TWM449977U - 曝光機的雙面感光電路板的對位裝置 - Google Patents

Description

曝光機的雙面感光電路板的對位裝置

本創作係關於一種曝光機的雙面感光電路板的對位裝置，尤指利用複數製作靶標的發光單元在雙面感光電路板的表面製作複數靶標者。

習知曝光機的電路板的對位裝置係於曝光機的曝光框上設置複數定位銷，並於感光電路板上相對的位置設有定位孔，再由定位銷與定位孔間的套合關係，將感光電路板對位於曝光框，然而，為了套合的順暢性，一般會讓定位孔之孔徑稍大於定位銷之直徑，如此便會形成對位誤差，降低電路板的良率。之後，感光電路板的對位是將成對之對位銷穿設於電路板之對位孔並依據CCD攝影機所擷取之對位影像控制對位銷移動而帶動感光電路板，然而，由於對位裝置的結構過於龐大，控制系統過於複雜，因此使得成本提高。

因此，如何創作出一種曝光機的雙面感光電路板的對位裝置，以使其可便於設置於曝光機，且可提高在雙面感光電路板上製作電路的便利性，更可提高雙面電路位置的精度，將是本創作所欲積極揭露之處。

有鑑於上述習知技術之缺憾，創作人有感其未臻於完 善，遂竭其心智悉心研究克服，憑其從事該項產業多年之累積經驗，進而研發出一種曝光機的雙面感光電路板的對位裝置，以期達到可便於設置於曝光機，且可提高在雙面感光電路板上製作電路的便利性，更可提高雙面電路位置的精度的目的。

為達上述目的，本創作係提供一種曝光機的雙面感光電路板的對位裝置，其包含：一對位處理單元，其設置於該曝光機，該對位處理單元儲存複數靶標位置；複數製作靶標的發光單元，其設置於該曝光機並與該曝光機的一曝光裝置相對，該等製作靶標的發光單元的發光端朝向該雙面感光電路板的表面；以及複數靶標影像擷取單元，其電連接該對位處理單元，該等靶標影像擷取單元設置於該曝光機並與該曝光裝置位於同一側，該等靶標影像擷取單元的影像擷取端朝向該雙面感光電路板的另一表面。

上述對位裝置更包含一靶標影像顯示單元，其設置於該曝光機，該靶標影像顯示單元電連接該對位處理單元。

上述對位裝置的該等製作靶標的發光單元的發光端與該雙面感光電路板的表面接觸。

上述對位裝置的該等製作靶標的發光單元的發光端與該雙面感光電路板的表面相隔。

上述對位裝置的該等製作靶標的發光單元分別為一紫外線發光二極體。

藉此，本創作之曝光機的雙面感光電路板的對位裝置便於設置於曝光機，且可提高在雙面感光電路板上製作電 路的便利性，更可提高雙面電路位置的精度。

為充分瞭解本創作之目的、特徵及功效，茲藉由下述具體之實施例，並配合所附之圖式，對本創作做一詳細說明，說明如後：第1圖至第3圖分別為本創作具體實施例雙面感光電路板的分解示意圖、組合示意圖及應用的示意圖一，如圖所示，本創作的曝光機的雙面感光電路板的對位裝置包含一對位處理單元1、複數製作靶標的發光單元2及複數靶標影像擷取單元3。其中，該雙面感光電路板9具有一基板91、二導電層92及二光阻劑層93，該基板91可為透光或不透光，該等導電層92分別設置於該基板91的二面上，該等光阻劑層93分別設置於該等導電層92上，該雙面感光電路板9可為硬式或軟式。該對位處理單元1設置於該曝光機8且儲存複數靶標位置11，例如儲存該等靶標的位置座標，該對位處理單元1可具有中央處理器、處理電路及記憶體…等，該記憶體可儲存該等靶標的位置座標。該等製作靶標的發光單元2可電連接該對位處理單元1或可電連接其他的手動控制裝置(圖未示)以啟動或關閉該等製作靶標的發光單元2，該等製作靶標的發光單元2設置於該曝光機8並與該曝光機8的一曝光裝置6相對，例如該等製作靶標的發光單元2可設置於該曝光機8的承載台5或其他可與該曝光裝置6相對的位置，該等製作靶標的發光 單元2的發光端21朝向該雙面感光電路板9的表面(光阻劑層93)，該等製作靶標的發光單元2(儲存於該對位處理單元1的該等靶標位置11)與該曝光裝置6內的電路圖像預設有相對位置關係。該等靶標影像擷取單元3電連接該對位處理單元1且分別可為攝影機，該等靶標影像擷取單元3設置於該曝光機8並與該曝光裝置6位於同一側，例如該等靶標影像擷取單元3可設置於該曝光裝置6的內部或鄰近該曝光裝置6，或其他可與該曝光裝置6同一側的位置，該等靶標影像擷取單元3的影像擷取端31朝向該雙面感光電路板9的另一表面(光阻劑層93)，該等靶標影像擷取單元3與該曝光裝置6內的電路圖像預設有相對位置關係，因此，該等製作靶標的發光單元2(儲存於該對位處理單元1的該等靶標位置11)、該等靶標影像擷取單元3與該曝光裝置6內的電路圖像預設有相對位置關係。

第3圖至第8圖分別為本創作具體實施例應用的示意圖一至三、第5圖的後側示意圖、靶標的示意圖及對位的示意圖，如圖所示，本創作應用時係先將該雙面感光電路板9放置於該曝光機8的承載台5上，接著再將該曝光機8的曝光裝置6接近該雙面感光電路板9，該雙面感光電路板9可倚靠在該承載台5上的一L型倚靠邊條51，當該雙面感光電路板9欲固定在該承載台5上時，該L型倚靠邊條51可固定於該承載台5上，當該雙面感光電路板9欲在該承載台5上調整位置時，該L型倚靠邊條51亦可隨之移動位置，該L型倚靠邊條51僅為固定該雙面感光電路板9或 調整該雙面感光電路板9位置的一例示，該雙面感光電路板9亦可藉由其他裝置固定或調整位置，二製作靶標的發光單元2設置於該承載台5內且位於該雙面感光電路板9的下方，該製作靶標的發光單元2的數量可視實際需求而為二個以上，以增加對位的精度，二靶標影像擷取單元3設置於該曝光裝置6內且位於該雙面感光電路板9的上方，該靶標影像擷取單元3的數量與該製作靶標的發光單元2的數量相同。

當該曝光裝置6經由該對位處理單元1的控制而對該雙面感光電路板9一面的光阻劑層93曝光時，該等製作靶標的發光單元2亦會經由該對位處理單元1或其他的手動控制裝置(圖未示)的控制而對該雙面感光電路板9另一面的光阻劑層93發光以使該雙面感光電路板9的表面形成二靶標94，該等靶標94的形狀分別可為圓形或其他幾何形狀，接著再以人工或翻轉機構翻轉該雙面感光電路板9以使二靶標94朝上面向二靶標影像擷取單元3，之後該對位處理單元1控制該曝光裝置6及該等靶標影像擷取單元3移動，或該對位處理單元1控制該承載台5移動，以使該等靶標影像擷取單元3可分別正對該等靶標94，例如該等靶標影像擷取單元3的影像擷取中心(儲存於該對位處理單元1的該等靶標位置11)分別正對該等靶標94的形心，接著該曝光裝置6再經由該對位處理單元1的控制而對該雙面感光電路板9另一面的光阻劑層93曝光，以完成該雙面感光電路板9的雙面曝光。由於該等製作靶標的發光單元 2(儲存於該對位處理單元1的該等靶標位置11)、該等靶標影像擷取單元3與該曝光裝置6內的電路圖像預設有相對位置關係，因此當該等靶標影像擷取單元3的影像擷取中心(儲存於該對位處理單元1的該等靶標位置11)分別正對該等靶標94的形心再進行曝光時，該雙面感光電路板9兩面的電路便可形成正確的電路位置。另外，該靶標影像擷取單元3影像擷取範圍內的任一點皆可做為該靶標位置11，該靶標94上的任一點皆可做為該靶標位置11(例如多邊形靶標的端角)，只要該靶標影像擷取單元3影像擷取的位置與該靶標94上的位置一開始即預設。如上所述，本創作的製作靶標的發光單元2、靶標影像擷取單元3及對位處理單元1的結構簡單，因此便於設置於曝光機8，且藉由上述的對位方式可提高在雙面感光電路板9上製作電路的便利性，進而提高雙面電路位置的精度。

請再參考第3圖至第8圖，如圖所示，上述對位裝置更包含一靶標影像顯示單元4，其設置於該曝光機8，該靶標影像顯示單元4電連接該對位處理單元1。該靶標影像顯示單元4上可顯示儲存於該對位處理單元1的該等靶標位置11，且操作者可藉由該靶標影像顯示單元4監看該等靶標影像擷取單元3的影像擷取中心(儲存於該對位處理單元1的該等靶標位置11)分別正對該等靶標94的形心的過程。另外，當該雙面感光電路板9被翻轉以使二靶標94朝上面向二靶標影像擷取單元3後，操作者亦可不需藉由該對位處理單元1控制該曝光裝置6及該等靶標影像擷取單 元3移動，或控制該承載台5移動，而是操作者改以手動以移動調整該曝光裝置6及該等靶標影像擷取單元3的位置，或移動調整該承載台5的位置，並藉由監看該靶標影像顯示單元4以使該等靶標影像擷取單元3的影像擷取中心(儲存於該對位處理單元1的該等靶標位置11)分別正對該等靶標94的形心，同時可藉由該對位處理單元1的聲音或圖像提示以確定對位的正確性。

請再參考第6圖，如圖所示，上述對位裝置的該等製作靶標的發光單元2的發光端21與該雙面感光電路板9的表面(光阻劑層93)接觸，其可使該靶標94的形狀即為該製作靶標的發光單元2的發光端21的形狀，以便於在靶標94上設定位置。

第9圖為本創作具體實施例發光端與雙面感光電路板表面相隔的示意圖，如圖所示，上述對位裝置的該等製作靶標的發光單元2的發光端21亦可視實際需求而與該雙面感光電路板9的表面(光阻劑層93)相隔，而相隔的通道52的截面形狀可與該製作靶標的發光單元2的發光端21的形狀相同，如此同樣亦可使該靶標94的形狀即為該製作靶標的發光單元2的發光端21的形狀，以便於在靶標94上設定位置。

上述對位裝置的該等製作靶標的發光單元2分別可為一紫外線發光二極體，或其他可使該等光阻劑層93曝光的發光體。

本創作在上文中已以較佳實施例揭露，然熟習本項技 術者應理解的是，該實施例僅用於描繪本創作，而不應解讀為限制本創作之範圍。應注意的是，舉凡與該實施例等效之變化與置換，均應設為涵蓋於本創作之範圍內。因此，本創作之保護範圍當以下文之申請專利範圍所界定者為準。

1‧‧‧對位處理單元

11‧‧‧靶標位置

2‧‧‧製作靶標的發光單元

21‧‧‧發光端

3‧‧‧靶標影像擷取單元

31‧‧‧影像擷取端

4‧‧‧靶標影像顯示單元

5‧‧‧承載台

51‧‧‧L型倚靠邊條

52‧‧‧通道

6‧‧‧曝光裝置

8‧‧‧曝光機

9‧‧‧雙面感光電路板

91‧‧‧基板

92‧‧‧導電層

93‧‧‧光阻劑層

94‧‧‧靶標

第1圖為本創作具體實施例雙面感光電路板的分解示意圖。

第2圖為本創作具體實施例雙面感光電路板的組合示意圖。

第3圖為本創作具體實施例應用的示意圖一。

第4圖為本創作具體實施例應用的示意圖二。

第5圖為本創作具體實施例應用的示意圖三。

第6圖為第5圖的後側示意圖。

第7圖為本創作具體實施例靶標的示意圖。

第8圖為本創作具體實施例對位的示意圖。

第9圖為本創作具體實施例發光端與雙面感光電路板表面相隔的示意圖。

1‧‧‧對位處理單元

11‧‧‧靶標位置

2‧‧‧製作靶標的發光單元

21‧‧‧發光端

3‧‧‧靶標影像擷取單元

31‧‧‧影像擷取端

4‧‧‧靶標影像顯示單元

5‧‧‧承載台

51‧‧‧L型倚靠邊條

6‧‧‧曝光裝置

8‧‧‧曝光機

9‧‧‧雙面感光電路板

Claims (7)

1. 一種曝光機的雙面感光電路板的對位裝置，其包含：一對位處理單元，其設置於該曝光機，該對位處理單元儲存複數靶標位置；複數製作靶標的發光單元，其設置於該曝光機並與該曝光機的一曝光裝置相對，該等製作靶標的發光單元的發光端朝向該雙面感光電路板的表面；以及複數靶標影像擷取單元，其電連接該對位處理單元，該等靶標影像擷取單元設置於該曝光機並與該曝光裝置位於同一側，該等靶標影像擷取單元的影像擷取端朝向該雙面感光電路板的另一表面。
2. 如申請專利範圍第1項所述之曝光機的雙面感光電路板的對位裝置，更包含一靶標影像顯示單元，其設置於該曝光機，該靶標影像顯示單元電連接該對位處理單元。
3. 如申請專利範圍第1項所述之曝光機的雙面感光電路板的對位裝置，其中，該等製作靶標的發光單元的發光端與該雙面感光電路板的表面接觸。
4. 如申請專利範圍第2項所述之曝光機的雙面感光電路板的對位裝置，其中，該等製作靶標的發光單元的發光端與該雙面感光電路板的表面接觸。
5. 如申請專利範圍第1項所述之曝光機的雙面感光電路板的對位裝置，其中，該等製作靶標的發光單元的發光端與該雙面感光電路板的表面相隔。
6. 如申請專利範圍第2項所述之曝光機的雙面感光電路板的 對位裝置，其中，該等製作靶標的發光單元的發光端與該雙面感光電路板的表面相隔。
7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之曝光機的雙面感光電路板的對位裝置，其中，該等製作靶標的發光單元分別為一紫外線發光二極體。