前方，即殼體與底板所形成空間的開口對面處，如此不但能使光源集中於指甲，且使紫外線從各種角度均勻照在弧形指甲上，且不易被反射出機體外部，使用更為安全，且避免浪費過多的能源。

本案之另一目的，在殼體頂部設有彎折，這個彎折是配合照射光源組的光線投射方向是朝向前方，即殼體與底板所形成空間的開口對面處，這樣結構將使照射光源組的設置更為穩固。

本案之再一目的，在底板或殼體的內側面塗佈有黑色塗層，可以避免光線的反射出機體，使用上更為安全。

為使貴審查委員能清楚了解本創作之內容，僅以下列說明搭配圖式，說明如后。

請參看第1、2圖所示，本案至少包含有：一底板10，為一任意造形板體，在周側設有數個透孔11，並於表面設有黑色(吸光的)塗層40，以防止由上方或側面照下的紫外線光到達底板10後反射出機體。

請參看第1、2、3圖所示，一殼體20，係為一拱形體而罩設於底板10的上方，使殼體20與底板10間形成一空間；其中，殼體20於上方頂部201設有一彎折21，該彎折21可以是凹陷如槽狀(如本案第1、2、3圖所示)，亦或是相對的拱起(本案未另贅設圖式)，但於彎折21本身的底部垂直線L(如第4圖所示)是略朝向前方，即殼體20與底板10所形成空間的開口對面延伸處。

上述的殼體20的內側，亦可設有黑色吸光塗層(不另標號)，以減少光線的反射。

數個照射光源組30,301,302,303,304,305係分別設於殼體20的頂部201及兩側部202,203而形成環狀的分佈；該照射光源組30,301,302,303,304,305包括有(照射紫外線的)光源體31及散熱片32，且在環設的照射光源組301,302,303,304,305的光源體31前方設有聚光罩杯33。

本案在外部可以套設或鑲粘各種造形外殼，以形成完整的機具，惟因該造形外殼的外觀造形設計並非本案的特徵，故不予贅繪。

請再參看第3、4圖所示，本案之創作精神即在於設在殼體20頂部201的照射光源組30，它的光線投射方向是略朝向前方，即是殼體20與底板10所形成空間的開口對面延伸處，為了配合這個特別的設計，該照射光源組30最佳的設置是抵靠著殼體20頂部201的彎折21，這樣的照射光源組30將更形穩固。

本案在使用時，如第4、5圖所示，當手70(或腳)的指甲塗上了彩繪後，即可伸入殼體20與底板10所形成空間內，而環狀設置於殼體20的照射光源組301,302,303,304,305除了就所對應的指甲照射之外，在殼體20頂部201的照射光源組30能以略向前方照射的方式，將光束34投射在指甲上，配合原來其他照射光源組301,302,303,304,305的光束35，能很均勻的將具有弧面的指甲照射，能快速的將彩繪的指甲油或膠油凝固。

故在使用本案時，將具有如下的優點：

1.本案在以環狀的照射光源組剛好將指甲的分佈作定點的照射，另外再以上方的照射光源組以略向前方的照射，能將指甲表面的弧面均勻照射，達到快速完成照射的效果，依實際產品的測試，僅需十秒即可完成，大幅縮減了照射的時間，為本案的主要優點。

2.如上述的重點光源設計，能減少許多的光源體的設置，不但節省成本及功率，依實際測試本案僅需約十瓦的功率，照射時無灼熱感，相對於習用以陣列式排列的的照射方式，本案自然更為優良。

3.本案在底板表面，甚至於殼體的內側均設有黑色或防止反光的塗層，故紫外線更不容易反射出來，不容易傷到使用者的手臂、臉部及眼睛，使用上更為安全。

4.由於本案的光源體使用較少，故配合散熱板及通風透孔的設計，即能達到優良的散熱，是本案再一優點。

唯，以上所述之結構，僅為本創作之較佳實施例而已，並非用以限定本創作實施之範圍；故當熟習此技藝所作出等效或輕易的變化者，在不脫離本創作之精神與範圍下所作之均等變化與修飾，例如：略為改變造形、尺寸或投射角度略為增減，但實際仍係本案的特徵所在時，皆應涵蓋於本創作之專利範圍內，合先陳明。

綜上所述，本創作未在申請前公開，故具有新穎性又具有實用性，具有產業上的利用價值，符合專利要件；申請人乃爰依專利法之規定，向鈞局提起專利之申請。

10‧‧‧底板

11‧‧‧透孔

20‧‧‧殼體

201‧‧‧頂部

202‧‧‧側部

203‧‧‧側部

21‧‧‧彎折

30‧‧‧照射光源組

301‧‧‧照射光源組

302‧‧‧照射光源組

303‧‧‧照射光源組

304‧‧‧照射光源組

305‧‧‧照射光源組

31‧‧‧光源體

32‧‧‧散熱片

33‧‧‧聚光罩杯

34‧‧‧光束

35‧‧‧光束

40‧‧‧塗層

50‧‧‧外殼

51‧‧‧開口

52‧‧‧底部

60‧‧‧光源體

70‧‧‧手

L‧‧‧垂直線

第1圖係本創作之主要結構組合圖。

第2圖係本創作之主要結構分解圖。

第3圖係本創作之剖視結構圖。

第4圖係由側剖方向說明本創作之照射示意圖。

第5圖係由俯視方向說明本創作之照射示意圖。

第6圖係習用結構圖。

第7圖係習用結構剖視圖。