TWM410055U - Substrate conveying mechanism device for stand type vacuum coater - Google Patents

Description

M410055 五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作涉及一種立式真空鍍膜機的裝置，尤其涉及一 種立式真空鍍膜機的基板傳輸機構裝置。 【先前技術】 現有立式真空鍍膜機如圖6所示，是在腔體7〇内的底 部以及頂部分別設有一沿左、右方向延伸的驅動構造Μ以 及—導引構造72,又在腔體70的前面以及内部的後側各設 有一濺射源73以及一加熱器74，並將玻璃載具75設置在 驅動構造71上而可沿左、右方向行進，當玻璃載具75行 進時頂部受導引構造72的導引而能進行直線運動。 前述現有的導引構造72是在腔體70頂部的底面結合 多個分別朝下垂直延伸的基板支架桿721，在多數個721 的底端結合一基板722，在基板722底面以左、右間隔的 形態結合多對限位滾輪723，各對限位滾輪723分設於前、 後兩側，並且各以内側抵靠在玻璃載具75頂緣的前面與後 面，作為傳輸玻璃載具75時的導正以及上方的固定手段。 但現有的玻璃載具75在抽真孔的腔體7〇内以加熱器 74加熱，又以濺射源73進行玻璃基板的鍍膜作業時，薄膜 容易附著在各個各個限位滾輪723上，在各個限位滾輪723 又在玻璃載具75的兩邊，為外露的形態，因此經常在傳輸 玻璃載具75的過程中，摩擦限位滾輪723周圍的鍍膜形成 粉塵，洛在玻璃載具75承載的玻璃基板上造成鍍膜品質的 不良’影響到機台產出的良率。 3 M410055 【新型内容】 由於現有立式真空鍍膜機傳輸玻璃載具的滚輪為外露 太H因此會產錄塵污染產品影響良率的問題。為此， =作主要在玻璃載具的頂部形成用以容納成排滚輪的導 5丨溝，解決粉塵掉落的問題。 為達到上述目的，本創作提供一 基板傳輸機構裝置，包括： #立式真空鑛膜機的 -腔體，為董直的殼體並具有前、後面以及左、右兩 側’在該腔體内部以貫穿左、女 間； 丨貝芽左右兩側的形態穿設一濺鍍空 一驅動構造，設置在該潑缺 體底部的頂面mi内的底部，並在該腔 的頂面、，。…左、右方向延伸的輸送輪支架，在 "輸运輪支架以左、右間隔的形態結合多個輸送輪； -導引構造’設置在該濺鍍空間内的頂部，並且在該 =體頂部的底面以纟、右間隔的形態結合多個分別朝下垂 =伸的基板支架桿，在多數個基板支架桿的底端結合一 土板’在該基板底面的中間以左、右間隔的形態結合多個 ::::伸的滾輪座，在各滚輪座底部的周面以可旋轉的形 心、套设一滾輪；以及 -破璃載具，設有一承載外框，為矩形且登直設置的 二體，該承載外框以底面置放在該輪送輪支架的各個輸送 &又在該承載外框的頂部凹設—沿左、纟方㈣伸且貫 =二右兩側的導引溝，以該導引溝容納各個導引構造的 澴輪在内部滾動。 進-步，本創作在所述承載外框前面的頂緣以及後側 M410055 各為 兩限位 的頂緣各結合一朝上凸出該承載外框頂面的限位板 沿左、右方向延伸的長板體，所述導引溝是形成在 板與該承載外框的頂面之間。 右兩端部 更進一步，本創作在所述各限位板内面的左 分別形成一導引斜面。

本創作在玻璃載具的頂部形成導引溝，並在導弓丨構造 的底部設有-排的滾輪，使得導引構造的各個滾輪能夠： 納在導引溝内滾動，當玻璃載具通過腔體的濺鍍空間，： 導引構造上傳輸時，能夠受到各個滾輪的導引。 本創作的有益功效在於，由於各滾輪設在玻璃載具頂 部的導引溝内，因此能避免滾輪滾動時粉塵直接掉落了能 避免粉塵污染玻璃基板的狀況發生，又能隱蔽導引構造2 部的各個滾輪，當進行濺鍍時，薄膜不會附著在滾輪上，- 使得滾輪的轉動能夠更為流暢，不會因為薄膜的附著而影 響導引傳輸玻璃載具的穩定性。 ~ 【實施方式】 本創作提供一種立式真空鍍膜機的基板傳輸機構裝 置’請參看圖1至圖5的較佳實施例，為本創作裝設在立 式真空鍍膜機的使用形態，包括： 一腔體10’為豐直的矩形殼體並具有前、後面以及左、 右兩側’在腔體1 0内部以貫穿左、右兩側的形態穿設—踐 链空間11 ’為豎直且沿左、右方向延伸的矩形孔洞，對應 藏鑛空間11的左、右兩端，在腔體10相反位置的左、右 兩側面分別形成一矩形的開口 12。 一濺射源20，結合在腔體1 〇的前面。 5 M410055 -構造3〇’設置在渡錄空間11内的底部，並在腔 二，在二*"的頂面結合一沿左、右方向延伸的輸送輪支架 ^ ' 在輸送輪去举W . 支架以左、右間隔的形態結合多個輸送輪 Ί Ί。 力熱益40，為豎直設置的板形加熱器並設在濺鍍空 内的後側’在輸送輪支架31結合一朝後 加熱器40的加熱器支架41。 依託 一導引構造50,設置在濺鍍空間扣内的頂部，並且在 腔體1〇頂部的底面以左、右間隔的形態結合多個分別朝下 垂直乙伸的基板支架桿51，在多數個基板支架桿Μ的底端 結合-基板52,為沿左、右方向延伸的長板體，在基板52 底面的中間以A、右間隔的形態結合多個分別朝下凸伸的 滾輪座53’各滾輪座53為圓形的登直柱體，並且各在底部 的周面以可旋轉的形態套設一滾輪54。 一玻璃載具60，設有一承載外框61，為矩形且豎直設 置的框體’在玻璃載具60的内側可定位承載需要鍍膜的玻 璃基板，承載外框61以底面置放在輸送輪支架31的各個 輸送輪311上’在承載外框6 ’前面的頂緣以及後側的頂緣 各結合一朝^上凸出承載外框61頂面的限位板62，各為沿 左右方向延伸的長板體，在兩限位板62與承載外框61 的頂面之間形成一由上方凹入且沿左、右方向延伸的導引 溝63’以導引溝63容納各個導引構造5Q的滾# 54在内 邛移動並又各滾輪54的導引，在各限位板62内面的左、 右兩端部分別形成一導引斜面621。 本創作是設置在腔體10内，在玻璃載具6〇的頂部形 M410055

成導引溝63,並在導引構造5〇的底部設有—排的滾輪“， 使得導引構造50的各個滾㈣能夠容納在導引溝Μ内滚 動’並且由於各個滾輪54進入導引溝63時，能夠受到： 對導引斜® 621的引導，因此能順利進入導㈣63内滚 動：如此的構造能避免滾輪54滾動時掉落粉塵，能避免粉 塵巧染玻璃基板的狀況發生，又能隱蔽導引構造5〇底部的 各個滚輪54,當賤射源20進行滅鍍時，薄膜不會附著在滾 輪54上’使得滾輪54的轉動能夠更為流暢，不會因為薄 膜的附著而影響導引傳輸玻璃載具6Q的穩定性。 【圖式簡單說明】 圖1疋本創作較佳實施例的立體圖 圖2疋本創作較佳實施例的分解圖。 圖3疋本創作較佳實施例的剖面圖。 圖4疋本創作較佳實施例的側視圖。 圖5疋本創作較佳實施例放大的剖面圖 圖6是現有立式真空鍍膜機的示意圖。 【主要元件符號說明】 1〇腔體 1 2開口 3〇驅動構造 31 1輸送輪 41加熱器支架 51基板支架桿 53滾輪座 11濺鍍空間 2 〇濺射源 31輸送輪支架 40加熱器 50導引構造 52基板 54滾輪 7 M410055 60玻璃載具 61承載外框 62限位板 621導引斜面 63導引溝 70腔體 7 1驅動構造 72導引構造 721基板支架桿 722基板 723限位滾輪 73濺射源 74加熱器 75玻璃載具

Claims (1)

1. w10055

   六、申請專利範圍： 1.—種立式真空鍍膜機的基板傳輸機構裝置，勺括· -腔體，為置直的殼體並具有前、後面以及：兩 .:，，在該腔體内部以貫穿左、右兩側的形態穿設_減鑛空 •…Γ構造，設置在該藏鍍空間内的底部，並在該腔 外：：！面結合一沿左、右方向延伸的輪送輪支架，在 "輪送輪支架以左、右間隔的形態結合多個輪送輪； 腔體心導引構造，設置在該賤鐘空間内的頂部，並且在該 頂β的底面以左、右間隔的形態結合多個分別朝下垂 伸的基板支架桿’在多數個基板支架桿的底端結合一 :广基板底面的中間以左、右間隔的形態結合多個 朝下凸伸的滾輪座，在各滾輪座底部 態套設-滾輪；以及 μ面以可旋轉的形 框-一玻璃載具’設有一承載外框’為矩形且豎直設置的 組，該承載外框以底面置放在該輸送輪支架的各個輸送 輪，又在該承載外框的頂部凹設一沿左、右方向延伸且貫 右兩侧的導引溝’以該導引溝容納各個導引構造的 展輪在内部滾動。 2.如申請專利範圍第，項所述之立式真空鑛膜機的基 傳輸機構裝置，其中在所述承載外框前面的頂緣以及後 側的頂緣各結合-朝上凸出該承載外框頂面的限位板，各 為沿左、右方向延伸的長板體，所述導引溝是形成在兩限 位板與該承載外框的頂面之間。 申》月專利範屏帛2項所述之立式真空鍍膜機的基 9 M410055 板傳輸機構裝置，其中在所述各限位板内面的左、右兩端 部分別形成一導引斜面。 七、圖式··（如次頁)

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