TWM242623U - Valve structure for wafer reaction chamber - Google Patents

Description

M242623 四、創作說明（l) —-- 【新型所屬之技術領域】 本創作係關於一種晶圓反應室之閥門結構，尤指一種 運用於晶圓反應室之氣體通道上，可快速且確實的關閉其 氣體通道，有利於控制反應室内的壓力或氣體之含 ” 【先前技術】 f ° 按，晶圓反應室内的壓力、溫度、灰塵含量或其必 2含量，需要有相當精準的控制才可使業者於^造產 :寻ί! Ϊ佳的品質與良率’其中控制反應室的氣體ϊ道 ，為相虽重要的一環，一般反應室的氣體通道閥門都a呈 精密的設計且造價昂貴，其最主要的目的就是要能精 j:反應室内的壓a、溫度、灰塵含量或其必要氣體的含 能得到較佳的品質與良率進—步降低其製造成本 %加獲利。 而由於一般晶圓反應室内含的氣體許多是具有強鹼性 =強酸性等腐蝕性強的氣體，因此其需要以特殊的材質將 ，^，個包覆而造成此種閥門造價昂貴，但此閥門往往經 =段時間使用後即仍會遭到腐蝕不堪使用而需要更換之， 對於業者而言亦是相當沉重的負擔。 、 【新型内容】 …时綜上所述，本創作者的目的在於使前述的閥門能經由 的動作就能快速且確實的關閉氣體通道，且使闕n的 造價大幅降低以減少業者成本者。 種晶圓反應室之閥門結構，其具有_滑動設置於密 閉箱體内的閥門裝置，且此閥門可受設置於箱體外的作動

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裝置驅動而關閉，該閥門裝置具有一、、M i /、另 滑動板，此滑動板一 侧壁面環設有以第一槽盥第二槽丘π &丄 巧^倆，、乐價/、问組成的數個執道，且 此一側壁上搞設有一作動板，作勤如 v利狀仆軔板上對應各執道設置内 具鋼珠的數個鋼珠座，又作動板的外緣設置有一頂桿，作 動板的一側固设有一遮蔽板，此遮蔽板的一側壁面上設置 有可封閉氣體通道的一塾圈。 【實施方式】 為使貴審查委員能更加了解本發明的技術特徵與所 能達能的功效，係配合附圖以較佳的實施例詳細說明之：

本創作主要是設置於晶圓反應室的各氣體通道上，藉 以能迅速且確實的關閉或開啟氣體通道口，請配合參閱第 一圖、第二圖與第三圖所示，該晶圓反應室的氣體通道工 2上設置有—箱體1 ，此箱體1係與氣體通1 2道形成密 閉狀態以防止氣體通道1 2内的氣體外洩，又此箱體1内 具有一容室1 1 ，此容室1 1可供滑動設置一閥門裝置 3 ’且箱體1外設設置有一作動裝置2 ，且當作動裝置2 驅動時可帶動閥門裝置3關閉或開啟氣體通道口 1 3。

該閥門裝置3主要具有一滑動板3 3 ，此滑動板3 3 的左、右兩端設置至少一滾輪3 3 3，使滑動板3 3可於 箱體1内作限位的滑動實施，而滑動板3 3的一側壁面上 環設有由數個第一槽3 3 1與第二槽3 3 2共同組成的數 個轨道3 3 〇 ，且各執道3 3 〇係沿正圓周的方向等間距 排列而成，又軌道3 3 0的第一槽3 3 1是相對於第二槽 3 3 2的深度較深，使執道3 3 〇的第一槽3 3 1與第二

第6頁 M242623 四、創作說明（3) 槽3 3 2形成具有高低差之形態，而滑動板3 3於此設有 軌道3 3 0的一側壁面上樞設一作動板3 2，此作動板3 2對應各執道3 3 0設置有數個穿孔3 2 1 ，且各穿孔3 2 1内設置有以扣持件3 2 4定位的鋼珠座3 2 2，各鋼 與執道330的第一槽331間設置有一鋼珠 使°亥鋼珠3 2 3的一端以可樞轉方式定位於鋼珠 i，H，另一端則伸入執道3 3 〇的第-槽3 31 内又作動板3 2的外周緣上設置有一穸仙+、、界勳柘q q 外的頂桿3 2 5。 犬伸出滑動板3 3 板3 1 ，且逨蔽柘q 3 3的另一側固設有一遮蔽 &敵板3 1的外側面開設有一瑷來的凹樺q ] 1，此凹槽3 1 1可供嵌設m ^ %形的凹槽3 1 作動時鋼珠3 2 3會由執道2，當作動板3 2 向較淺的第二槽3 3 ? 車父’米的第一槽3 3 1滾 橫向位移。 ，使作動板3 2與遮蔽板3 1形成 而作動裝置2具有一从^ 突伸入箱體1内且與严作動缸2 1 ，作動缸2 1設置有 使作動裝置2可藉由^板3 3頂端固接的一推臂2 2 ， 閉或開啟閥門之動作者。2 2驅動閥門裝置2作動產生關 μ 如第一圖與第三圖所_ 悲，此時閥門3是位於$ ：為顯示閥門3打開之狀 :1 2内的氣體可自由：、:通道^ 2的上方處，則氣體通 :圖所示，當欲關閉氣：u，參閱第四圖第五圖與第 2的作動缸2 1，此時；，2時，需要驅動作動裝置

作動紅之推臂2 2會推抵滑動板3 M242623 四、創作說明（4) 3向氣體通道12處孩#， 辦]慝移動且當閥門裝置3移動至接近箱 板3 2 ^時，^干3 2 5受箱體1内側壁面抵壓而使作動 ί 此時作動板32上之鋼珠座…的鋼 與tUt第五圖所示），進-步使遮蔽板31 道口 1 ^ 3 2^^榼向位移而推向氣體通道1 2的氣體通 σ1 Q (如第六圖所示），使其墊圈312將氣體通道 Η p”封閉’ P且絕氣體通道1 3内的氣體流通，當要打開 雜A時，則使作動缸2 1作動將遮蔽裝置3向上拉起遠 ::，通道口 1 3 ’則遮蔽裝置3的作動板3 2受重力影 反向轉動，使鋼珠323由軌道330的第二槽3 態。滾向第一槽3 3 1則遮蔽板3丄回復至第二圖之狀 9作的第二實施例’冑參閱第七圖與第八圖所示， 列，：ΐΚ; ^的執道3 3 〇 3可為環狀等間距排 3 各軌道3 3 0 a的第-槽3 3 ! 3均是位於第二槽 排列，二正下方’使各軌道3 3 〇 3形成同方向的環狀 下方产而：桿3 2 5 "!設置於作動板3 2 a的外周緣正 1底i日^作動裝置2驅使閥門裝置3 a移動至接近箱體 3 2 a :二貝桿3 2 5 a抵於箱體内側面i，驅使作動板 3 a由：:首：,3 1 3產生垂直方向位移’而使鋼珠3 2 a ，&Β#=33〇3的第一槽331a滾至第二槽332 氣體通】1 '與作動板3 2 3產生橫向位移而將 、、口 1 3封閉，當欲開啟閥門時，則將閥門裝置3

第8頁 2.4: M242623 四、創作說明（5) a拉起始其遠離氣體 板3 2 a則受重力 =1 3 ，而遮蔽板3 1 a 332a滚項第= T位移，鋼珠323a由 本創作係利用作曰動“】J f門裝置3呈開啟 在垂直方向位移時遮蔽板3 f驅=門裝置3、3 2 a可產生橫向的位移 a與作動板3 =生的橫向位移恰可關閉氣體通道 〇 〇职^ 月匕厌逯且確貝的關閉氣體通道 3,且設置於遮&板3l、31a上的墊圈312 2 a可視各氣體通道内的氣體選擇合適的材質設置 小面積的墊圈3 1 2即可封閉該氣體通道口 i t可 低業者成本。 綜上所述’本創作申請前未見於刊物或有公開 且具有較佳的進步性與產業利用性，誠符合新二^ 要件，爰依法具文提出申請。

，僅以 大幅降 使用， 利申請

M242623 圖式簡單說明 【圖式簡 第一圖係 第二圖係 第三圖係 第四圖係 第五圖係 第六圖係 第七圖係 第八圖係 (圖號部 1箱體 1 2氣體 2作動裝 2 2推臂 3 a閥門 3 1 a遮 3 1 2墊 3 2作動 3 2 1穿 3 2 3鋼 3 2 4扣 3 2 5 a 3 3 a滑 3 3 0 a 道 置 板 持件 頂桿 勤板 执道 單說明】 本創作之外觀正視圖。 沿第一圖2 — 2線所取的剖視圖。 本創作第二圖之側視圖。 本創作關閉氣體通道口時的外觀正視圖 沿第四圖5 — 5線所取的剖視圖。 本創作第四圖之側視圖。 本創作第二實施例圖。 本創作第二實施例動作圖。 份 1 1容室 1 3氣體通道口 2 1作動缸 3閥門裝置 3 1遮蔽板 3 1 1凹槽 3 1 2 a墊圈 3 2 a作動板 3 2 2鋼珠座 3 2 3 a鋼珠 3 2 5頂桿 3 3滑動板 3 3 0執道 3 3 1第一槽 M242623 圖式簡單說明 3 3 2第二槽 3 3 3滾輪 3 3 1 a第一槽 3 3 2 a第二槽 1··

Claims (1)

1. M242623 五、申請專利範圍 1 · 一種晶圓反應室之閥門結構，其具有一設置於晶 圓反應室的氣體通道上且内具一容室的一箱體，該箱體係、 與氣體通道形成密閉設置，該容室内滑動設置有一閥門裝 置，以及箱體外設置有可驅動閥門裝置的一作動裝置，該 閥門裝置包括： ^ 一滑動板，該滑動板相對兩端設置有至少兩滾輪，使 滑動板以可往復滑動方式設置於箱體内，且滑動板上端係 與作動裝置固接，又滑動板一側壁面上環狀間袼設置有分 別以第一槽與第二槽共同組成至少雨軌道，且第一槽與第 二槽係形成有高、低位差； 一作動板，此作動板係樞設於滑動板設置有轨道的一 側壁面上，作動板對應各軌道分別設置有一鋼珠座，且鋼 珠座與執道間設置有一鋼珠，使鋼珠一端樞設於鋼珠座 内，另一端伸入執道的一槽内，又作動板的外周緣嘹 一頂桿； 一遮蔽板’此遮蔽板係固設於作動板的外側，且遮蔽 板的一側設置有一墊圈； 當作動裝置將閥門裝置推向氣體通道口時，作 f1抵於箱體内側壁面頂抵使其作動，此時鋼珠由執道的 :2滾向另一槽，使遮蔽板與作動板產生橫向位移至氣體 L I 口，令墊圈將氣體通道口封閉者。 ,、 姓m 2 #如申請專利範圍第1項所述之晶圓反應室之闕門 ΣI力乂中作動板上對應遮蔽板的軌道設置有數個穿孔， 各穿孔分別可供容設—鋼珠纟，且鋼珠座係受扣環=而

   M242623 五、申請專利範圍 穩固設置於作動板上。 3 ·如申請專利範圍第1項所述之晶圓反應室之閥門 結構，其中墊圈可依據氣體通道内之氣體選擇合適的材質 者。 、 4 ·如申請專利範圍第1項所述之晶圓反應室之閥門 結構，其中作動裝置主要係由一作動缸與突伸出作動缸外 的一推臂組成，閥門裝置的滑動板係與作動裝置的推臂連 接，使作動缸驅動時可帶動閥門裝置者。 5 · 結構，其 較淺的第6 · 結構，其 周方向排 施同時產 7 . 結構，其 使執道形 蔽板與作 道口者。 中滑動板 二槽共同 如申請專 中滑動板 列’則關 生橫向位 如申請專 中滑動板 成同方向 動板作直 的各執道 組成。 利範圍第 的各轨道 閉閥門裝 移而封閉 利範圍第 的各執道 等間距環 向位移同 1項所述之晶圓 係由深度較深的 1項所述之晶圓 之第一槽與第二 置時遮蔽板與作 氣體通道口者。 1項所述之晶圓 之第一槽均位於 狀排列，則關閉 時產生橫向位移 反應室之閥門 第一槽與深度 反應室之閥門 槽係呈沿正圓 動板作轉動實 反應室之閥門 第二槽下方， 閥門裝置時遮 而封閉氣M

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