CN208283723U - 一种基底支撑机构以及一种曝光装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种基底支撑机构以及一种曝光装置，所述基底支撑机构包括一具有镂空部的基底支撑板和多个设于所述基底支撑板上的定位块，所述基底支撑板与多个所述定位块构成一容置空间，所述基底支撑板具有一支撑面以及一与所述支撑面相边的端面。所述曝光装置在对基底背面进行曝光时所述支撑面对基底起到稳固支撑的作用，而又由于所述端面的所述倾斜面的存在，使得所述端面阴影对基底的影响很小甚至忽略不计，从而使得基底背面整个图形区域曝光。另外，所述定位块具有一导向面，所述导向面对着所述镂空部且向所述支撑面中心倾斜，所述通过所述导向面可以使在放置过程中的基底能由于自身重力下滑而复位。

Description

一种基底支撑机构以及一种曝光装置

技术领域

本实用新型涉及光刻技术领域，特别涉及一种基底支撑机构以及一种曝光装置。

背景技术

图形化蓝宝石衬底，简称PSS(Patterned Sapphire Substrate)，也就是在蓝宝石衬底上生长干法刻蚀用掩膜，用标准的光刻工艺将掩膜刻出图形，利用ICP刻蚀技术刻蚀蓝宝石并去掉掩膜，再在其上生长GaN(氮化镓)材料，使GaN材料的纵向外延变为横向外延。制作工艺包括清洗、匀胶、烘烤、冷却、制作图形化基底、人工目检、刻蚀和自动检测等步骤。

在制作图形化衬底的步骤中，机械手需将正面曝光完成的基底放置在曝光装置中进行背面曝光，曝光装置中的支撑板用于支撑需要进行曝光的基底，由于机械手操作误差比较大，故整个曝光装置的稳定性严重影响到曝光的质量。支撑板常用定位点来限制基底的放置位置，对于基底而言，距离基底边缘2mm为无效区(无图形区)，为保证定位的相对准确性，在进行基底支撑时，支撑板的定位点需设在距基底边缘2mm范围内，这样使得定位点可调节范围比较小，故如何选择合适的定位点以实现对基底进行高精度曝光是我们需要解决的难题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种基底支撑机构以及一种曝光装置，以解决现有曝光装置无法对基底进行高精度曝光的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种基底支撑机构，所述基底支撑机构包括一基底支撑板和多个设于所述基底支撑板上的定位块，所述基底支撑板与多个所述定位块构成一容置空间；

所述基底支撑板具有一支撑面以及一与所述支撑面相连接的端面，所述支撑面呈圆环或圆弧形状并围绕所述镂空部，所述端面包括一倾斜面，所述倾斜面向远离所述支撑面中心的方向倾斜。

可选地，在所述的基底支撑机构中，所述支撑面的截面宽度为0.14mm～1.86mm。

可选地，在所述的基底支撑机构中，所述定位块具有一导向面，所述导向面对着所述镂空部且向所述支撑面中心倾斜。

可选地，在所述的基底支撑机构中，所述定位块个数为三个，三个所述定位块呈三角形形式排布。

可选地，在所述的基底支撑机构中，所述倾斜面直接与所述支撑面相连；或者，所述端面还包括一竖直面，所述竖直面与所述支撑面垂直相连，所述倾斜面通过所述竖直面与所述支撑面相连。

一种曝光装置，所述曝光装置包括：一曝光机构、一框架机构以及至少一如以上所述的基底支撑机构；

所述曝光机构和所述基底支撑机构均设置于所述框架机构内，并且所述基底支撑机构位于所述曝光机构上方。

可选地，在所述的曝光装置中，所述基底支撑机构的数量为多个，多个所述基底支撑机构的所述支撑面均呈圆弧形状且支撑面的大小不同，多个所述基底支撑机构之间按从小到大依次从上到下垂直布置，多个所述支撑面的开口朝同一方向。

可选地，在所述的曝光装置中，所述曝光机构包括：曝光光源和毛玻璃板，所述曝光光源位于所述毛玻璃板下方，所述基底支撑机构位于所述毛玻璃上方。

可选地，在所述的曝光装置中，所述曝光装置还包括一调平机构以及一安装底板，所述调平机构连接所述框架机构和所述安装底板并能够调整所述框架机构和所述安装底板之间的距离与倾斜。

可选地，在所述的曝光装置中，所述调平机构包括调平底板以及多个调平单元，多个所述调平单元呈一个或者多个三角形排布，所述调平单元穿过所述调平底板，所述框架机构固定在所述调平底板上方。

可选地，在所述的曝光装置中，所述调平机构通过所述固定螺钉固定在所述安装底板上，所述固定螺钉贯穿于所述调整螺栓套，所述球面垫片套设在所述固定螺钉的底部且位于所述安装底装的上方，所述锁紧螺母位于所述固定螺钉的顶端。

在本实用新型提供的基底支撑机构以及曝光装置中，所述基底支撑机构包括一具有镂空部的基底支撑板和多个设于所述基底支撑板上的定位块，所述基底支撑板与多个所述定位块构成一容置空间，所述基底支撑板具有一支撑面以及一与所述支撑面相边的端面，所述支撑面呈圆环或圆弧形状并围绕所述镂空部，所述端面包括倾斜面，所述倾斜面向远离所述支撑面中心的方向倾斜。所述曝光装置在对基底背面进行曝光时，基底的无效区位于所述支撑面上，所述支撑面对基底起到稳固支撑的作用，而又由于所述端面包括倾斜面，所述倾斜面向远离所述支撑面中心的方向倾斜，使得所述端面阴影对基底的影响很小甚至忽略不计，从而使得基底背面整个图形区域曝光。

进一步地，所述定位块具有一导向面，所述导向面对着所述镂空部且向所述支撑面中心倾斜，通过所述导向面可以使在放置过程中弹跳出的基底能由于自身重力下滑而复位，很大程度上减小了因机械手操作失误而使基底偏离所述支撑面的可能性，从而使得基底的放置具有限位性以及方向性。

附图说明

图1是本实用新型实施例的基底支撑机构图；

图2是本实用新型实施例的基底支撑机构剖面图；

图3是本实用新型实施例的一种端面示意图；

图4是本实用新型实施例的另一种端面示意图

图5是本实用新型实施例一曝光装置的结构图；

图6是本实用新型实施例一曝光装置的剖面图；

图7是本实用新型实施例的调平机构剖面图；

图8是本实用新型实施例二曝光装置的结构图；

图9是本实用新型实施例二曝光装置的剖面图；

其中，1-基底支撑机构，2-曝光机构，3-框架机构，4-调平机构，5-安装底板，11-基底支撑板，12-定位块，111-镂空部，112-支撑面，113-端面，1131-倾斜面，1132-竖直面，121-导向面，21-毛玻璃板，22-曝光光源，41-调平底板，42-调平单元，421-固定螺钉，422-调整螺栓，423-锁紧螺母，424-球面垫片。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的基底支撑机构以及曝光装置进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实施例的目的。此外，附图所展示的结构往往是实际结构的一部分。特别的，各附图需要展示的侧重点不同，有时会采用不同的比例。

【实施例一】

请参考图1-图4，本实用新型提供一种基底支撑机构1，所述基底支撑机构包括一具有镂空部111的基底支撑板11和多个设于所述基底支撑板上的定位块12，所述基底支撑板11与多个所述定位块12构成一容置空间；所述基底支撑板11具有一支撑面112以及一与所述支撑面112相连的端面113，所述支撑面112位于水平方向上且呈圆环或圆弧形状围绕所述镂空部111，所述端面113包括一倾斜面1131，所述倾斜面1131向远离所述支撑面112中心的方向倾斜。

可选地，所述端面113可以以两种形式存在：(1)如图3所示，所述倾斜面1131直接与所述支撑面112相连；(2)如图4所示，所述端面113还包括一竖直面1132，所述竖直面1132与所述支撑面111垂直相连，所述倾斜面1131通过所述竖直面1132与所述支撑面113相连。当所述端面113以第(1)种形式存在时，可使所述端面对113光线半影区的影响最小，故本实施例优选第(1)种。

较佳地，如图1所示，本实施例中，所述定位块12具有一导向面121，所述导向面121对着所述镂空部111且向所述支撑面112中心倾斜(在此也即向所述镂空部111的中心倾斜)。优选地，所述定位块12个数为三个，三个所述定位块12呈三角形排布。当机械手将需要背面曝光的基底放在所述曝光装置的所述基底支撑板11上时，基底由于自身重力顺着所述定位块12的所述导向面121下滑直至基底的无效区位于所述支撑面112上，这样在很大程度上减小了因机械手操作失误而使基底偏离所述支撑面112的可能性，从而使得基底的放置具有限位性以及方向性。

特别地，如图2所标示出的，基底无效区为距离基底边缘2mm内的圆环区域，故所述支撑面112截面宽度可选范围为0mm～1.86mm，即支撑面112截面宽度为0％-93％的基底无效区尺寸，对应的光线半影区影响区在0.14mm～0.54mm之间，本实施例中所选支撑面112截面宽度为0mm～1.86mm，对应的实际半影区影响区为0.14mm～2mm,均小于或等于无效区的宽底2mm，由此可见，本实施例所选截面宽度均可使基底背面整个图形区域曝光。另外，可优选截面宽度在1mm或者1mm以上，这样可避免截面宽度过窄时基体从所述镂空部111掉下，从而以保证所述支撑面112对基底起到稳固支撑的作用。

请参考图5和图6，本实用新型还提供一种曝光装置，所述曝光装置包括：一曝光机构2、一框架机构3以及一如上所述的基底支撑机构1；所述曝光机构2和所述基底支撑机构1均设置于所述框架机构3内，并且所述基底支撑机构1位于所述曝光机构2上方。

较佳地，所述曝光机构2包括：毛玻璃板21和曝光光源22，所述曝光光源22位于所述毛玻璃板21下方，所述基底支撑机构1位于所述毛玻璃21上方。优选的，所述曝光光源22的中心与所述基底支撑机构1的支撑面的中心同轴，保证所述曝光光源22能照射到基底背面待曝光的全部位置。所述毛玻璃板21具有均光作用，通过所述毛玻璃板21，光线被均匀化，从而实现对基底背面均匀曝光。

优选地，本实施中的曝光装置还包括一调平机构4以及一安装底板5，所述调平机构3连接所述框架机构4和所述安装底板5并能够调整所述框架机构4和所述安装底板5之间的距离与倾斜。所述调平机构4包括调平底板41以及多个调平单元42，多个所述调平单元42呈一个或者多个三角形式排布，所述调平单元42穿过所述调平底板41，所述框架机构3固定在所述调平底板41上方。所述框架机构3、所述调平单元42、所述调平底板41以及所述安装底板5的位置关系可参考图5。进一步地，如图7所示，所述调平单元42包括固定螺钉421、调整螺栓422、锁紧螺母423以及球面垫片424，所述固定螺钉421贯穿所述调整螺栓422，所述调平机构4通过所述固定螺钉421固定在所述安装底板5上，所述球面垫片424套设在所述固定螺钉421的底部且位于所述安装底板5的上方，所述锁紧螺母423位于所述固定螺钉421的顶端。固定螺钉421、调整螺栓422、锁紧螺母423以及球面垫片424的具体位置关系可参考图6。通过所述调平机构4可使所述基底支撑板11尽可能水平，从而进一步保证曝光质量。具体地，当需要调平时，先拧松锁紧螺母422，再拧松固定螺钉421，再通过旋转调整螺栓43调整调平底板41的位置，当位置确定后，再依次拧紧固定螺钉421以及锁紧螺母422。所述多个调平单元42的操作方式相同，通过至少一个呈三角形式排布的调平单元的组合使得所述调平底板水平。

【实施例二】

与实施例一不同的是，所述基底支撑机构1的数量为多个，多个所述基底支撑机构的所述支撑面112均呈圆弧形状且支撑面112的大小不同(相应的，所述镂空部的大小也不同)，多个所述基底支撑机构1之间按从小到大依次从上到下垂直布置，多个所述支撑面112的开口朝同一方向，如图8和图9所示。本实施例优选所述基底支撑机构11的个数为3个，从上到下，分别用于支撑2寸、4寸以及6寸基底，多个基底支撑机构1之间没有可动机构，兼容方便可靠。由于多个所述支撑机构1垂直布置，所述支撑面112之间存在一定的高度差，通过所述高度差以及所述支撑面112的开口可将基底放在对应的基底支撑机构1上进行曝光。

如前所述，现有曝光装置无法对基底进行高精度曝光，故本实用新型提供了一种基底支撑机构以及一种曝光装置，所述基底支撑机构包括一具有镂空部的基底支撑板和多个设于所述基底支撑板上的定位块，所述基底支撑板与多个所述定位块构成一容置空间，所述基底支撑板具有一支撑面以及一与所述支撑面相边的端面，所述支撑面呈圆环或圆弧形状并围绕所述镂空部，所述端面包括倾斜面，所述倾斜面向远离所述支撑面中心的方向倾斜。所述曝光装置在对基底背面进行曝光时，基底的无效区位于所述支撑面上，所述支撑面对基底起到稳固支撑的作用，而又由于所述端面的所述倾斜面的存在，使得所述端面阴影对基底的影响很小甚至忽略不计，从而使得基底背面整个图形区域曝光。

进一步地，所述定位块具有一导向面，所述导向面对着所述镂空部且向所述支撑面中心倾斜，所述通过所述导向面可以使在放置过程中弹跳出的基底能由于自身重力下滑而复位，很大程度上减小了因机械手操作失误而使基底偏离所述支撑面的可能性，从而使得基底的放置具有限位性以及方向性。

再进一步地，所述曝光装置还包括一调平机构，通过所述调平机构使所述基底支撑板尽可能水平，进一步保证曝光质量。特别地，多个基底支撑机构垂直分层布置，可以对不同规格的基底分别曝光，互不干涉。

上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (11)

1.一种基底支撑机构，其特征在于，所述基底支撑机构包括一具有镂空部的基底支撑板和多个设于所述基底支撑板上的定位块，所述基底支撑板与多个所述定位块构成一容置空间；

所述基底支撑板具有一支撑面以及一与所述支撑面相连的端面，所述支撑面呈圆环或圆弧形状并围绕所述镂空部，所述端面包括一倾斜面，所述倾斜面向远离所述支撑面中心的方向倾斜。

2.如权利要求1所述的基底支撑机构，其特征在于，所述支撑面的截面宽度为0mm～1.86mm。

3.如权利要求1所述的基底支撑机构，其特征在于，所述定位块具有一导向面，所述导向面对着所述镂空部且向所述支撑面中心倾斜。

4.如权利要求1所述的基底支撑机构，其特征在于，所述定位块个数为三个，三个所述定位块呈三角形排布。

5.如权利要求1所述的基底支撑机构，其特征在于，所述倾斜面直接与所述支撑面相连；或者，所述端面还包括一竖直面，所述竖直面与所述支撑面垂直相连，所述倾斜面通过所述竖直面与所述支撑面相连。

6.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包括：一曝光机构、一框架机构以及至少一如权利要求1～5中任一项所述的基底支撑机构；

所述曝光机构和所述基底支撑机构均设置于所述框架机构内，并且所述基底支撑机构位于所述曝光机构上方。

7.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述基底支撑机构的数量为多个，多个所述基底支撑机构的所述支撑面均呈圆弧形状且支撑面的大小不同，多个所述基底支撑机构之间按从小到大依次从上到下垂直布置，多个所述支撑面的开口朝同一方向。

8.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光机构包括：曝光光源和毛玻璃板，所述曝光光源位于所述毛玻璃板下方，所述基底支撑机构位于所述毛玻璃上方。

9.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括一调平机构以及一安装底板，所述框架机构固定在所述安装底板上，所述调平机构连接所述框架机构和所述安装底板并能够调整所述框架机构和所述安装底板之间的距离与倾斜。

10.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，所述调平机构包括调平底板以及多个调平单元，多个所述调平单元呈一个或者多个三角形排布，所述调平单元穿过所述调平底板，所述框架机构固定在所述调平底板上方。

11.如权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，所述调平单元包括固定螺钉、调整螺栓、锁紧螺母以及球面垫片，所述固定螺钉贯穿于所述调整螺栓，所述调平机构通过所述固定螺钉固定在所述安装底板上，所述球面垫片套设在所述固定螺钉的底部且位于所述安装底板的上方，所述锁紧螺母位于所述固定螺钉的顶端。