TWM444802U - 鍋具結構改良 - Google Patents

Description

鍋具結構改良

    本創作關於一種鍋具結構改良，主要指一種可防止鍋體底面刮傷，並可具易清洗不沾鍋功效。

    習知鍋具具有各種不同型式，就煎炒鍋而言，主要具鍋體及把手，並為便於清洗，目前具有不沾鍋之設計，其結構主要係於鍋體之底面進行抗沾黏表面處理，並可具不易沾黏效果，使得鍋體烹調食物後鍋體底面不易沾附食材、油污，並可具易清洗功效，而該習知不沾鍋常於鍋體底面以鐵氟龍表面處理，並該鐵氟龍形成抗沾黏表面，並可具不易沾黏功效。

    然而前述結構當使用者令鍋鏟接觸鍋體底面烹調時將摩擦該抗沾黏表面，造成使用一段時間後該抗沾黏表面大面積被剝落而降低不沾黏功效，又該鍋體底面亦因刮痕而造成質感不佳不美觀缺失。

    本創作之目的在提供一種可減少鍋體之抗沾黏表面磨損，並可具較佳抗沾黏不沾鍋功效。

    本創作包括一鍋體、一把手，並該把手設於鍋體側方，又該鍋體具內凹容室，並容室具底面，並該底面可為平面或凹弧面，又於底面上設置數凸緣及凹部，並該凸緣與凹部可設計成連續波浪形、數圓形排列、數格狀排列、數多角型弧面排列、數方形排列形體，藉此本創作於烹調時鍋鏟只會接觸凸緣頂面，可防止容室底面大面積與鍋鏟接觸，可具較佳不沾黏功效，並可提升使用壽命，又該容室之凸緣、凹部可增加底面之面積，使得由鍋體底面加熱時可增加加熱面積，並可具較佳加熱效率及節能功效。

    請參閱第一~三圖，本創作包括一鍋體1、一把手2，並該把手2設於鍋體1側方，又該鍋體1具內凹容室11，並容室11具底面12，並本實施例之底面12形成平底鍋形態，又於底面12上設置數凸緣13及凹部14，並該凸緣13與凹部14設計成連續波浪形體排列。

    本創作於烹調時鍋鏟(圖中未標示)只會接觸凸緣13頂面，可防止容室11底面12大面積與鍋鏟接觸，可具較佳不沾黏功效，並可提升使用壽命，又該容室11之凸緣13、凹部14可增加底面12之面積，使得由鍋體1底面12加熱時可增加加熱面積，並可具較佳加熱效率及節能功效。

    請參閱第四~七圖，本創作第二、三、四、五實施例底面12上之凸緣13、凹部14可分別設計成圓形排列、或格狀排列、多角型弧面排列或方形排列形體，並使本創作可具更佳設計質感。

    請參閱第八圖，本創作之鍋具亦可為炒菜鍋形態，並該鍋具底面32為凹弧形，並可於炒菜鍋鍋體3之容室31底面32上設計凸緣33、凹部34並可具本創作訴求功效。

    是以由以上所述，本創作確可較習知鍋具具更佳不沾黏及較佳質感實用功效，並前述實施例為本創作例示，並非本創作限制，凡依據本創作精神所為之等效改變亦應屬於本創作範疇內。

1‧‧‧鍋體
11‧‧‧容室
12‧‧‧底面

13‧‧‧凸緣
14‧‧‧凹部
2‧‧‧把手

3‧‧‧鍋體
31‧‧‧容室
32‧‧‧底面

33‧‧‧凸緣
34‧‧‧凹部

第一圖係本創作之第一實施例立體圖，顯示平底鍋狀態。

第二圖係本創作之第一實施例俯視圖，顯示平底鍋狀態。

第三圖係本創作之第一實施例剖視圖，顯示平底鍋狀態。

第四圖係本創作之第二實施例底面部分放大圖。

第五圖係本創作之第三實施例底面部分放大圖。

第六圖係本創作之第四實施例底面部分放大圖。

第七圖係本創作之第五實施例底面部分放大圖。

第八圖係本創作實施於炒菜鍋剖視圖。

1‧‧‧鍋體

11‧‧‧容室

12‧‧‧底面

2‧‧‧把手

Claims (7)

1. 一種鍋具結構改良，包括一鍋體、一把手，並該把手設於鍋體側方，又該鍋體具內凹容室，並容室具底面，又於底面上設置數凸緣及凹部。
2. 如申請專利範圍第1項所述之鍋具結構改良，其中該容室底面可為平面或凹弧面。
3. 如申請專利範圍第2項所述之鍋具結構改良，其中該凸緣與凹部為連續波浪形排列。
4. 如申請專利範圍第2項所述之鍋具結構改良，其中該凸緣與凹部為數圓形排列。
5. 如申請專利範圍第2項所述之鍋具結構改良，其中該凸緣與凹部為數格狀排列。
6. 如申請專利範圍第2項所述之鍋具結構改良，其中該凸緣與凹部為數多角形弧面排列。
7. 如申請專利範圍第2項所述之鍋具結構改良，其中該凸緣與凹槽為數方形排列。