五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作係有關一種曝光機之對準定位調整裝置，特別是指 一種具有三個工件承座之曝光機之對準定位調整裝置，其兼具 調整快速及支撐穩固並有效減少誤差等優點及功效。 【先前技術】 如第七圖所示，習知曝光機定位裝置90係具有一工件承 座93，其具有一固定座91與一活動座92，該活動座92係用 以固定一工件94 ;利用該固定座91與該活動座92間之半球 凹部及半姑部來朗賴滑動，即可使騎驗92達到調 整，進而達到該工件94所需之水平角度。 但習知曝光败位裝置9G僅設有一工件承座93，該活動 座92大體上對應該工件94之中央位置，當該工件94面積較 大時’只藉由中央位置的工件承座93來支撐調整其穩定性 产為不佳在調整上谷易產生偏差進而無法達到戶斤需之水平 角度。 因此，有必要研發新產品，以解決上述缺點及問題。 【新型内容】 本創作之目的在於提供一種曝光機之對準定位調整裝 置’其兼具難快速及支撐_並纽減少誤差等優點及功 效曰用以解糾知技術敎性不佳且在調整上容易產生偏差等 本創作解決上述問題之技術手段係提供一種曝光機之對 準定位調整襄置，其包括： 一機台； 二個工件承座係設於該機台之同一平面上，且非直線排 列； 每一工件承座至少具有一伸縮裝置、一固定座、一活動座 及活動座固定裝置；該伸縮裝置係介於該機台與該固定座 間’麵定座係具有一半球凹部，該活動座係設有一與該半球 凹部相對應之半球凸部，使該半球凹部無半球凸部相配合而 可任意方向微量傾斜；該活動座係用以固定-工件；而該活動 座固定褒置係可固定該活動座； —光罩承座，其係用以固定一光罩； 一曝光頭，其係用以發出預定光線穿透該光罩而使該工件 曝光。 本創作之上述目的與優點，不難從下述所選用實施例之詳 細說明與附圖中，獲得深入瞭解。 茲以下列實施例並配合圖式詳細說明本創作於後·· 【實施方式】 如第-及第二圖所示，本創作係為一種曝光機之對準定位 調整裝置，其包括··-機台1()、三個工作承座2()、_光罩承 座30及一曝光頭4〇。 三個工件承座2G係設於該機台1G之同—平面上，且非直 線排列。 每一工件承座20至少具有一伸縮裝置21、一固定座22、 一活動座23及一活動座固定裝置24 ;該伸縮裝置21係介於 該機台10與該固定座22間，該固定座22係具有一半球凹部 221，該活動座23係設有一與該半球凹部221相對應之半球凸 部231，使該半球凹部221與該半球凸部231相配合而可任意 方向微量傾斜；該活触23侧糊定_辑7G ;而該活動 座固定裝置24係可固定該活動座23。 關於該光罩承座30，其係用以固定一光罩31。 而該曝光頭40係用以發出預定光線41穿透該光罩31而 使該工件70曝光。 δ月參閱第二圖，在預先歸零校正的情況下，啟動該工作承 座2〇上之伸縮裝置2卜即可頂推該固定座22，該固定座22 透過該半球22卜獅該活動座U之半球凸部故，使該 :動座23將該工件％(例如：晶圓)移動至平行該光罩Μ之預 定曝光位置(啟動轉絲4()發丨—就规W，透過該光罩 31照射該工件7G㈣虹件70進轉光加工作業）。 △由第-® t可知’本創作之三個讀承座2G係設於該機 ° 之同一平面上，呈三角形排列(非直線排列），利用此三 ▲件承件20之調整，即可對該工件7〇進行不同方向之角度 调整’進而達到所需之水平角度。 關於本創作之卫件7G水平調整過程，係純下說明： 5 M439825 如第二圖所示，假設三個工件承座2〇係分別為一第一工 件承座20A、-第二工件承座2〇B及_第三工件承座2〇(：;當 由該第-方向X觀看時，該工件7〇之情形係如第四A圖所 示，該光罩31係傾斜一第一角度w，該工件7〇兩端與該光 罩31之距離分別為—第—高度m及—第二高度出；當由該 第二方向γ觀看時，該工件7G之情形係如第五A圖所示，該 光罩31係傾斜-第二角度5» 2,該工件7〇兩端與該光罩31之 距離分別為該第二高度H2及一第三高度H3。 如第四B及第五B圖所示，啟動該第一工作承座2〇A、 該第一工件承座20B及5玄第二工件承座2〇c上之伸縮裝置 2卜分別推頂各固定座22，使各活動座23在被推頂而使該工 件70朝該光罩31靠合之過程中，透過其半球凸部231在該固 定座22之半球凹部Π上進行“球面滑動”之滑動微調自 動將該工件7G罐至無光罩31可斜行貼靠的位置(即該 第工件承座20A及該第一工件承座20B之活動座23，由該 第一方向X觀看時係於該固定座22上傾斜一第一角度， 該第二工件承座20B及該第三工件承座20C之活動座23，由 該第二方向γ觀看時係於該固定座22上傾斜一第二角度0 2 ;此時，該工件70與該光罩31已達到水平，即可利用該活 動座固定裝置24將該活動座23固定；該活動座_裝置24 係可以磁性定位或是直接卡止等方式來固定該活動座23)。 如第四c及五c圖所示，控制該第一工作承座2〇A、該 6 M439825 第一工件承座2GB及該第三1件承座观上之伸縮裂置^退 回-預定之微量距離(例如：3〇微米、6〇微米或其它距離；此 時該工件7G細斜⑽，但與賊罩31保持平行），使該工 件70與該光罩31平行的保持—預定間隙(即—第四高度叫 再啟動該絲頭4G _1件7G進行曝光加工作業。 更詳細的說’上述之實施例中，該伸縮裝置21係由一馬
達2U、一連結器212及一滾珠螺桿2】3所組成，在實務上， 該伸縮裝置21亦可躺其它不同設計而達到伸縮之目的，並 非侷限於實施例中之結構。 另外，本創作之用以承載該工件％之活動座Μ，該半球 凸部23i係承載於該固定座22之半球凹部221上；當該伸縮 裝置21推_工件7〇靠合_光罩31 _財，不論該活 座23(也可以說是工件70)與該光罩31間如何的傾斜可
以藉由該半球凸部231與該半球凹部221間產± ‘‘球面滑動” 的滑動微調’使該活動座23可以推頂該工件7G靠合於該光罩 3卜在微調完錢，岐傾斜的活動座23，再啟動該伸縮震 置21將該工件7〇移動至適當曝光位置，即可進行曝光加 業。 由以上說明可知’本·_三個工絲座2()來承載該 工件70，不但在支樓上較為穩固，且可由該工件％之不同位 置進行調整，可有效減少其調整上的誤差；如第六騎示其 係本創作之調整方式簡單示意圖，本創作係利用—第一位置高 7 M439825 度hi卜一第二位置高度H12及一第三位置高度如之三點 位置高度調整，即可控制該第一方向水平角度心及該第二方 向水平角度ΘΥ，進而使該工件7〇達到所需之角度。 综上所述，本創作之優點及功效可歸納為： [1] 調整快速。本創作係、以活動座之半球凸部與固定座之 半球凹部械作“球面㈣，，，以婦工件與光罩間保持平 行，因是幾乎為360度之“球面滑動，，，故，不論該工件7〇 如何歪斜，都可以在接觸之短時間快速調整。 [2] 支擇穩固並有效減少誤差。習知曝光機定位裝置％只 藉由-個工件承座93來續碰，其穩定性較為不佳，在調 整上容易產生偏差；而本創作利用三個工件承座2〇來承載該 件70不但在支擇上較為穩固，且可針對該工件％之不同 位置進行調整，可有效減少調整上的誤差。 以上僅是藉由難實施例詳細制本_，對於該實施例 所做的任域單修改錢化，料麟摘叙精神與範圍。 由以上詳細說明，可使熟知本項技藝者明瞭本創作的確可 達成前述目的’實已符合專利法之規定，爰提出新型專利申請。 【圖式簡單說明】 第一圖係本創作之曝光機之對準定位調整裴置之示意圖 第二圖係本創作之局部剖視示意圖 第二圖係本創作之局部結構之示意圖 第四A圖係本創作之工件調整前之視角一之示意圖 8 第四β圖係本創作之工件離過程之視角—之示意圖 第四C _本_之碎輕後之視角—之示意圖 第五Α圖係本創作之工件調整前之視角二之示意圖 第五B圖係本創作之卫件調整過程之制二之示意圖 第五C圖係本創作之轉調整後之視角二之示意圖 第六圖係本_之難方賴單示· 〜 第七圖係習知曝光機定位裝置之示意圖 【主要元件符號說明】 10機台 20A第一工件承座 20C第二工件承座 211馬達 213滾珠螺桿 221半球凹部 231半球凸部 30光罩承座 40曝光頭 70工件 02第二角度 6>Y第二方向水平角度 Υ第二方向 Η2第二高度 20工件承座 20Β第二工件承座 21伸縮裝置 212連結器 22固定座 23活動座 24活動座固定裝置 31光罩 41預定光線 Θ1第一角度 0Χ第一方向水平角度 X第一方向 Η1第一高度 Η3第三高度 M439825 H4第四高度 91固定座 93工件承座 90習知曝光機定位裝置 92活動座 94工件