TWM330131U - Cleaning apparatus for board - Google Patents

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TWM330131U
TWM330131U TW96216291U TW96216291U TWM330131U TW M330131 U TWM330131 U TW M330131U TW 96216291 U TW96216291 U TW 96216291U TW 96216291 U TW96216291 U TW 96216291U TW M330131 U TWM330131 U TW M330131U
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TW
Taiwan
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unit
air supply
disposed
cleaning
brush
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TW96216291U
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Sui-Hung Hsu
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Yu Cheng Machinery Co Ltd
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M330131 八、新型說明: 【新型所屬之技術領域】 本創作係關於-種板件清潔裝置,特別是關於 傳輸模組上設置至少一清潔組件,以清除一板件表面上/ 塵’進而達到自動化清潔板件之效果。 之又 【先前技術】 習用板件清潔裝置,如中華民國公告第仍3 f絮裝置」新型專利’其包含—傳鮮元、數個毛财^ 出液孔,該傳輸單元係用來傳送需清洗的數個基板久 刷設置於該傳輸單元的傳輪路徑之_適當位置,為“二 轉軸心之毛刷,各該毛刷係平均分佈於該傳輸單元之二側, ^位_ -_之各該毛微此間係 !」出液孔分職置於各該毛刷之 ^距,各该 毛刷一致,當出液孔噴出水或清4孔的數置與 水分而能保持顧。當該習件;:二::接觸到 傳送單元係傳送該板件通過各衣祭作動時’該 旋轉,同時該出液孔亦會喷渴夂二;猎由各该毛刷會作 可辅助f除附著在該基板之雜^灰塵H亥制的毛刷 一般而言,上述習用板件清 ·" :該習用板件W置使=置具打舰點,例如 基板上的雜f,其或、^讀_各該毛刷清除該 狀,如此容易使灰塵二該基板的表面為潮濕 此外,由雜W㈣雌絲之表面。 潔成本的增加,基於 耒β冷该基板,可能會造成清 、上述原因,其確實有必要進一步改良上 M330131 述習用板件清潔裝置。 有鑑於此,本創作改良上述之 — 模組的輸送路徑上設置至少n細、'.、,^、係猎由在一傳輸 π冷組件及至少一送風組件 本創作另設有-雜電單另外’ _之灰塵,藉此可確實的、引力’避免靜電吸附空氣 r使得本創作可有效之麵與雜 [新型内容j 主要目的係提供—種板件清潔裝置,其解由 之灰塵,並風組件可清除在數個板件表面上 具有快速^之功=早元收集灰塵與雜質,使得本創作 在—t專 次^目的係提供一種板件清潔裝置,其係雜由 元可==,置-除靜電單元,該除二: 吸引力,避免靜^μ組件清除該板件時所產生之靜電 清潔效果之功1 巾之錢,使得本創作具有提升 組及根 清,置’其包含一機架、-傳輪模 輸模級之輪送路:上==::2該機架且位於該傳 集塵單元、至小外〃、&有至乂 π潔組件、至少—第一 弟二錢單元及至少—送風組件, M330131 組於:上輥輪及送風組件之間,該第-集塵單元及第 二塵早以別對應設於該傳輸模組之輸送路徑的二侧,該 组件之—側’藉由該清潔組件刷除一板 雜質’以達到自動化清潔板件之功效。 【實施方式】 «述及其他目的、躲及優職更明顯易 細說明如下 實施例,並配合所附圖式,作詳 設二圖所^本創作較佳實施例之板件清潔裝置 h 杲、、且1 ’其设置於-機架a上,在該機架a上沿 —...㈣傳輸模組1之輸送路徑依純分設有-人料平A 2、: 清潔平台3、-後清潔平台4及_台5,^ 台2及出料平台5分別設置於該傳輪模…之^ ^ 咖該入料平台2進入該前清潔平台3及後“二 ’且在完成清絲倾送至該㈣Μ 5。軸清潔平: ^清潔平台4設置於該人料平台2及出料平台$之間^ ^青潔平台3鄰接該人料平台2,_後清潔平台* = Ϊ料:台55°/外,在上述各平台之交界處較佳係分別^ "又置一阻隔簾b,以阻隔灰塵或外界異物進入。 、 *請再參照第!及2圖所示,本創作較佳實施例 ,裝置之傳輸模組丨設有一動力源1G、數個下輥輪^及= :上輕輪U,該動力源1Q較佳選自—馬達,其用 吕亥下報輪11朝同一旌_太6 πf動各 各該下_11 _ 千仃5又置於一平面,且各該下輥輪11之間保持有—適Ϊ M330131 r另輪狄如輸送雜件9飾於各平台之 12之間留^輪12之上方,该下輥輪11與該上輥輪 Γ二Τ/該板件9通過之一間隙。該入料平台2設 係相對平行該傳 ^。日1之距離,以便將該板件9對應置人該二擔板21
請再參照第1万? m & 一 上h、 L :SW置之前二/ 創作較佳實施例之板件清
Μ置之^>評台3設置於該齡Q 體'至少-清潔組件31、至少一送風組件 1塵單7L =3及至少―第二集塵單幻4,該密封箱體3〇 係於4傳輸核組i之一側形成一密閉空間c,且該密封箱體 SO較佳設有數個可開啟及關閉之壓克力板〔未標示〕;該 清潔2件31、送風組件%及第一集塵單元%均設置於該 抬閉工間^中;在該傳輸模組1之輸送路徑上該清潔組件 31及送風組件32設置於該上輥輪12之一侧且該清潔組件 31較彳土‘擇位於该上輥輪12及該送風組件%之間;該第 一集塵單元33對應設置於該傳輸模組1之輸送路徑的一側 且罪近该上輥輪12,該第二集塵單元34對應設置於該傳輪 模組1之輸送路徑的另一侧且靠近該下輥輪n,其二者用 以收集该板件9上之灰塵及雜質;該第一集塵單元33之— 端设有一罩體331,其用以同時罩蓋該上輥輪12及清潔組 M330131 件31 ;該第二集塵單元34亦設有一罩體341,其用以對應 罩蓋該密封箱體30之底面。 請再參照第1及2圖所示,本創作較佳實施例之清潔組 件31具有一動力源310、一第一刷具311及一第二刷具312 ,該動力源310較佳係選自一馬達,該動力源310用以連接 帶動該第一刷具311及第二刷具312旋轉;該第一刷具311 及第二刷具312係分別對應位於該傳輸模組1之輸送路徑之 * 二側,且該第一刷具311及第二刷具312之間留有可供該板 件9通過之一間隙。該送風組件32具有一第一送風單元321 及一第二送風單元322,該第一送風單元321對應設置於該 第一刷具311之一侧;該第二送風單元322對應設置於該第 二刷具312之一側,該第一送風單元321及第二送風單元 322之出風口〔未標示〕均傾斜朝向該第一刷具311及第二 刷具312間之間隙。 J] 請再參照第1至3圖所示,本創作較佳實施例之板件清 潔裝置之後清潔平台4設置於該機架a上,其設有一密封箱 體40、至少一送風組件41、一除靜電單元42、至少一第一 集塵單元43及至少一第二集塵單元44,該密封箱體40係 於該傳輸模組1之一側形成另一密閉空間d,且該密封箱體 40與該前清潔平台3之密封箱體30具有相同構造亦設有數 個可開啟及關閉之壓克力板〔未標示〕;該送風組件41、 除靜電單元42及第一集塵單元43均設置於該密閉空間d 中。該送風組件41設於該除靜電單元42之一侧,該上輥輪 12位於該送風組件41及除靜電單元42之間。該送風組件 M330131 風單元411及-第二送風單元則第一 上輥輪12之-側,而該第:逆;,41〗對應設置於該 輥輪11 H該^412龍設置於該下 必乐达風早兀411 、 一 之出風口〔未標示〕均傾斜朝 弟—达風早兀412 。該除靜電單元42設置於竹:傳輸模組1之輸送路徑 平台3,盆用以中淨倾^後巧除平台4且靠近該前清潔 + 口 3用財和或導_板件9 清潔組…在其表面所形成 : 單元二之1設有一罩體431,其用 二j 441,其用以對應罩盖該密封箱體4〇之底面。 1 作較佳實施例之_ 於該入料平台心;===r 玎將e亥出料干口 5廷出之板件 續的作業。 午9 V人魏集相中,以方便後 參照第1及4至6圖辦-. 件9進行清_,首先依據^’叾本鑛健實施例對該板 二2之獅及出:ίί反件咖 板件9在傳輸模組!之輪送^之權板52間的寬度,以便該 3及後清潔平台4進行清上可對位送人該前清潔平台 2進入該前清潔平台3之密閉^著’該板件9自該入料平台 4二間c中,邊板件9會先接觸 10 M330131 到相互對應轉動之該上輕輪12及下輕輪 12的轉動方向會與該下輥輪n的轉動方 於該上輕輪 緩衝件121可對應該板件9表面的凹凸起伏而微^加上該 I2確貫的抵靠於該板件9之—側面,確保該上^上輕輪 輕輪11能等速的塵送該板件9往前移動:輪12與下 該清潔組件31的轉動方向與該板件9的傳楚^為後方之 是該送風組件32的風向與板件9的傳送方:不同’或 響該板件9無法穩定的朝該出料平台5輸送。—致,而影 虽该板件9接觸到該清潔組件31時,該 送至於該第-刷具311及第二刷具312間之9會被傳 中之該第-刷具3η及第二刷具312將灰塵及雜旋轉 矿9之表面;其中該第一刷具311與第二刷且』:„反 1將該板件9上的灰塵帶往該第一集塵單元%之:二= 二集塵單元34之罩體341内,以便於集中收 與雜貝,因此弟5圖之該第一刷具311會作順時針轉$ ,而該第二刷具312會作逆時針方向轉動,藉此使自該板^ 9清除下來的灰塵能集中於該第—集塵單元33之罩體別 内;同時’再加上該第-送風單元321與第二送風單元奶 之出風口均傾斜朝向該罩體331與該㈣9間之間隙,立能 避免被刷除下來的灰塵離開該罩體331,而罩= 34可吸附在該密閉空間e中掉落下來之灰塵=== 該密閉空間C中被清除下來的灰塵與雜質。另外,該第一集 塵單兀33與第二集塵單元34之一端經由管路可連接一集塵 裝置〔未繪不〕,該集塵裝置可用以集中所有被吸收的灰塵 —11 — M330131 體tT〕中以作進—步的處理。另-方面,由於 ㈣> 堡克力板或阻隔簾b擋住, 免卜,I異物及灰塵進入該密閉空間C。 當该板件9通過該前清潔平a 2 ,由於該第-刷具3;::: ^清潔平台4時 容易產决於兩/、312相對該板件9的接觸 太鹿心、、雜件9之表面容易因靜電而吸附-此 當該板,進入該後清潔平台4時’該後清潔ΐ 口4除靜電早兀42中和或導除該板件9表面之靜電 吹=错使1送風組件41對該板件9之相對應二側面 未_靜電吸附之灰塵離開該板件9之二側面,並 n 該出料平台5並隨著該斜板導入收集箱中,ΐ 〜成该板件9之清潔程序。 助各相較於f用板件清潔裝置利用水或清潔液輔 因^/除該基板上的雜f,其可能使灰塵或外界雜質 二=她而再次_於該基板之表面,再加上添 财清潔職板,可能會造成清潔成本增加等缺點, ^乍猎由在該傳輸模組!的輸送路獲上設置該清潔 及送風組件32,以清_著在該板件9表面之灰塵盘雜 二另二,本創作另設有該除靜電單元&麵^ 引:因該清潔組件31清除該板件9時所產生之靜電吸 、^’避免該板件9靜電吸引空氣中之灰塵,料實可 /月 板件並有提高清潔效率之功效。 雖然本創作已利用上述較佳實施例揭示,然其並非用以 12 — M330131 限定本創作,任何熟習此技藝者在不脫離本創作之精神和範 圍之内,相對上述實施例進行各種更動與修改仍屬本創作所 保護之技術範疇,因此本創作之保護範圍當視後附之申請專 利範圍所界定者為準。
—13 — M330131 【圖式簡單說明】 第1圖:本創作較佳實施例之板件清潔裝置之組合侧示 圖。 第2圖:本創作較佳實施例之板件清潔裝置之前清潔平 台的局部放大圖。 第3圖:本創作較佳實施例之板件清潔裝置之後清潔平 台的局部放大圖。 , 第4圖:本創作較佳實施例之板件進入前清潔平台之清 I 潔組件前之使用示意圖。 第5圖:本創作較佳實施例之板件進入前清潔平台之清 潔組件之使用示意圖。 第6圖:本創作較佳實施例之板件進入後清潔平台之使 _用示意圖。 【主要元件符號說明】 10 動力源 12 上輥輪 2 入料平台 22 調整件 30 密封箱體 310動力源 312第二刷具 321第一送風單元 33 第一集塵單元 I 傳輸模組 II 下輥輪 121缓衝件 21 擋板 3 前清潔平台 31 清潔組件 311第一刷具 32 送風組件 322第二送風單元 —14 — M330131 331 罩體 34 第二集塵單元 341 罩體 4 後清潔平台 40 密封箱體 41 送風組件 411 第一送風單元 412 第二送風單元 42 除靜電單元 43 第一集塵單元 431 罩體 44 第二集塵單元 441 罩體 5 出料平台 51 檔板 52 調整件 9 板件 a 機架 b 阻隔簾 C 密閉空間 d 密閉空間
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Claims (1)

  1. M330131 九、申請專利範圍: 1、一種板件清潔裝置,其包含: 一機架; 一傳輸模組,其設置於該機架上,係藉由一動力源連接 數個上輥輪及數個下輥輪以構成一輸送路徑,·
    一月ίι清潔平台,設置於該機架且位於該傳輪模組之輸送 路從上,该韵清潔平台設有至少一清潔組件、至少一第 一集塵單元、至少一第二集塵單元及至少一送風組件, 該清潔組件及送風組件設置於該上輥輪之_侧且該清 潔組件位於該上輥輪及該送風組件之間,該第一集塵單 兀及第二集塵單元分別對應設於該傳輸模組之輸送路 桉的二側且分別靠近該上輥輪及下輥輪。 2、依申请專利範圍第}項所述之板件清潔裝置,其中另設 有一後清潔平台,該後清潔平台設置於該機架上且設有 :除靜電單元、至少-第—集鮮元、至少―第二集塵 單兀及至少一送風組件,該除靜電單元設於該後清潔平 台且靠近該前清潔平台,該第一集塵單元及第二集塵單 元分別對應設於該傳輸模組之輸送路徑的二侧且分別 罪近该上輥輪及下輥輪,該送風組件設於該除靜電單元 之一側’且該上輥輪位於該送風組件及除靜電單元之間 〇 、依申請專利範圍第2項所述之板件清潔裝置,其中該送 風組件設有-第-送解元及—第二送風單元,該第一 送風單謂麟置贿均輪之_側,而_二送風單 16 — M330131 兀對應設置於該下輥輪之一侧。 心依申料·圍第3顧叙板件清雜置, 一送風單元及第二详涵罝; ’、中口亥罘 輸模組之輸送路i 出風口均傾斜朝向該傳 5、 ,申請專魏圍“項所狀板件清雜置,
    ,件設有-動力源、一第—刷具及一第二刷具中:: 源係連接該第一刷具及第二刷具,該第一刷第 刷具分別對應位於該傳輸模組之輪送路徑的二側弟- 6、 依申請專纖圍第5項所述之板件清雜置,复中节、, 風組件設有-第-送風單元及—第二送風單元,= 廷風單元對應設置於該第一刷具之一側;送 元對應設置於該第二刷具之一側。 I風早 7、 依申請專利範圍第6項所述之板件清潔裝置,其中 达風單兀及第二送風單元之出風口均傾斜 一刷具及第二刷具間之間隙。 ^弟 卜依申請專利範圍第!、2、3、4、5、6或7項所述之板 件清潔裝置,其中該前清潔平台之第一集塵單元設有一 罩體,該罩體設於上親輪之-侧,並同時罩蓋該上輥輪 及清潔組件。 9、依申請專利範圍第^ + ^^項所述之板 件清潔裝置,其巾該傳輸模组另設有數個緩衝件,各緩 衝件可微調的設置於該其中數個上輥輪之上方。 1 〇、依申請專利範圍第8項所述之板件清潔裝置,其中該傳 輸模組另設有數個緩衝件,各緩衝件可微調的設置於該 —17 — M330131 其中數個上輥輪之上方。
    —18 —
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI416646B (zh) * 2007-11-20 2013-11-21 Semes Co Ltd 基板洗淨裝置及其方法
TWI719983B (zh) * 2015-05-22 2021-03-01 日商阪東化學股份有限公司 清潔裝置
CN114671217A (zh) * 2020-12-24 2022-06-28 志圣工业股份有限公司 自体清洁的输送装置及包含输送装置的加热设备

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