TWI840414B - 用於磊晶反應器的石英圓頂之淨化的視口 - Google Patents

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Abstract

本文描述的實施例大致上關於原位計量系統，該原位計量系統能夠持續提供對配置於處理腔室內的基板的不中斷的光學途徑。一個實施例中，提供一種用於基板處理腔室的計量系統。該計量系統包括：感測器觀察管件，耦接至基板處理腔室的石英圓頂；凸緣，從該感測器觀察管件之外表面徑向延伸；以及視口窗，配置在該凸緣上，該視口窗具有多個光譜範圍，該等光譜範圍是經選擇用於光學感測器，該光學感測器配置在該視口窗上或鄰近該視口窗。

Description

用於磊晶反應器的石英圓頂之淨化的視口
本文揭示的實施例大致上關於半導體製造設備的領域，並且更詳細而言，關於用於熱處理腔室的原位計量系統。
半導體處理設備用於薄膜及塗層的沉積、圖案化、與處理中。習知的基板處理腔室提供基座或一些等效的方式支撐基板以供處理。高溫製程經常使用石英圓頂（dome）和外部燈，以將基板的溫度快速升高至處理溫度。決定溫度/發射率的傳統方法涉及高溫計透過頂部石英圓頂瞄準基板。已觀察到，由於來自處理腔室內的製程的大量寄生沉積，頂部石英圓頂可能變得渾濁，這可能引發高溫計部分地或甚至完全地失去光學的途徑（access）。結果，使得測量打折。
因此，在本技術中需要提供一種設備，該設備能夠針對原位計量系統持續地提供清晰的光學途徑。
本文描述的實施例大致上關於原位計量系統，該原位計量系統能夠持續提供對配置於處理腔室內的基板的不中斷的光學途徑。一個實施例中，提供一種用於基板處理腔室的計量系統。該計量系統包括：感測器觀察管件（sensor view pipe），耦接至基板處理腔室的石英圓頂；凸緣（flange），從該感測器觀察管件之外表面徑向延伸；以及視口窗（viewport window），配置在該凸緣上，該視口窗具有多個光譜範圍，該等光譜範圍是經選擇用於光學感測器，該光學感測器配置在該視口窗上或鄰近該視口窗。
另一實施例中，提供一種設備。該設備包括：石英腔室，在該石英腔室中界定處理空間；基板支撐件，配置在該處理空間內；以及，感測器觀察管件，在該石英腔室和該光學感測器之間延伸。
在又一實施例中，提供一種基板處理腔室。該基板處理腔室包括：上圓頂；與該上圓頂相對的下圓頂；配置在該上圓頂和該下圓頂之間的側壁，其中該上圓頂、該下圓頂、和該側壁在其中界定處理空間；基板支撐件，配置在該處理空間中；感測器觀察管件，在光學感測器和該上圓頂之間延伸；視口窗，配置在該感測器觀察管件上方，該視口窗具有為該光學感測器選擇的多個光譜範圍，該光學感測器配置在該視口窗上或鄰近該視口窗；以及，輻射源，配置於該下圓頂下方。
本文描述的實施例大致上關於原位計量系統，該原位計量系統能夠持續提供對配置在處理腔室內的基板的不中斷的光學途徑。在需要有光學途徑的位置，在處理腔室的頂部石英圓頂製作多個開口。感測器觀察管件從該等開口向上延伸至光學感測器，該光學感測器配置在處理腔室的蓋板上方。該感測器觀察管件的上端連接到凸緣。具有選擇用於該光學感測器的光譜範圍的視口窗配置在該凸緣和該光學感測器之間。當視口窗抬升且遠離熱的處理腔室時，該窗能夠維持在一溫度，該溫度低於在處理腔室中流動的前驅物的分解溫度。於是，減少了該等前驅物在視口窗上的寄生沉積。也可使用其他方法增強原位計量系統的光學可及性（accessibility）。
圖1是根據本案揭示內容的實施例的處理腔室100的概略側視剖面圖。處理腔室100可以用於執行化學氣相沉積，例如磊晶沉積製程，然而處理腔室100可以用於蝕刻或其他製程。處理腔室100的非限制性範例包括CENTURA® RP EPI反應器，可由美國加州Santa Clara的應用材料公司購得。雖然本文描述的處理腔室100可用於實行本文所述的各種實施例，但來自不同製造商的其他適當設置的處理腔室也可以用於實行本案揭示內容中所述的實施例。
處理腔室100包括由諸如鋁或不鏽鋼之類的耐處理材料製成的殼體結構102。該殼體結構102包圍處理腔室100的各種功能元件，諸如石英腔室，該石英腔室包括上圓頂120、下圓頂122以及設置在上圓頂120和下圓頂122之間的側壁134。該上圓頂120、下圓頂122和側壁134在其中界定處理空間110。基板支撐件112配置在處理空間110內並且適於接收基板114。
將衍生自一或多種前驅物的反應性物種暴露於基板114的處理表面116以執行沉積製程。該沉積製程可以是在諸如矽晶圓的基板上的GaN或AlGaN磊晶生長。隨後從處理表面116移除來自沉積製程和反應性物種暴露的副產物。藉由一或多個輻射源（例如燈模組118）執行基板114及/或處理空間110的加熱。上圓頂120與下圓頂122由含石英的材料製成，該材料對於從燈模組118發射的輻射的波長而言實質上透明。在一個實施例中，燈模組118定位於下圓頂122的下方。如果需要，燈模組118也可定位於上圓頂120上方。
反應性物種透過氣體注射器設備128輸送到處理腔室100。在一個實施例中，該注射器設備128是一體的主體，其中形成有一個或多個導管和通道。藉由與真空源（圖中未示）流體連通的排氣組件130將處理副產物從處理空間110移除。前驅物反應物材料和其他氣體（諸如稀釋、淨化、和通氣（vent）之氣體）透過氣體注射器設備128進入處理空間110，並且透過排氣組件130離開處理空間110。
處理腔室100也包括多個襯墊132A-132D，該等襯墊132A-132D將側壁134與處理空間110隔開。注射器設備128包括注射器主體125，該注射器主體125中形成有複數個導管，諸如第一導管190、第二導管192。一或多種前驅物氣體分別從第一氣體源135A和第二氣體源135B透過第一導管190和第二導管192提供至處理空間110。例如，第一氣體源135A透過形成在注射器主體125中的第一導管190將第一氣體提供至處理空間110，而第二氣體源135B透過形成在注射器主體125中的第二導管192將第二氣體提供給處理空間110。該第一導管190和該第二導管192保持第一和第二氣體分離，直到氣體到達處理空間110為止。
來自第一氣體源135A和第二氣體源135B兩者的氣體行進通過形成在注射器主體125中的一或多個出口136A和136B。在一個實施例中，從第一氣體源135A提供的氣體行進通過出口136A，而從第二氣體源135B提供的氣體行進通過出口136B。冷卻劑流體經由冷卻劑源160提供給氣體注射器設備128。冷卻劑流體流動穿過形成在注射器主體125中的通道142。
形成在注射器主體125中的一或多個出口136A和136B耦接設置成用於層流流徑133A或噴射流徑133B的出口。出口136A和136B設置成提供有變化參數（諸如速度、密度、或組成）的個別或多重氣流。在其中配適多個出口136A和136B的一個實施例中，該等出口136A和136B以實質線性的排列方式沿著氣體注射器設備128的一部分（例如，注射器主體125）分佈，以提供一氣流，該氣流寬得足以實質上覆蓋基板114的直徑。例如，出口136A和136B中的每一者以至少一個線性群組排列，以提供大致上對應於基板直徑的氣流。作為替代方案，出口136A和136B排列在實質相同的平面或位高(level)上，以使氣體以平面、層流的樣式流動。
每一流徑133A、133B設置成以層流或非層流的方式流過處理腔室100的縱軸A”而到達排氣襯墊132D。流徑133A、133B一般是與軸線A’共面或是可相對於軸線A’斜置(angled)。例如，流徑133A、133B可相對於軸線A’向上或向下斜置。軸線A’實質上與處理腔室100的縱軸A”正交。流徑133A、133B終結(culminate)於排氣流徑133C中，且流入形成在排氣襯墊132A、132C中的氣室137。氣室137耦接排氣泵或真空泵(圖中未示)。
反射器板115配置在殼體結構102的蓋板103和上圓頂120之間位於上圓頂120上方。反射器板115設置成將從基板114發出的輻射反射回到基板114上。反射器板115能夠由諸如鋁或不鏽鋼的金屬製成。能夠藉由將反射器區域塗佈有高反射率的塗層(諸如金)而提高反射的效率。
可將反射器板115固定到夾鉗環117，該夾鉗環117配置在上圓頂120的邊緣上方。夾鉗環117可以具有冷卻導管107，該冷卻導管107設置成使諸如水之類的冷卻流體循環通過該夾鉗環117且圍繞該夾鉗環117。蓋板103可固定到反射器板115。如下文將更詳細討論，蓋板103和反射器板115可具有分裂設計，能夠在安裝期間透過時鐘（clocking）特徵快速分離/組合且對準上圓頂120。
反射器板115包括穿過該反射器板形成的複數個穿孔129。加壓流體源123含有諸如空氣的加壓流體，並且經由複數個入口通口124流體連通位於蓋板103和反射器板115之間的第一空間140。該加壓流體源123也流體連通位在反射器板115與上圓頂120之間的第二空間143。加壓流體經過反射器板115的複數個穿孔129抵靠上圓頂120的面向蓋板103的表面流動。
在製程期間，加壓流體撞擊上圓頂120的表面以冷卻上圓頂120。上圓頂120的冷卻防止材料在上圓頂120的面向處理空間110的一側上沉積。防止沉積至第一石英窗120上維持該窗的透明性且防止窗上有沉積材料堆積。該加壓流體穿過一個或多個排氣通口（圖中未示）離開上圓頂120和蓋板103之間的空間。原位計量系統
可藉由光譜分析從處理腔室中的基板或目標發射或反射的光之波長，進行對處理腔室的內部及/或基板的光學監視。經常將光學感測器定位在處理腔室的外部上且鄰近視口窗，處於對要監視的處理腔室中的基板或目標而言有利地點（vantage point）。處理腔室中的光學監視製程的一個問題是，反應氣體、聚合物、或物種能沉積在處理腔室的內表面（例如上圓頂和視口窗）上。上圓頂會有大量的寄生沉積並變得渾濁，這影響光學感測器的測量。儘管不時清潔或置換處理腔室的整個內表面（包括上圓頂），但光學感測器需要重新校正，且處理腔室需要重新認證，這是耗時且昂貴的。本案揭示內容的實施例提供了一種改良的原位計量系統，該系統能夠減少或消除在反應性環境中於視口窗上的寄生沉積的影響。各種方法將在下文更詳細地討論。
在一個實施例中，原位計量系統包括耦接上圓頂120的感測器觀察管件164。上圓頂120具有一或多個開口160，該等開口160形成為穿過上圓頂120的厚度。感測器觀察管件164耦接開口160，並且從該等開口160向上延伸穿過反射器板115的穿孔129且至蓋板103。感測器觀察管件164大致上沿著處理腔室100的縱軸A”延伸。每一感測器觀察管件164的下端圍繞相對應的開口160焊接且密封。每一感測器觀察管件164的上端具有凸緣166，該凸緣166從感測器觀察管件164的外表面徑向延伸。該凸緣166能為環形，其內徑等於或略小於感測器觀察管件164的外徑。可將凸緣166焊接到感測器訊窗164的上端。凸緣166的底表面可與蓋板103的上表面105實體接觸。凸緣166可以是石英或適合保持視口窗的任何材料，待下文討論。凸緣166可具有約8mm至約16mm（例如約12mm）的總厚度。感測器觀察管件164可以是直徑約為8mm至約15mm的藍寶石或石英管。感測器觀察管件164的管壁可具有約1mm至約5mm的厚度。
視口窗161配置在凸緣166上方並且由凸緣166所支撐。視口窗161具有多個光譜範圍，該等光譜範圍是針對光學感測器162而選，該光學感測器162配置在視口窗161上方。光學感測器162可與視口窗161分開一隙縫。一個範例中，光學感測器162由安裝至蓋板103的支架（圖中未示）支撐。在一些情況中，光學感測器定位在處理腔室100的外部上且鄰近視口窗161，且有對待觀察的處理腔室中的目標區域的有利地點。光學感測器162可以是能夠測量基板的溫度、基板的曲率、來自基板的反射率、或上述各者之任何組合的任何感測器。開口160排列在與光學感測器162的位置相對應的位置。光學感測器162可設置成在不同的基板半徑處有線性排列方式或有任何期望的排列方式，以在操作者關注的位置處監視基板的特性。雖然顯示五個開口160，但是取決於應用所期望的光學感測器162的數目，而考量更多或更少的開口160。
感測器觀察管件164和開口160容許來自光學感測器162的一個或多個聚焦光束穿過並且進入處理空間110。由於視口窗161是藉由長的感測器觀察管件164從熱處理腔室抬升，所以視口窗161能夠維持在非常低的溫度（例如，室溫），該溫度低於前驅物的分解溫度。因此，反應性前驅物或物種不會在視口窗161上發展寄生沉積。長的感測器觀察管件164能夠確保視口窗161維持清潔並且提供配置在處理腔室100內的基板114持續、不中斷的光學途徑。
圖2A是根據一個實施例的反射器板115的一部分的透視頂視圖。為了便於說明，省略蓋板103。在此實施例中，穿孔129沿著筆直的線呈線性排列成排而遍及反射器板115。反射器板115是分裂設計，該設計能夠沿著分裂線「B」分成兩個半部115a、115b。分裂線「B」是在兩個半部115a、115b之間形成的筆直線，在該處該兩個半部的端部表面以相對的關係相會。圖2A進一步顯示組裝兩個半部115a、115b之前的階段。當兩個半部115a、115b組裝時，分裂線「B」橫切過穿孔129的中心。在一些實施例中，提供了通風孔201以容許空氣流動，以提供對第二空間143的冷卻。
感測器觀察管件164的上端延伸穿過反射器板115的穿孔129達到反射器板115上方的高度「H1」。高度「H1」由反射器板115之頂表面與凸緣166之底表面之間的距離所界定。高度「H1」可在大約5英吋至大約40英吋的範圍內，例如在大約25英吋至大約35英吋的範圍內。為了便於說明，已經省略了視口窗161和光學感測器162。可以看出，用於感測器觀察管件164的穿孔129所具有的內徑大於感測器觀察管件164的外徑。尤其，每個穿孔129提供了在穿孔129之內表面和感測器觀察管件164之外表面之間的間隙。該間隙可以在例如約1mm至約3mm的範圍內。
圖2B是根據一個實施例的圖2A中所示的凸緣166的放大頂視圖。該凸緣166從感測器觀察管件164的外表面204徑向延伸。該凸緣166的上表面具有溝槽202，該溝槽的尺寸設置成接收諸如O形環的密封構件。一旦將O形環放置在溝槽202內之後，則將視口窗（圖中未示，諸如圖1中所示的視口窗161）安裝抵靠凸緣166，以提供介於凸緣166和視口窗之間的氣密密封。
雖然視口窗161的較低溫度不會促進前驅氣體的裂解，但是視口窗161仍可誘使氣相反應產物吸附到視口窗161的表面上。為了抑制吸附，能夠將淨化氣體引入感測器觀察管件164中，以防止或最小化氣相反應產物吸附到暴露於處理腔室100內部的視口窗161的表面上。適合的淨化氣體可包括氮氣、氦氣、氬氣、任何惰性氣體或非反應性氣體。
圖3說明根據本案揭示內容的一個實施例的原位計量系統的一部分的透視圖。就光學感測器162、視口窗161、凸緣166、感測器觀察管件164、和溝槽202而言，原位計量系統的設置與該原位計量系統實質相同。進一步將淨化氣體管302設置於感測器觀察管件164，以將淨化氣體引入感測器觀察管件164。該淨化氣體管302具有與淨化氣體源304流體連通的第一端以及連接到感測器觀察管件164之一側的第二端。質量流量控制器306配置在淨化氣體源304和淨化氣體管302之間，以控制淨化氣體的流量。將淨化氣體的分壓控制在一定範圍內，使得淨化氣體的流量僅足以保護視口窗，而不會高得干擾前驅物氣體的交叉流動及/或處理腔室100中的沉積製程。在範例實施例中，淨化氣體的分壓比腔室壓力高約0.5%至約10%，例如高約1%至約5%。腔室壓力的範圍可從約0.001托耳至約1000托耳，諸如約0.1托耳至約400托耳，例如約20托耳至約150托耳。然而，考量淨化氣體的分壓可以根據製程及在處理腔室中維持的腔室壓力而變化。
在一些實施例中，感測器觀察管件164能夠具有不同的內徑，以進一步最小化淨化氣流對處理腔室100內的製程的影響。圖4說明根據本案揭示內容的一個實施例的原位計量系統的一部分的剖面圖。在此實施例中，感測器觀察管件464包括具有不同內徑的上段402和下段404。淨化氣體管302耦接感測器觀察管件464的上段402。上段402和下段404可以形成為一體的主體或是焊接在一起的兩個感測器觀察管件。感測器觀察管件464具有沿著該感測器觀察管件464的縱軸的一致的外徑。上段402具有第一內徑D1，下段404具有第二內徑D2，該第二內徑D2大於第一內徑D1。透過考慮指派給視口窗161的光學感測器162的最小光學路徑寬度要求而設計第一內徑D1。較大的第二內徑D2容許來自淨化氣體管302的淨化氣體的流動在抵達開口（例如，圖1中所示的開口160)之前變慢，因為它在從上段402流到下段404時會徑向膨脹。於是，淨化流對處理腔室100中的前驅物氣流的影響減少。在一個實施例中，第一內徑D1對第二內徑D2的比為約1：1.1至約1：3的比，例如約1：1.5至約1：2。
圖5說明根據本案揭示內容的另一實施例的原位計量系統的一部分的剖面圖。在此實施例中，感測器觀察管件564包括上段502和下段504，該上段502和下段504沿著感測器觀察管件564的縱軸有不同的內徑和外徑。上段502和下段504可形成為一體的主體或是焊接在一起的兩個感測器視管。上段502具有第一內徑D3，下段504具有第二內徑D4，該第二內徑D4大於第一內徑D3。同樣，較大的第二內徑D4容許來自淨化氣體管302的淨化氣體的流動在抵達開口(例如，圖1中所示的開口160)之前變慢，因為當從上段502流至下段504時它會徑向膨脹。於是，淨化流對處理腔室100中的前驅物氣流的影響減少。在一個實施例中，第一內徑D3對第二內徑D4的比為約1：1.1至約1：3，例如約1：1.5至約1：2。
圖6說明根據一個實施例的原位計量系統的一部分的剖面圖，顯示凸緣666耦接感測器觀察管件664。凸緣666和感測器觀察管件664與上文針對圖1至圖5討論的凸緣和感測器觀察管件相似或相同，差異處是凸緣666的頂表面622相對於基板支撐件112的頂表面112a斜置(tilt)或傾斜(incline)。斜置或傾斜的頂表面622可藉由在凸緣666的底表面620中形成凹部618而獲得。該凹部618可以以一定角度鑽入底表面620中，使得凹部618的側壁624朝著凸緣666的一端漸縮或逐漸減小。因此，凹部618的底表面626呈與凸緣666的頂表面622或底表面620非平行的關係。凹部618的底表面626和感測器觀察管件664的頂表面628彼此平行。該角度容許感測器觀察管件664以一角度耦接凸緣666，導致凸緣666有斜置或傾斜的頂表面622。凸緣666的斜置頂表面622容許視口窗661（例如任何上文討論的視口窗）也以一角度放置在該凸緣上。這種成角度的排列方式能夠有助於原位計量系統接收從基板114反射回的大部分的光，同時來自反射性視口窗661的光反射重新定向到除配置在視口窗661上或鄰近的光學感測器之外的區域。已經觀察到，藉由有目的地以幾度的小角度偏移安裝視口窗661，可消除由視口窗661的光反射引起的噪訊。
一個實施例中，凹部618的底表面626沿著第一方向延伸，並且凸緣666的底表面620沿著第二方向延伸，且第一方向和第二方向之間的角度大約為1°至約10°，例如約2°至約7°。作為替代方案，一旦凸緣666耦接感測器觀察管件664且視口窗661配置在凸緣666上，則視口窗661的縱軸「E」相對於感測器觀察管件664的縱軸「F」呈角度「θ」，且角度「θ」能夠在大約91°至約100°之間，例如約92°至約97°之間。
凹部618具有直徑D5。凸緣666具有中心開口616，並且中心開口616的內徑D6小於凹部618的直徑D5。感測器觀察管件664具有外徑D7。凹部618的直徑D5可以等於或略小於感測器觀察管件664的外徑D7。可以使用任何適合的方法(例如焊接)將感測器觀察管件664耦接凸緣666。夾鉗670可用於將視口窗661固定到凸緣666。夾鉗670可以是兩個半圓環的形式，並且尺寸設計成環繞凸緣666和視口窗661的外表面。能夠使用緊固螺母或其他適合的方法將兩個半圓環鉸接在一起。夾鉗670可以由塑膠材料或不損害視口窗661的任何適合的材料製成。
圖7說明根據一個實施例的處理腔室100的一部分的頂視圖。為了便於討論，僅僅顯示上圓頂120、夾鉗環117、反射器板115和蓋板103。反射器板115和蓋板103由虛線表示。夾鉗環117配置成圍繞且覆蓋上圓頂120的邊緣。夾鉗環117和上圓頂120具有時鐘特徵，以幫助將夾鉗環117精確對準上圓頂120。在一個實施例中，在夾鉗環117的底部，例如在夾鉗環117的邊緣處，設置有突起物(nipple)或釘鉤722。可以在上圓頂120的邊緣處對上圓頂120設置相對應的凹口720。在安裝時，將上圓頂120配置在處理腔室100的側壁(例如，側壁134)上。然後使用突起物或釘鉤722和相對應的凹口720將夾鉗環117安裝到側壁上，以確保夾鉗環117在角度上與上圓頂120定向。該突起物或釘鉤722和相對應的凹口720經定位以確保開口160與配置在蓋板103上方的光學感測器(例如圖1所示的光學感測器162)對準。 可對反射器板115設置類似於突起物或釘鉤722的特徵724，以確保兩個半部115a、115b在組合時與上圓頂120有適當的角度上的走向，使得使分裂線「B」通過開口160中心。
本案揭示內容的各種實施例提供一種原位計量系統，該原位計量系統使用感測器觀察管件，該感測器觀察管件在石英圓頂的開口與設置在處理腔室的蓋板上方的光學感測器之間延伸。該感測器觀察管件允許視口窗抬升且遠離熱處理腔室。也能夠將淨化氣體引入感測器觀察管件，以抑制前驅物氣體吸附到視口窗上。因此，視口窗能夠維持在低溫且清潔，不會在視口窗上發展前驅物的寄生沉積。於是，獲得了至基板的持續、不中斷的光學途徑。
儘管前述內容是針對本案揭示內容的實施例，但是在不背離本案揭示內容的基本範疇的情況下，可設計所揭示的標的之其他和進一步的實施例，並且其範疇由所附的申請專利範圍所決定。
100:處理腔室
102:殼體結構
103:蓋板
105:上表面
107:冷卻導管
110:處理空間 112:基板支撐件 112a :頂部表面 114:基板 115:反射器板 115a、115b:半部 116:表面 117:夾鉗環 118:燈模組 120:上圓頂 122:下圓頂 123:加壓流體源 124:入口通口 125:注射器主體 128:氣體注射器設備 129:穿孔 130:排氣組件 132A-132D:襯墊 133A-133C:流徑 134:側壁 135A、135B:氣體源 136A、136B:出口 137:氣室 140:第一空間 142:通道 143:第二空間 160:冷卻劑源 161:視口窗 162:光學感測器 164:感測器觀察管件 166:凸緣 190:第一導管 192:第二導管 201:通氣孔 202:溝槽 204:外表面 302:淨化氣體管 304:淨化氣體源 306:質量流量控制器 402:上段 404:下段 464:感測器觀察管件 502:上段 504:下段 564:感測器觀察管件 616:開口 618:凹部 620:底表面 622:頂表面 624:側壁 626:底表面 628:頂表面 661:視口窗 664:感測器觀察管件 666:凸緣 670:夾鉗 702:凹口 722:釘鉤 724:特徵
可以透過參考其中一些於附圖中說明的實施例而獲得上文簡要總結的本案揭示內容的更詳細的描述，而能詳細地理解本案揭示內容的上述特徵的方式。然而，應注意，附圖僅說明本案揭示內容的典型實施例，因此不應被認為是對本案揭示內容的範圍的限制，因為本案揭示內容可以容許其他等效的實施例。
圖1是根據本案揭示內容的實施例的處理腔室的概略側視剖面圖。
圖2A是根據一個實施例的反射器板的一部分的透視頂視圖。
圖2B是根據一個實施例的圖2A中所示的凸緣166的放大頂視圖。
圖3說明根據本案揭示內容的一個實施例的原位計量系統的一部分的透視圖。
圖4說明根據本案揭示內容的一個實施例的原位計量系統的一部分的剖面圖。
圖5說明根據本案揭示內容的另一實施例的原位計量系統的一部分的剖面圖。
圖6說明根據一個實施例的原位計量系統的一部分的剖面圖，顯示耦接感測器觀察管件的凸緣。
圖7說明根據一個實施例的處理腔室的一部分的頂視圖。
為助於理解，只要可能則使用相同的元件符號指定圖式中共通的相同元件。考量一個實施例中揭示的元件可有益地用於其他實施例，而無須贅述。
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100:處理腔室
102:殼體結構
103:蓋板
105:上表面
107:冷卻導管
110:處理空間
112:基板支撐件
112a:頂部表面
114:基板
115:反射器板
115a、115b:半部
116:表面
117:夾鉗環
118:燈模組
120:上圓頂
122:下圓頂
123:加壓流體源
124:入口通口
125:注射器主體
128:氣體注射器設備
129:穿孔
130:排氣組件
132A-132D:襯墊
133A-133C:流徑
134:側壁
135A、135B:氣體源
136A、136B:出口
137:氣室
140:第一空間
142:通道
143:第二空間
160:冷卻劑源
161:視口窗
162:光學感測器
164:感測器觀察管件
166:凸緣
190:第一導管
192:第二導管
722:釘鉤

Claims (15)

  1. 一種設備，包括：一腔室，該腔室界定在該腔室中的一處理空間且包括至少一個石英構件；一基板支撐件，配置在該處理空間內；一視口窗(viewport window)，包括一第一縱軸；以及一感測器觀察管件，具有在該石英構件和該視口窗之間延伸的一第二縱軸，該第一縱軸與該第二縱軸形成介於約91度與100度之間的一角度。
  2. 如請求項1所述之設備，其中該腔室具有一或多個開口。
  3. 如請求項2所述之設備，其中該感測器觀察管件的一第一端耦接該開口，且該感測器觀察管件的一第二端耦接一凸緣。
  4. 如請求項3所述之設備，其中該凸緣具有一頂表面，該頂表面相對於該基板支撐件的一上表面以介於約91度與100度之間的一角度定位。
  5. 如請求項3所述之設備，進一步包括：一視口窗，配置在該凸緣上。
  6. 如請求項1所述之設備，進一步包括：一淨化氣體管，耦接該感測器觀察管件，其中該淨 化氣體管與一惰氣源流體連通。
  7. 如請求項1所述之設備，其中該感測器觀察管件包括一上段與一下段，該上段具有一第一內徑，該下段具有比該第一內徑大的一第二內徑。
  8. 如請求項7所述之設備，其中該上段與該下段是焊接在一起的兩個個別部件。
  9. 如請求項1所述之設備，其中：該石英構件包括下述至少一者：一上圓頂；及一下圓頂，與該上圓頂相對，且其中該感測器觀察管件在該上圓頂與一光學感測器之間延伸；且該腔室進一步包括：一側壁，配置在該上圓頂和該下圓頂之間；其中該視口窗配置在該感測器觀察管件上方；以及一輻射源，配置於該下圓頂下方。
  10. 如請求項9所述之設備，其中該上圓頂具有一或多個開口，且該感測器觀察管件的一第一端耦接該開口，且該感測器觀察管件的一第二端耦接一凸緣。
  11. 如請求項10所述之設備，其中該凸緣之一縱軸相對於該感測器觀察管件的一縱軸呈約91度至約100度的角度。
  12. 如請求項10所述之設備，其中該感測器觀察管件包括一上段與一下段，該上段具有一第一內徑，該下段具有比該第一內徑大的一第二內徑。
  13. 如請求項9所述之設備，進一步包括：一淨化氣體管，耦接該感測器觀察管件，其中該淨化氣體管與一惰氣源流體連通。
  14. 如請求項9所述之設備，進一步包括：一反射器板，配置在該上圓頂上方，該反射器板具有複數個穿孔；及一蓋板，配置在該反射器板上方，其中該感測器觀察管件向上延伸穿過該反射器板的該穿孔且延伸於該蓋板上方。
  15. 如請求項14所述之設備，其中該反射器板是一分裂設計，該分裂設計能夠沿著一分裂線分開成兩個半部。
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