TWM325867U - Exhaust processing device - Google Patents

Description

M325867 ‘ 八、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作與廢氣_裝置錢，尤其有關於—種可有效 去除氣狀汙染物與粒狀汙染物的麼氣處理裝置。 【先前技術】 化工廠、半導體薇與煉鋼廠在製造的過程中，或多或 乂-疋會產生廢氣’廢氣中含有對人體與環境有害的氣狀 鲁 汙染物’如硫酸、氯化氫、硝酸、氟化氫等，還有如粉塵 等的粒狀汙染物。 為了維護空氣品質’確保人體的健康，含有氣狀汗染 物與粒狀汙染物的廢氣必須經過處理將濃度降低至安全標 準才能排放’目前習知處理廢氣秘置，—般係用對應的 吸收溶液吸收氣狀汗染物，或是利用燃燒的方式將氣狀汗 染物燃燒殆盡’接著利用各種過據層，收集粒狀汙染物， 同時藉由煙_高度將未能處理乾淨的氣狀汙染物與粒狀 • 〉于染物於高空中排放’以藉由高空的氣流快速稀釋之，以 ' 使濃度降低至安全標準而減少其危害。 白知的廢氣處理裝置，其未能有效吸收處理廢氣中的 氣狀汗染物與粒狀汗染物，雖然可藉_於高空中排放廢 氣，將廢氣中的有害物質濃度降至安全範圍，但其不能真 正的過濾吸收氣狀汙染物與粒狀汗染物，仍然對人體健康 與環境有不可忽視的影響，在環保要求曰益嚴苛的現在， 其仍有改善的空間與必要。 【新型内容】 5 M325867

一 ·一，八N乳處理裝置， 置，以避免廢氣 爰此， 的氣狀汙染： 危害人體健康與環境。

道管設有-入口與-出口’該廢氣係由該入口進入該氣體 流道管，並由該出口離開該氣體流道管，該氣狀物吸收層 設於該氣體流道管内且接近該入口，又該氣狀物吸收層内 设有至少一喷灑裝置，該喷灑裝置用於喷灑一霧化的吸收 溶液，且該吸收溶液用於吸收該複數氣狀汙染物。 該除霧層設於該氣體流道管内且位於該氣狀物吸收層 之後，又該除霧層設有一多孔填充材，該多孔填充材用於 過滤該廢氣中的水氣’該高壓放電層設於該氣體流道管内 且位於該除霧層之後，又該高壓放電層設一放電元件，該 放電元件可產生一南速移動的電子群，該電子群用於撞擊 該複數粒狀汙染物，以使該複數粒狀汙染物帶電，該靜電 集塵層設於該氣體流道管内且接近該出口並位於該高壓放 電層之後，該靜電集塵層設有一極板，該極板帶有與該複 數粒狀汙染物相反的電荷，該極板用於吸引該帶電的複數 粒狀汙染物，以使該帶電的複數粒狀汙染物附著在該極板 之上。 據此，廢氣中的複數氣狀汗染物與複數粒狀汙染物， M325867 〜 分別會被該霧化的吸收溶液與該具電磁吸引力的極板所溶 解與吸附，因而其可有效過濾，以避免廢氣危害人體健康。 【實施方式】 為俾使貴委員對本創作之特徵、目的及功效，有著 更加深入之瞭解與認同，茲列舉一較佳實施例並配合圖式 說明如后： 請參閱「第1圖」所示，本創作之廢氣處理裝置，其包 含一氣體流道管10、一氣狀物吸收層20、一除霧層30、一 > 高壓放電層40與一靜電集塵層5〇，其用於處理一廢氣，該 廢氣具有複數氣狀汙染物與複數粒狀汙染物。 其中該氣體流道管10設有一入口 11與一出口 12，該廢 氣係由該入口 11進入該氣體流道管1〇，並由該出口 12離開 該氣體流道管10，該氣狀物吸收層2〇設於該氣體流道管 内且接近该入口 11，又該氣狀物吸收層2〇内設有至少一喷 灑裝置21，該贺灑裝置21用於喷灑一霧化的吸收溶液22， , 且該吸收溶液22用於吸收該複數氣狀汙染物，一般而言， 該複數氣狀汗染物為如硫酸、氣化氩、;g肖酸、氟化氫等氣 體，而該吸收溶液22為鹼性液體，因此為節省成本並讓吸 收該複數氣狀汙染物的效率維持一定水準，該氣狀物吸收 層20更可設有一PH控制器23，該PH控制器23具一PH量測元 件231與一開關控制器232,該PH量測元件231用於量測該霧 化的吸收溶液22的酸鹼度，並依據酸鹼度藉該開關控制器 232控制該喷灑裝置21是否喷灑該吸收溶液22，其可讓酸鹼 度保持在適當的數值，以發揮最大的效益。 7 M325867 - 又該氣狀物吸收層20亦可設有一吸收槽道24，該吸收槽道 24係為耐酸鹼腐蝕的材質製成，且為來回彎曲狀，該廢氣 流經該吸收槽道24，且該霧化的吸收溶液22設於該吸收槽 道24内，因而可增加吸收溶液22與氣狀汙染物的接觸時 間，以提高吸收效率。 該除霧層30設於該氣體流道管1 〇内且位於該氣狀物吸 ， 收層20之後，又該除霧層30設有一多孔填充材31，該多孔 填充材31用於過濾該廢氣中的水氣，該多孔填充材31可以 B 為海綿、發泡棉等軟性多孔的材質製成，以吸收過濾水氣。 該高壓放電層40設於該氣體流道管1 〇内且位於該除霧 層30之後，又該高壓放電層40設一放電元件41，該放電元 件41可產生一高速移動的電子群411，該電子群411用於撞 擊該複數粒狀汙染物，以敲出電子，而使該複數粒狀汙染 物帶電。 該靜電集塵層50設於該氣體流道管1〇内且接近該出口 12並位於該高壓放電層40之後，該靜電集塵層50設有一極 板51，該極板51帶有與該複數粒狀汙染物相反的電荷，以 讓該極板51用於吸引該帶電的複數粒狀汙染物，以使該帶 電的複數粒狀汙染物附著在該極板51之上。又該靜電集塵 層50設有一空氣喷射元件52，該空氣喷射元件52用於喷出 咼壓氣體’將該極板51上的該複數粒狀汙染物收集至一收 集槽53 ’以避免該極板51吸受過多的粒狀汙染物而降低吸 覆效果。或者，請再參閱「第2圖」所示，該靜電集塵層50 亦可設有一震盪器54，該震盪器54用於震盪該極板51，其 8 M325867 - 同樣可以m嫌板5i上m懷汙騎收集至收觸53内。 斤述本創作藉由氣狀物吸收層2〇内霧化的吸收 溶液22，可有效率的吸收廢齡的氣狀汙染物，接著透過 該除霧層30將該廢氣中的水氣濾除，並藉該放電元件幻產 生電子群411麟複餘狀輯鱗電，以獅該極板51 有=吸職複數錄汗雜，_本齡可大量減少排放 到環境中的錄汙染物絲狀汗染物，而不必藉煙函的高 工擴放將濃度降至安全範IU，真正的敎廢麟環境造成 危害。 綜上所述僅為本新型的較佳實施例而已，並非用來限 定本新型之實施範圍，即凡依本新型申請專利範圍之内容 所為的等效變化與修飾，皆應為本新型之技術範疇。 【圖式簡單說明】 第1圖，係本創作系統構造示意圖。 第2圖，係本創作系統構造之另一實施方式示意圖。 【主要元件符號說明】 10 :氣體流道管 11 :入口 12 :出π 20 :氣狀物吸收層 21 ··喷灑裝置 22 :吸收溶液 23 : HI控制器 231 : PH量測元件 M325867 232 :開關控制器 24 :吸收槽道 30 :除霧層 31 :多孔填充材 40 :高壓放電層 41 :放電元件 411 :電子群 50 :靜電集塵層 51 :極板 52 :空氣喷射元件 53 :收集槽 54 :震盪器

Claims (1)

1. M325867 九、申請專利範園： ^ 1、一種廢氣處理裝置，用於處理一廢氣，該廢氣具有 複數氣狀汙染物與複數粒狀汙染物，其包含： 一氣體流道管，該氣體流道管設有一入口與一出口， 該茛氣係由該入口進入該氣體流道管，並由該出口離開該 氣體流道管； 一氣狀物吸收層，該氣狀物吸收層設於該氣體流道管 I 内且接近該入口，又該氣狀物吸收層内設有至少一喷麗裝 置，該喷灑裝置用於喷灑一霧化的吸收溶液，該吸收溶液 用於吸收該複數氣狀汙染物； —除霧層，該除霧層設於該氣體流道管内且位於該氣 狀物吸收層之後，又該除霧層設有一多孔填充材，該多孔 填充材用於過濾該廢氣中的水氣； 一高壓放電層，該高壓放電層設於該氣體流道管内且 _ 位於該除霧層之後，又該高壓放電層設一放電元件，該放 電元件可產生一高速移動的電子群，該電子群用於撞擊該 複數粒狀汙染物，以使該複數粒狀汙染物帶電； 一靜電集塵層，該靜電集塵層設於該氣體流道管内且 接近該出口並位於該高壓放電層之後，該靜電集塵層設有 一極板，該極板帶有與該複數粒狀汙染物相反的電荷，該 極板用於吸引該帶電的複數粒狀汙染物，以使該帶電的複 數粒狀汙染物附著在該極板之上。 2、如申請專利範圍第1項所述之廢氣處理裝置，其中 該氣狀物吸收層更設有一PH控制器，該PH控制器具一PH量 11 M325867 二::與一開，制器，該PH量測元件用於量測該霧化的 口洛液’並驗_㈣馳繼喷難置是否 吸收溶液。 •々3如申明專利範圍第^所述之廢氣處理裝置，其中 該靜，集麟設有—錢儒元件，該空氣儒元件用於 嘴出问壓氣體’將該極板上的該複數粒狀汗染物收集至一 收集槽。 . 如申凊專利範圍第1項所述之廢氣處理裝置，其中 該靜電集塵層設有-震盪H，該震盪器用於震肋極板， 將該極板上的該複數粒狀汗染物收集至一收集槽。 5、 如申請專利範圍第1項所述之廢氣處理裝置，其中 該氣狀物吸收層設有一吸收槽道，該廢氣係流經該吸收槽 道，且該務化的吸收溶液設於該吸收槽道内。 6、 如申請專利範圍第5項所述之廢氣處理裝置，其中 該吸收槽道為來回彎曲狀。 12