TWM426456U - Plasma device - Google Patents

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TWM426456U
TWM426456U TW100221078U TW100221078U TWM426456U TW M426456 U TWM426456 U TW M426456U TW 100221078 U TW100221078 U TW 100221078U TW 100221078 U TW100221078 U TW 100221078U TW M426456 U TWM426456 U TW M426456U
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Yih-Ming Shyu
Li-Min Wang
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Creating Nano Technologies Inc
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Description

M426456 4 . 五、新型說明: 【新型所屬之技術領域】 本新型是有關於一種電漿裝置,且特別是有關於一種 大氣電漿裝置。 【先前技術】 隨著電漿技術的發展,電漿中的大氣電弧電漿已廣泛 地應用在各領域的表面處理上。舉例而言,可利用大氣電 • 弧電漿對待處理物件進行表面處理,藉此提升在此物件表 面上進行之黏著、印刷、封裝或貼晶等製程的可靠度。 然而,受限於電弧負電阻的特性,這類電弧式的大氣 電漿的處理範圍有限,而無法同時產生大面積的電弧放 電。雖然,電弧式大氣電漿的放電密度較高,使得此電漿 技術所產生的活性物質較多,而可大大地提升電漿處理之 速度,僅需短時間的掃描即可完成掃描區域的表面處理。 但是,無法產生大面積電弧放電的特性,仍將導致此類電 • 弧式大氣電漿在應用上受到限制。 為了提高電弧式大氣電漿的應用性,美國專利公告編 號第6262386號提出了 一種電漿裝置,其裝置中的電弧式 電漿喷嘴可旋轉。在此電漿裝置設計中,噴嘴相對於内電 極之軸心歪斜一角度,且喷嘴與外電極繞此軸心進行圓周 式旋轉。藉由這樣的設計,電漿在噴出時,喷嘴的旋轉可 使電漿喷射面積增大。此時,可藉由移動被處理物的方式, 來達到大面積處理的效果。 然而,藉由旋轉喷嘴來擴大電漿處理之有效面積的同 4 M426456 _ 時,必須要提供此電漿裝置更大的功率,才能產生所需之 電漿。但高功率的施加,會使得棒狀之内電極因電漿集中 在單一點上而受損。 【新型内容】 因此,本新型之一態樣就是在提供一種電漿裝置,其 内電極與外電極均呈管狀結構,因此可避免電弧集中於單 一點,而可避免損壞電極,進而可有效延長電極壽命。 φ 本新型之另一態樣是在提供一種電漿裝置,其具有可 繞外殼旋轉之外電極,因而可將電漿喷射由點狀擴展成線 狀。如此一來,可擴大電漿裝置之電漿喷射面積,因此電 漿裝置可提供大面積處理效果,有助於縮短電將處理的時 間。 本新型之又一態樣是在提供一種電漿裝置,其管狀内 電極與外殼之絕緣内襯之間具有氣體通道,因此可利用工 作氣體在此氣體通道的流動來冷卻管狀内電極,而可有效 φ 降低管狀内電極的工作溫度,進而可有效延長管狀内電極 的使用壽命。 根據本新型之上述目的,提出一種電漿裝置。此電漿 裝置包含一外殼、一管狀内電極、一第一旋流產生器、一 管狀外電極以及一噴嘴。外殼具有第一腔室,且此第一腔 室之側面覆蓋有一絕緣内襯。管狀内電極設於第一腔室 中,且具有一第二腔室。第一漩流產生器與前述之管狀内 電極接合。其中,此第一漩流產生器包含至少一第一進氣 口,且此至少一第一進氣口適用以將第一腔室内之工作氣 5 M426456 . 依據本新型之再一實施例,上述之電聚裝置更包含一 傳動裝置設於管狀外電極之外側面上,以帶動管狀外電極 旋轉。 依據本新型之再一實施例,上述之管狀内電極係高壓 端,且管狀外電極為接地端。 依據本新型之再一實施例,上述之電漿裝置更包含一 非直流電源與管狀内電極和外殼電性連接。 • 【實施方式】 請參照第1圖,其係繪示依照本新型之一實施方式的 一種電漿裝置之剖面示意圖。在本實施方式中,電漿裝置 100係一種電弧式大氣電漿裝置。電漿裝置100主要包含 外殼102、管狀内電極110、管狀外電極128、喷嘴132以 及至少一旋流產生器,例如旋流產生器114與120。 在第1圖所示之實施例中,電漿裝置100包含二個漩 流產生器114與120。然而,在其他實施例中,本新型之 • 電漿裝置100可僅包含單一個旋流產生器,例如僅包含漩 流產生器114,或者僅包含漩流產生器120。 外殼102可由導電材料所組成。在一實施例中,外殼 102之材料可為金屬或不鏽鋼。外殼102為一管狀結構, 而具有腔室104。外殼102之底部124接合在腔室104之 底面118的下方。如第1圖所示,底部124係外殼102之 縮減部位,因此底部124之腔室142的内徑較上方之腔室 104的内徑小。外殼102之腔室104的側面106上覆蓋有 一絕緣内襯108。在一實施例中,此絕緣内襯108之材料 7 DO n:=二r的部分146可由絕緣材料所組 一牛+电隔離杈流產生器120與管狀内電極11〇,進 120%性隔離管狀内電極U〇與外殼1〇2。在旋流產生器 圖所由絕緣材料所構成的部分設置的位置並不限於第1 ^不,絕緣材料部分在漩流產生器12〇的設置位置口要 :電性絕緣管狀内電極11G與外殼1G2即可。在一實ς例 丄構成隔離旋流產生器no之絕緣材料可為聚醚醚酮。 方面,旋流產生器114同樣可由金屬與絕緣材料所構 成,但璇流產生器114之材料較佳係採用金屬。 竣流產生器114包含一或多個進氣口 116,例如二個、 一個、四個或更多進氣口。這些進氣口 116可均勻地排列 在漩流產生器114中,且每個進氣口 116可連通外殼1〇2 之腔室104與管狀内電極110之腔室112,以利將通入腔室 104内之工作氣體158導入管狀内電極110之腔室112内。 在一實施例中’每個進氣口 116之進氣路線可設計成外切 旋流產生器114之内側面,以使工作氣體158在進入腔室 112前先受到進氣口 116的導引,而以旋流形式進入腔室 112。 同樣地,漩流產生器120亦可包含一或多個進氣口 122 ’例如二個、三個、四個或更多進氣口。這些進氣口 122可均勻地排列在旋流產生器12〇中,且每個進氣口 122 同樣玎連通外殼102之腔室1〇4與管狀内電極110之腔室 112, β利將通入腔室内之工作氣體158導入管狀内電 β π〇之腔室112、以及下方之管狀外電極128的腔室130 _«。在/實施例中,每個進氣口 122之進氣路線可設計成 内 ^ M426456 外切旋流產生if 120之内侧面,以使工作氣體158在進入 腔室112與130前先受到進氣口 122的導引,巾以旋流形 式進入腔室112與130。 管狀外電極128透過軸承126而接合在外殼1〇2之底 部124的外側面。藉由此軸承126的連接,管狀外電極128
可繞著外殼102之底部124旋轉。在一實施例中,電漿裝 置100可根據實際應用需求,而選擇性地包含傳動裝置 150。傳動裝置150可例如為皮帶輪或齒輪等。如第i圖所 示’傳動裝置15G設置在鄰近於軸承126之管狀外電極128 的外側面上’以帶動管狀外電極m相對於外殼⑽做圓 周式旋轉。在-些例子中,可利用驅動裝£ 154,例如馬 達,來驅動傳動件152,再透過傳動件152來帶動與其接 合之傳動裝置150,進而帶動管狀外電極丨28旋轉。 管狀外電極128因其結構為管狀而同樣具有腔室 130。此腔室Π0可經由外殼1〇2之底部124的腔室142、 和旋流產生器120’而與上方之管狀内電極11〇的腔室
連通。喷嘴132以非軸承方式而固定在管狀外電極之 底部’亦即喷们32並不能相對於管狀外電極128而 然,噴嘴132可透過其所接合之管狀外電極128、以及 承126,而相對於外殼102旋轉。嘴嘴132係以歪斜 設置在管狀外電極⑶下方,因此噴嘴出與管狀: 128之軸心136之間具有—夾角^。在—些例子中 0大於0度,且小於90度。轴承126之材料可為金 此管狀外電極128與喷嘴的之電位可透過 : 遞至外殼102。 6而傳 M426456 在一實施例中,管狀内電極110、管狀外電極128與 喷嘴132為同軸心。亦即,喷嘴132與管狀外電極128之 腔室130接合之開口 156的軸心與管狀内電極110和管狀 外電極128之軸心相同。在另一實施例中,管狀内電極 110、管狀外電極128與喷嘴132為偏軸心。舉例而言,管 狀内電極110與管狀外電極128的軸心不同,但可與喷嘴 132之開口 156的轴心相同;或者喷嘴132之開口 156的 軸心與管狀外電極128和管狀内電極110的軸心不同;或 者管狀内電極110、管狀外電極128、與噴嘴132之開口 156的軸心均不相同。 在一實施例中,如第1圖所示,電漿裝置100可進一 步包含非直流電源,例如交流電源13 8。其中,此交流電 源138與管狀内電極110和外殼102電性連接。如此,可 利用交流電源138於管狀内電極110與外殼102上施加交 流電。其中,管狀内電極110為高壓端,而外殼102相對 低壓端或接地端。操作電漿裝置100時,先提供所需之工 作氣體158,並將工作氣體158通入外殼102之腔室104 内。工作氣體158會順著管狀内電極110與絕緣内襯108 之間的氣體通道148而向下流動至漩流產生器114與120。 工作氣體158接著從漩流產生器114之進氣口 116、與漩流 產生器120之進氣口 122,以漩流方式進入管狀内電極110 之腔室112中。 工作氣體158從漩流產生器120而以漩流方式進入腔 室112中後,會分別沿著上方管狀内電極110之内側面、 以及下方之外殼102之底部124的内側面與管狀外電極128 的内側面,朝上方與下方流動。 進入腔室112、叱與130的工作氣"體 1生器114與120 此時,管狀内電極110斑 58形成氣流140。 產生電弧⑽,“60、可將旋卜:二8 =:二 使工作氣體158產生活化反應 乳机14〇離子化’而 方式中’電弧160與電聚均^管=成電漿。在本實施 極128内產生。工作氣體158所甩極11〇與管狀外電 狀内電極110與管狀外電極128 "成之旋轉氣流會推動管 電弧弧根繞著管狀内電極11() 形成之電弧弧根,使 之腔室130做圓周運動。與管狀外電極128 132’而將由工作氣體轉換成“二:卜電極128與喷嘴 中導引出,以對待處理物件進行電y處理4。自電漿裝置100 由上述之實施方式可知,本新; 之内電極與外電極均呈管狀結槿,m 優點為電漿裝置 單-點,而牙避免損壞電極,進,可避免電弧集中於 由上述之實施方式可知,電極壽命。 置具有可繞外殼旋轉之外電極,因:優點為電漿裝 擴展成線狀,進而可擴大電料射由點狀· 擴展成绿狀 ,裴置之電漿喷 電聚裝置作供大面積處理效果,有助於_電 時間。 由上述之實施方式可知,太報 置之管狀内電極與外殼之絕緣内襯二== 此可利管m料道的㈣來冷卻管狀内電 ;二可二使用壽f作溫度,可有效延 M426456 雖然本新型已以實施方式揭露如上,然其並非用以限 定本新型,任何在此技術領域中具有通常知識者,在不脫 離本新型之精神和範圍内,當可作各種之更動與潤飾,因 此本新型之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為 準。 【圖式簡單說明】 為讓本新型之上述和其他目的、特徵、優點與實施例 φ 能更明顯易懂,所附圖式之說明如下: 第1圖係繪示依照本新型之一實施方式的一種電漿裝 置之剖面示意圖。 【主要元件符號說明】 100 :電漿裝置 102 : 外殼 104 :腔室 106 : 侧面 108 :絕緣内襯 110 : 管狀内電極 112 :腔室 114 : 旋流產生器 116 :進氣口 118 : 底面 120 :漩流產生器 122 : 進氣口 124 :底部 126 : 軸承 128 :管狀外電極 130 : 腔室 132 :喷嘴 134 : 電漿焰 13 6 :軸心 138 : 交流電源 140 :氣流 142 : 腔室 144 :開口 146 : 部分 13 M426456 148 :氣體通道 152 :傳動件 156 :開口 160 :電弧 150 :傳動裝置 154 :驅動裝置 158 :工作氣體 0 :夾角
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Claims (1)

  1. M426456 2012年2月9曰修正替換頁 六、申請專利範園: L 一種電漿裝置,包含· 一外殼,具有一第一腔室,其尹該第一腔室之一側面 覆蓋有一絕緣内觀; 一官狀内電極,設於該第一腔室令,且具有一第二腔 室; 一第一漩流產生器,與該管狀内電極接合,其中該第 一旋流產±器包含至少—第—進氣口,縣少—第一進氣 口適用以將該第一腔室内之一工作氣體導入該第二腔室 中; 一管狀外電極,具有與該第二腔室連通之一第三腔 室’其中該管狀外電極透過—轴承而接合在該外殼之一底 部的外側面,該管狀外電極可繞該外殼旋轉;以及 * 雷極Γ喷Γ設於該管狀外電極之—底部,且與該管狀外 電極之一軸心之間具有一夾角。
    2·如請求項1所述之電漿裝置, 該管狀外電極與該喷嘴為同軸心。 其中該管狀内電極、 其中該管狀内電極、 3·如請求項1所述之電漿裝置, 該管狀外電極與該喷嘴為偏軸心。 4.金屬, 如凊求項1所述之電漿裝置, 且該管狀外電極與該喷嘴之電 其中该軸承之材料為 位可透過該轴承而傳 15 M426456 2012年2月9曰修正替換頁 遞至該外殼。 5.如請求項1所述之電漿裝置,其中該絕緣内襯與該 管狀内電極之外側之間形成有一氣體通道,以供該工作氣 體進入。 6. 如請求項1所述之電漿裝置,其中該第一璇流產生 器覆蓋在該管狀内電極上。 7. 如請求項6所述之電漿裝置,更包含一第二旋流產 生器,設於該第一腔室之一底面上,且該管狀内電極接合 在該第二旋流產生器上,其中該第二旋流產生器包含至少 一第二進氣口,該至少一第二進氣口適用以將該第一腔室 内之該工作氣體導入該第二腔室與該第三腔室中。 8. 如請求項1所述之電漿裝置,其中該第一漩流產生 • 器設於該第一腔室之一底面上,且該管狀内電極接合在該 第一旋流產生器上。 9. 如請求項8所述之電漿裝置,更包含一第二漩流產 生器,覆蓋在該管狀内電極上,其中該第二旋流產生器包 含至少一第二進氣口,該至少一第二進氣口適用以將該第 一腔室内之該工作氣體導入該第二腔室與該第三腔室中。 16 M426456 2012年2月9日修正替換頁 10.如請求項1所述之電漿裝置,更包含一傳動裝置, 設於該管狀外電極之一外側面上,以帶動該管狀外電極旋 轉。 11. 如請求項1所述之電漿裝置,其中該管狀内電極 係高壓端,且該管狀外電極為接地端。 12. 如請求項1所述之電漿裝置,更包含一非直流電 φ 源與該管狀内電極和該外殼電性連接。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105025647A (zh) * 2014-04-16 2015-11-04 馗鼎奈米科技股份有限公司 等离子体装置
EP3082384A4 (en) * 2013-12-11 2017-07-19 Applied Plasma Inc Co., Ltd. Plasma generating device
CN108235552A (zh) * 2016-12-09 2018-06-29 韩国三重核心株式会社 具有多级旋涡结构体的等离子体发生部及废气处理装置
CN109536874A (zh) * 2019-01-22 2019-03-29 中国人民解放军陆军装甲兵学院 一种具有偏角喷涂功能的内孔等离子喷涂装置
TWI842523B (zh) * 2023-05-11 2024-05-11 暉盛科技股份有限公司 氣體分解裝置(一)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3082384A4 (en) * 2013-12-11 2017-07-19 Applied Plasma Inc Co., Ltd. Plasma generating device
EP3082384B1 (en) 2013-12-11 2019-05-01 Applied Plasma Inc Co., Ltd. Plasma generating device
CN105025647A (zh) * 2014-04-16 2015-11-04 馗鼎奈米科技股份有限公司 等离子体装置
US9320125B2 (en) 2014-04-16 2016-04-19 Creating Nano Technologies, Inc. Plasma device
CN108235552A (zh) * 2016-12-09 2018-06-29 韩国三重核心株式会社 具有多级旋涡结构体的等离子体发生部及废气处理装置
CN109536874A (zh) * 2019-01-22 2019-03-29 中国人民解放军陆军装甲兵学院 一种具有偏角喷涂功能的内孔等离子喷涂装置
CN109536874B (zh) * 2019-01-22 2024-01-09 中国人民解放军陆军装甲兵学院 一种具有偏角喷涂功能的内孔等离子喷涂装置
TWI842523B (zh) * 2023-05-11 2024-05-11 暉盛科技股份有限公司 氣體分解裝置(一)

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