TWI837533B - 十字雷射校正裝置及應用其之校正系統 - Google Patents
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Abstract
一種十字雷射校正裝置,用以校正一工具中心點,校正裝置包括一座標孔板、一組十字雷射感測器以及一旋轉平移傳動機構。座標孔板具有一圓孔中心點。此組十字雷射感測器設置於座標孔板上,用以產生相交於圓孔中心點的十字雷射線。其中,此組十字雷射感測器由第二馬達帶動,以第二馬達的中心點為圓心旋轉且圓孔中心點相對於第二馬達的中心點有偏軸設置。
Description
本發明是有關於一種校正系統,特別是有關於一種十字雷射校正裝置及應用其之校正系統及校正方法,適於校正一機械手臂的工具中心點。
用於機械手臂的工具例如有焊接工具、磨削工具或鑽孔工具等,當操作機械手臂進行焊接、研磨或鑽孔等任務時,需先對工具中心點(Tool Center Point, TCP)的座標進行校正,使工具能正常在預定路徑或軌跡上移動。
然而,對於不同廠牌的機械手臂而言,每家廠商都有各自的校正系統及校正器,且校正過程中校正器根據工具之移動而進行校正時需配合自家機械手臂的控制器進行雙向通訊。因而,不同廠牌的機械手臂之間無法共用同一個校正器,當使用不同廠牌的機械手臂時,由於習知的校正器需重新根據不同廠牌的機械手臂的通訊設定進行調整,造成效率不佳,也由於不同廠牌的機械手臂無法共用同一個校正器,導致校正成本相對增加。
本發明係有關於一種十字雷射校正裝置及應用其之校正系統,用以校正一機械手臂的工具中心點。
根據本發明之一方面,提出一種十字雷射校正裝置,包括一座標孔板、一組十字雷射感測器、一旋轉平移傳動機構。座標孔板具有一圓孔中心點。此組十字雷射感測器設置於座標孔板上,用以產生相交於圓孔中心點的十字雷射線。旋轉平移傳動機構用以帶動座標孔板及此組十字雷射感測器,旋轉平移傳動機構包括一第一馬達、單軸致動器、第二馬達及一連桿。第一馬達用以帶動單軸致動器,以產生第一方向上的平移運動。第二馬達設置在單軸致動器上,用以產生垂直於第一方向的旋轉運動。連桿連接於第二馬達與座標孔板之間,其中圓孔中心點相對於第二馬達的中心點有偏軸設置。
根據本發明之一方面,提出一種校正系統,用以校正一機械手臂的工具中心點,校正系統包括一座標孔板、一組十字雷射感測器、一旋轉平移傳動機構以及一處理單元。座標孔板具有一圓孔中心點。此組十字雷射感測器設置於座標孔板上,用以產生相交於圓孔中心點的十字雷射線。旋轉平移傳動機構用以帶動座標孔板及此組雷射感測器,旋轉平移傳動機構包括一第一馬達、一單軸致動器、一第二馬達及一連桿。第一馬達用以帶動單軸致動器,以產生第一方向上的平移運動。第二馬達設置在單軸致動器上,用以產生垂直於第一方向的旋轉運動。連桿連接於第二馬達與座標孔板之間,其中圓孔中心點相對於第二馬達的中心點有偏軸設置。處理單元用以接收機械手臂的初始位置資訊、第一馬達及第二馬達的二旋轉角度訊號並控制第一馬達及第二馬達轉動。
為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解,下文特舉實施例,並配合所附圖式詳細說明如下:
下面將結合本申請實施例中的附圖,對本申請實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本申請一部分實施例,而不是全部的實施例。基於本申請中的實施例,本領域具有通常知識者在顯而易知的前提下所獲得的所有其它實施例,都屬於本申請保護的範圍。
此外,所描述的特徵、結構或特性可以以任何合適的方式結合在一個或更多實施例中。在下面的描述中,提供許多具體細節從而給出對本申請的實施例的充分理解。然而,本領域具有通常知識者將意識到,可以實踐本申請的技術方案而沒有特定細節中的一個或更多,或者可以採用其它的方法、裝置、步驟等。在其它情況下,不詳細示出或描述公知方法、裝置、實現或者操作以避免模糊本申請的各方面。
請參照第1圖及第2A至2C圖,第1圖繪示依照本發明一實施例的校正系統100的示意圖,第2A至2C圖分別繪示依照本發明一實施例的十字雷射校正裝置110的示意圖。校正系統100包括十字雷射校正裝置110以及一處理單元120。處理單元120用以控制十字雷射校正裝置110的二馬達旋轉,並記錄及接收馬達旋轉的二旋轉角度訊號及十字雷射感測器113的二遮斷訊號,以校正機械手臂101的工具中心點E座標。處理單元120例如為微處理器、微控制器或由積體電路元件組成的工業電腦等。
在一實施例中,十字雷射校正裝置110包括一座標孔板111、一組十字雷射感測器113以及一旋轉平移傳動機構130。十字雷射感測器113設置於座標孔板111上,而座標孔板111設置於旋轉平移傳動機構130上,且旋轉平移傳動機構130可同步帶動座標孔板111及此組十字雷射感測器113進行旋轉或進行平移。在本實施例中,座標孔板111的圓孔中心點O
s與此組十字雷射感測器113產生的十字雷射線114可組成十字雷射座標系(X
s, Y
s, Z
s),而旋轉平移傳動機構130的第二馬達具有一第二馬達中心點座標系(X
m, Y
m, Z
m),其座標系原點為第二馬達的中心點O
m;十字雷射校正裝置110可由第二馬達帶動,以第二馬達的中心點為圓心公轉及自轉,並可利用十字雷射座標系(X
s, Y
s, Z
s)及第二馬達中心點座標系(X
m, Y
m, Z
m)之間的偏軸設置關係來校正機械手臂101的工具中心點(即端部E)座標。
廣義而言,工具102泛指組裝在機械手臂101上的任何物件包括夾具、焊槍、刀具、磨具等,而工具中心點是指工具102最末端的點(即端部E)。
請參照第2A及2B圖,座標孔板111例如具有一板體112、一圓孔115以及一圓孔中心點O
s。圓孔115區域為十字雷射感測器113的感測範圍,圓孔中心點O
s位於圓孔115的中心,圓孔中心點O
s相對於第二馬達中心點座標系的座標為已知。如第2A圖所示,十字雷射感測器113設置於板體112上,並產生相交於圓孔中心點O
s(即圓孔115的中心)的十字雷射線114。當機械手臂101移動工具102至十字雷射感測器113的感測範圍內時,工具102隨著十字雷射線114旋轉與之相交以產生至少一組遮斷訊號,並根據遮斷訊號對應的第二馬達旋轉角度訊號以決定工具中心點的座標。在本實施例中,一組遮斷訊號為四次遮斷訊號,但本發明不以此為限。有關工具中心點的校正方法,請參照後續第4A至4E圖的說明。
請參照第2A及2B圖,旋轉平移傳動機構130可包括一第一馬達131、一單軸致動器132、一聯軸器133、一第二馬達138以及一連桿139。聯軸器133安裝於第一馬達131與單軸致動器132之間,單軸致動器132由第一馬達131提供轉矩以產生第一方向D1(即Z軸方向)上的平移運動。第二馬達138設置於單軸致動器132上以在第一方向D1上移動,且第二馬達138可產生垂直於第一方向D1上的旋轉運動D2。
在本實施例中,連桿139連接於第二馬達138與座標孔板111之間,第二馬達138可帶動連桿139及座標孔板111同步進行圓周運動(旋轉運動)。由於座標孔板111、連桿139的結構、長度及圓孔中心點O
s偏離第二馬達138的中心點O
m的距離在設計當初為已知,因此座標孔板111的圓孔中心點O
s相對於第二馬達138中心點座標系的座標可經由座標系轉換而得知。
請參照第2C圖,座標孔板111的圓孔中心點O
s相對於第二馬達138的中心點O
m具有一旋轉半徑r
s,以使圓孔中心點O
s以第二馬達138的中心點O
m為圓心進行圓周運動,在本實施例中,圓孔中心點O
s相對於第二馬達138的中心點O
m有偏離預定距離,亦即圓孔中心點O
s相對於第二馬達138的中心點O
m有偏軸設置(off-axis setting)。此外,座標孔板111的圓孔115具有一已知的感測半徑R,感測半徑R可大於旋轉半徑r
s的兩倍或更多。較佳為,感測半徑R例如大於等於旋轉半徑r
s的四倍。
另外,請參照第2C圖,假設十字雷射線114的感測範圍內具有一待測的第一點P1,第一點P1相對於第二馬達138的中心點O
m具有一未知距離r以及一未知方位角(角度
)。當座標孔板111以第二馬達138的中心點O
m為圓心進行逆時鐘圓周運動,可以用相對運動想像為假設座標孔板111不動,待測的第一點P1以第二馬達138的中心點O
m為圓心進行順時鐘圓周運動。為了計算待測的第一點P1相對於第二馬達138的中心點O
m的距離r及方位角(角度
),以下以圖例說明本發明的校正裝置計算待測的第一點P1相對於第二馬達138中心點O
m座標系的座標的具體實施方法,但本發明不以此為限。
請參照第1、2A、2B及3圖,其中第3圖繪示依照本發明一實施例的工具中心點的校正方法的流程圖。首先,步驟S30,移動機械手臂101使工具102位於十字雷射線114的感測範圍內。步驟S32,第二馬達138帶動十字雷射感測器113自轉一圈,計算出工具102上的第一點P1相對於第二馬達138中心點O
m座標系的座標。步驟S34,第一馬達131驅動單軸致動器132帶動十字雷射感測器113向上(或向下)平移後,再由第二馬達138帶動十字雷射感測器113自轉一圈,計算出工具102上的第二點P2相對於第二馬達138中心點O
m座標系的座標。步驟S36,由工具102上的兩點座標與機械手臂101的初始位置資訊計算出初始的工具中心點T
o的座標。步驟S38,設定初始的工具中心點T
o的座標到機械手臂101的控制器後,移動機械手臂101使工具102的初始的工具中心點T
o位於十字雷射線114的圓孔中心點O
s上,再修正工具102的姿態角度,使工具102垂直於十字雷射感測器113的感測平面。步驟S40,第一馬達131驅動單軸致動器132帶動十字雷射感測器113向下平移,使工具102由遮斷十字雷射線114到不遮斷十字雷射線114,並根據移動的距離沿著垂直軸修正初始的工具中心點T
o的座標,以得到最終的工具中心點(即端部E)的座標。
請參照第4A至4E圖,其繪示旋轉十字雷射感測器113自轉一圈以計算工具102上的第一點 P1相對於第二馬達中心點O
m座標系的座標位置的示意圖。在第4A圖中,當移動機械手臂101使工具102位於十字雷射線114的感測範圍內時(相當於步驟S30),停止移動機械手臂101,讀取並記錄機械手臂101的初始位置資訊至處理單元120,其中,第一點P1相對於第二馬達138中心點O
m座標系的座標為未知,圓孔中心點O
s相對於第二馬達138中心點O
m座標系的座標為已知,第二馬達138中心點O
m座標系相對於機械手臂101基座(base)座標系的座標系轉換關係為已知,且工具102上的第一點P1位於起始點
上;接著,在第4B圖中,旋轉十字雷射感測器113的座標系(X
s, Y
s, Z
s)直到十字雷射線114的X
s軸與工具102相交在第一遮斷點
,此時,十字雷射感測器113產生一第一遮斷訊號,並由處理單元120記錄十字雷射感測器113的第一遮斷訊號及第二馬達138的旋轉角度
。在第4C圖中,繼續旋轉十字雷射感測器113的座標系(X
s, Y
s, Z
s)直到十字雷射線114的Y
s軸與工具102相交在第二遮斷點
,此時,十字雷射感測器113產生一第二遮斷訊號,並由處理單元120記錄十字雷射感測器113的第二遮斷訊號及第二馬達138的旋轉角度
。在第4D圖中,繼續旋轉十字雷射感測器113的座標系(X
s, Y
s, Z
s)直到十字雷射線114的X
s軸再次與工具102相交在第三遮斷點
,此時,十字雷射感測器113產生一第三遮斷訊號,並由處理單元120記錄十字雷射感測器113的第三遮斷訊號及第二馬達138的旋轉角度
。在第4E圖中,繼續旋轉十字雷射感測器113的座標系(X
s, Y
s, Z
s)直到十字雷射線114的Y
s軸再次與工具102相交在第四遮斷點
,此時,十字雷射感測器113產生一第四遮斷訊號,並由處理單元120記錄十字雷射感測器113的第四遮斷訊號及第二馬達138的旋轉角度
。
透過上述的方式,處理單元120可得到第一組遮斷訊號及第二馬達138的旋轉角度訊號(
),並藉由第一組第二馬達138的旋轉角度訊號(
)計算出工具102上的第一點P1相對於第二馬達138中心點O
m座標系的座標。
請參照第5圖,其繪示在十字雷射感測器113的座標系(X
s, Y
s, Z
s)中以相對運動(十字雷射感測器113不動,第一點P1動)來觀察第一點P1(即起始點
)與十字雷射線114依序相交於第一遮斷點
、第二遮斷點
、第三遮斷點
、第四遮斷點
的移動軌跡圖。起始點
相對於第二馬達138的中心點O
m具有一待定距離r以及一待定方位角
,第一遮斷點
相對於起始點
相差一第一角度
,第二遮斷點
相對於起始點
相差一第二角度
,第三遮斷點
相對於起始點
相差一第三角度
,第四遮斷點
相對於起始點
相差一第四角度
。當座標孔板111以第二馬達138的中心點O
m為圓心進行逆時鐘圓周運動,可以用相對運動想像為假設座標孔板111不動,工具102上的第一點P1的移動軌跡是以第二馬達138的中心點O
m為圓心進行順時鐘圓周運動,透過下列的移動軌跡方程式求解可得到工具102上的第一點P1相對於第二馬達138中心點O
m座標系的座標:
起始點
位置表示為:
第一遮斷點
位置表示為:
第二遮斷點
位置表示為:
第三遮斷點
位置表示為:
第四遮斷點
位置表示為:
由於
與
相對於第二馬達138中心點O
m座標系的x座標相等(皆位於X
s軸上),可求得工具102上的第一點P1(即起始點
)相對於第二馬達138的中心點O
m的方位角,其中角度
表示為:
---式[1]
由於
與
相對於第二馬達138中心點O
m座標系的y座標相等(皆位於Y
s軸上),可求得工具102上的第一點P1(即起始點
)相對於第二馬達138的中心點O
m的方位角,其中角度
表示為:
---式[2]
由式[1]及式[2]皆可求得起始點
相對於第二馬達138的中心點O
m的方位角,故取平均得到最終的方位角
。也就是計算出工具102上的第一點P1相對於第二馬達138的中心點O
m的方位角
。
此外,由於
與
相對於第二馬達138中心點O
m座標系的x座標相等(皆位於X
s軸上),
與
相對於第二馬達138中心點O
m座標系的y座標相等(皆位於Y
s軸上),
與
相對於第二馬達138中心點O
m座標系的x座標相等(皆位於X
s軸上),
與
相對於第二馬達138中心點O
m座標系的y座標相等(皆位於Y
s軸上),故可分別得到式[3]至式[6]如下:
---式[3],其中
為圓孔中心點O
s相對於第二馬達138中心點O
m座標系的x軸偏移量
---式[4],其中
為圓孔中心點O
s相對於第二馬達138中心點O
m座標系的y軸偏移量
---式[5]
---式[6]
由式[3]至式[6] 皆可求得起始點
相對於第二馬達138的中心點O
m的距離,故取平均得到最終的距離
。也就是計算出工具102上的第一點P1相對於第二馬達138的中心點O
m的距離
。
同樣,當第一馬達131驅動單軸致動器132帶動十字雷射感測器113向上(或向下)平移後,工具102上與十字雷射感測器113的感測平面所相交的點位置改變(如第6A圖所示由第一點P1移動至第二點P2)並重複上述第4A至4E圖的步驟,使十字雷射感測器113自轉一圈,並以相對運動(十字雷射感測器113不動,第二點P2動)來觀察新的起始點
與十字雷射線114依序相交於第一遮斷點
、第二遮斷點
、第三遮斷點
、第四遮斷點
的移動軌跡。透過上述移動軌跡方程式求解的方式,處理單元120可藉由第二組第二馬達138的旋轉角度訊號(
)計算出工具102上的第二點P2相對於第二馬達138中心點O
m座標系的座標,與計算第一點P1相對於第二馬達138中心點O
m座標系的座標的做法相似,在此不再贅述。以上敘述相當於步驟S32與步驟S34。
請參照第6A圖,其繪示工具102上的第一點P1及第二點P2的示意圖。如步驟S36,當工具102上的第一點P1座標、第二點P2座標與機械手臂101的初始位置資訊為已知時,處理單元120可根據座標系轉換計算出初始的工具中心點T
o的座標(T
o在此與第二點P2為同一點)。接著,在步驟S38中,設定初始的工具中心點T
o的座標到機械手臂101的控制器後,移動機械手臂101使工具102的初始的工具中心點T
o位於十字雷射線114的圓孔中心點O
s上。
請參照第6B圖,其繪示經過姿態角度修正後的工具102的示意圖。在步驟S38中,修正工具102的姿態角度,使工具102垂直於十字雷射感測器113的感測平面(保持在垂直軸Z軸上)。接著,在步驟S40中,十字雷射感測器113向下平移,使工具102由遮斷十字雷射線114到不遮斷十字雷射線114,並根據移動的距離(由P2移動至端部E的平移量e)修正初始的工具中心點T
o的座標,以得到最終的工具中心點E的座標。
本發明上述實施例之十字雷射校正裝置及應用其之校正系統,可針對不同廠牌的機械手臂上的工具進行工具中心點校正,且處理單元進行校正時不需與機械手臂的控制器進行雙向通訊。因此,不同廠牌的機械手臂之間可以共用本實施例的十字雷射校正裝置,並採用相同的校正流程進行校正,不受到廠牌的限制,使用上更為方便且節省校正成本。
綜上所述,雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神以及範圍內,當可作各種之更動與潤飾。因此,本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100:校正系統
101:機械手臂
102:工具
110:十字雷射校正裝置
111:座標孔板
112:板體
113:十字雷射感測器
114:十字雷射線
115:圓孔
120:處理單元
130:旋轉平移傳動機構
131:第一馬達
132:單軸致動器
133:聯軸器
138:第二馬達
139:連桿
D1:第一方向
D2:旋轉運動
O
s:圓孔中心點
O
m:第二馬達的中心點
r
s:旋轉半徑
R:感測半徑
r:相對於第二馬達中心點座標系原點的距離
:相對於第二馬達中心點座標系的方位角
P1:工具上的第一點
P2:工具上的第二點
T
o:初始的工具中心點
E:端部(最終的工具中心點)
e:平移量
:起始點
:第一遮斷點
:第二遮斷點
:第三遮斷點
:第四遮斷點
第1圖繪示依照本發明一實施例的校正系統的示意圖;
第2A至2C圖繪示依照本發明一實施例的十字雷射校正裝置的示意圖;
第3圖繪示依照本發明一實施例的工具中心點的校正方法的流程圖;
第4A至4E圖繪示旋轉十字雷射感測器一圈以計算工具上的任一點於感測範圍內相對於第二馬達中心點座標系的座標位置的示意圖;
第5圖繪示在十字雷射感測器的座標系中以相對運動來觀察工具上的任一點於感測範圍內的移動軌跡圖,包括起始點、第一遮斷點、第二遮斷點、第三遮斷點、第四遮斷點;
第6A圖繪示工具上的第一點之位置及第二點之位置的示意圖;
第6B圖繪示經過姿態角度修正後的工具的示意圖。
100:校正系統
101:機械手臂
102:工具
110:十字雷射校正裝置
111:座標孔板
113:一組十字雷射感測器
120:處理單元
130:旋轉平移傳動機構
D1:第一方向
D2:旋轉運動
E:端部(最終的工具中心點)
Claims (16)
- 一種十字雷射校正裝置,包括: 一座標孔板,具有一圓孔中心點; 一組十字雷射感測器,設置於該座標孔板上,用以產生相交於該圓孔中心點的十字雷射線;以及 一旋轉平移傳動機構,用以帶動該座標孔板及該組十字雷射感測器,包括: 一第一馬達,用以帶動一單軸致動器,以產生第一方向上的平移運動; 一第二馬達,固定在該單軸致動器上,用以產生垂直於該第一方向上的旋轉運動;及 一連桿,連接於該第二馬達與該座標孔板之間, 其中,該圓孔中心點相對於該第二馬達的中心點有偏軸設置。
- 如請求項1所述的校正裝置,其中該組十字雷射感測器由該第二馬達帶動,以該第二馬達的中心點為圓心公轉及自轉,以決定一工具與該十字雷射線的感測平面所相交的一第一點相對於該第二馬達中心點座標系的座標。
- 如請求項2所述的校正裝置,其中該組十字雷射感測器由該第二馬達帶動,以該第二馬達的中心點為圓心旋轉一圈,該工具隨著該十字雷射線旋轉與該十字雷射線相交以產生第一組遮斷訊號,及對應的第一組第二馬達旋轉角度,以供計算該工具上與該十字雷射線的感測平面相交的該第一點相對於該第二馬達中心點座標系的座標。
- 如請求項3所述的校正裝置,其中當該座標孔板及該組十字雷射感測器由該第一馬達驅動該單軸致動器帶動向上或向下平移後,該十字雷射感測器再由該第二馬達帶動,以該第二馬達的中心點為圓心旋轉一圈,該工具隨著該十字雷射線旋轉與該十字雷射線相交以產生第二組遮斷訊號,及對應的第二組第二馬達旋轉角度,以供計算該工具上與該十字雷射線的感測平面相交的一第二點相對於該第二馬達中心點座標系的座標。
- 如請求項3所述的校正裝置,其中該工具上的該第一點與該十字雷射線依序相交於一第一遮斷點、一第二遮斷點、一第三遮斷點以及一第四遮斷點上,以相對運動來描述該第一遮斷點、該第二遮斷點、該第三遮斷點以及該第四遮斷點的移動軌跡方程式來求解該第一點座標。
- 如請求項4所述的校正裝置,其中該工具上的該第二點與該十字雷射線依序相交於一第一遮斷點、一第二遮斷點、一第三遮斷點以及一第四遮斷點上,以相對運動來描述該第一遮斷點、該第二遮斷點、該第三遮斷點以及該第四遮斷點的移動軌跡方程式來求解該第二點座標。
- 一種校正系統,用以校正一機械手臂的工具中心點,該校正系統包括: 一座標孔板,具有一圓孔中心點; 一組十字雷射感測器,設置於該座標孔板上,用以產生相交於該圓孔中心點的十字雷射線;以及 一旋轉平移傳動機構,用以帶動該座標孔板及該組十字雷射感測器,包括: 一第一馬達,用以帶動一單軸致動器,以產生第一方向上的平移運動; 一第二馬達,固定在該單軸致動器上,用以產生垂直於該第一方向上的旋轉運動;及 一連桿,連接於該第二馬達與該座標孔板之間,其中,該圓孔中心點相對於該第二馬達的中心點有偏軸設置;以及 一處理單元,用以接收該機械手臂的初始位置資訊、該第一馬達及該第二馬達的二旋轉角度訊號,並控制該第一馬達及該第二馬達轉動。
- 如請求項7所述的校正系統,其中該組十字雷射感測器由該第二馬達帶動,以該第二馬達的中心點為圓心公轉及自轉,以決定一工具與該十字雷射線的感測平面所相交的一第一點相對於該第二馬達中心點座標系的座標。
- 如請求項8所述的校正系統,其中當該機械手臂移動該工具至該十字雷射線的感測範圍內時,該組十字雷射感測器由該第二馬達帶動,以該第二馬達的中心點為圓心旋轉一圈,該工具隨著該十字雷射線旋轉與該十字雷射線相交以產生第一組遮斷訊號,及對應的第一組第二馬達旋轉角度,以供計算該工具上與該十字雷射線的感測平面相交的該第一點相對於該第二馬達中心點座標系的座標。
- 如請求項9所述的校正系統,其中當該座標孔板及該組十字雷射感測器由該第一馬達驅動該單軸致動器帶動向上或向下平移後,該十字雷射感測器再由該第二馬達帶動,以該第二馬達的中心點為圓心旋轉一圈,該工具隨著該十字雷射線旋轉與該十字雷射線相交以產生第二組遮斷訊號,及對應的第二組第二馬達旋轉角度,以供計算該工具上與該十字雷射線的感測平面相交的一第二點相對於該第二馬達中心點座標系的座標。
- 如請求項10所述的校正系統,其中該處理單元根據該工具上的該第一點相對於該第二馬達中心點座標系的座標、該第二點相對於該第二馬達中心點座標系的座標與該機械手臂的初始位置資訊計算出一初始的工具中心點的座標。
- 如請求項11所述的校正系統,更包括設定該初始的工具中心點的座標到機械手臂的控制器後,移動該機械手臂,使該工具的該初始的工具中心點位於該圓孔中心點上,再修正該工具的姿態角度。
- 如請求項12所述的校正系統,其中該工具的姿態角度垂直於該十字雷射線的感測平面。
- 如請求項13所述的校正系統,其中該第一馬達驅動該單軸致動器帶動該組十字雷射感測器向下平移,使該工具從遮斷該十字雷射線到不遮斷該十字雷射線,且根據移動的距離修正該初始的工具中心點的座標,以得到一最終的工具中心點的座標。
- 如請求項9所述的校正系統,其中該工具上的該第一點與該十字雷射線依序相交於一第一遮斷點、一第二遮斷點、一第三遮斷點以及一第四遮斷點上,以相對運動來描述該第一遮斷點、該第二遮斷點、該第三遮斷點以及該第四遮斷點的移動軌跡方程式來求解該第一點座標。
- 如請求項10所述的校正系統,其中該工具上的該第二點與該十字雷射線依序相交於一第一遮斷點、一第二遮斷點、一第三遮斷點以及一第四遮斷點上,以相對運動來描述該第一遮斷點、該第二遮斷點、該第三遮斷點以及該第四遮斷點的移動軌跡方程式來求解該第二點座標。
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US20160016317A1 (en) | 2011-03-14 | 2016-01-21 | Matthew E. Trompeter | Robotic work object cell calibration method |
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