TWI836153B - 除污系統 - Google Patents
除污系統 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI836153B TWI836153B TW109136197A TW109136197A TWI836153B TW I836153 B TWI836153 B TW I836153B TW 109136197 A TW109136197 A TW 109136197A TW 109136197 A TW109136197 A TW 109136197A TW I836153 B TWI836153 B TW I836153B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- mist
- decontamination
- liquid
- primary
- aforementioned
- Prior art date
Links
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 title claims abstract description 289
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 title claims abstract description 288
- 239000003595 mist Substances 0.000 claims abstract description 391
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 178
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 22
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 16
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 6
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 claims 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 abstract description 13
- 230000005494 condensation Effects 0.000 abstract description 13
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 abstract description 8
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 251
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 35
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 17
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 15
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 238000011194 good manufacturing practice Methods 0.000 description 2
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 101001121408 Homo sapiens L-amino-acid oxidase Proteins 0.000 description 1
- 102100026388 L-amino-acid oxidase Human genes 0.000 description 1
- 101100233916 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) KAR5 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000004666 bacterial spore Anatomy 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 1
- 230000036512 infertility Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000010200 validation analysis Methods 0.000 description 1
Abstract
(課題)
大口徑的管道或防止冷凝的加熱器等大型設備,並無需要;對於複數的除污目標房間,每一個房間,可以有長距離的配管,在供給配管中,除污液體不會殘留成為死液,並且,在每一個房間,可以供給必要的適當數量的除污液體,由於在超音波振盪器不會發生故障,因此可以提供能夠達到除污液體的高效應用的除污系統。
(解決方法)
使用除污用薄霧、將各除污目標房間除污的除污系統中,具備壓縮空氣產生裝置和除污液體供給裝置,對於各除污目標房間,分別具備1次薄霧產生裝置和2次薄霧產生裝置,連通1次薄霧產生裝置和2次薄霧產生裝置1次薄霧供給配管的輸送距離,比連通除污液體供給裝置和1次薄霧產生裝置的除污液體供給配管的輸送距離更長,以此為特徵。
Description
本發明係有關於在隔離室(isolator)、無菌隔離系統(restricted access barrier system;RABS)、無菌室(aseptic room)等、或其附屬的通過室(pass room)或通過箱(pass box)等的室內,產生除污用的薄霧(mist)進行除污的除污系統(decontamination system)。
【技術背景】
在製造藥品或食品的製造現場、或者在手術室等的醫療現場,維持室內的無菌狀態是很重要的。特別是關於作為製造藥品的工作間的無菌室的除污,必須完成符合優良製造規範(GMP;Good Manufacturing Practice)的高度除污確效(decontamination validation)。
近年來,關於要求無菌環境的工作間《以下稱為『除污目標房間』》的除污,廣泛採用過氧化氫氣體(hydrogen peroxide gas),此過氧化氫氣體具有強大的殺菌效用,價格便宜又容易取得,並且,最後分解成氧和水,作為對環境友善的除污氣體很有效。但是,過氧化氫氣體,過去一直使用在單個的除污目標房間,例如無菌室、隔離室、套手工作箱(glove box)等小空間的除污;另一方面,大空間的除污目標房間或複數的除污目標房間,對於使用過氧化氫氣體,又有必須能供給大量穩定的預定濃度的過氧化氫氣體的問題。
像這樣,為了從除污氣體產生裝置供給大量的過氧化氫氣體至除污目標房間,又有必須是大口徑的大型管道建造(duct construction)、和保溫管道的加熱器設備(heater equipment)、和耐腐蝕的材質的管道的問題。
特別是,在藥品製造現場,除污目標房間不限於一個房間的情形很多,複數的除污目標房間同時除污有其需要,在這種情形時,在每個除污目標房間裝設除污液體供應裝置或除污氣體產生裝置、又在每個除污氣體產生裝置進行管道建造是沒有效率的。因此,對於複數的除污目標房間,從一部除污氣體產生裝置配設長距離的管道,由該管道再配設分支管道至各除污目標房間,可以同時進行除污;於此情形時,在管道的分支部分,容易產生冷凝(condensation),還有,由於從除污氣體產生裝置到各地距離不同,又發生沒有辦法正確把握個別供給多少數量的過氧化氫氣體的問題。
另一方面,過氧化氫氣體的除污效果,係藉由在除污目標部位的表面冷凝過氧化氫水的冷凝膜,此已揭示於下述專利文獻1中。因此,本發明人團隊,找出以過氧化氫水的細微薄霧(mist)《以下稱為『過氧化氫薄霧』》取代過氧化氫氣體,供給除污目標房間,可以用更少量的除污劑而有效地除污,提出下述專利文獻2等的建議。
因此,藉由供給過氧化氫薄霧至一個房間或複數的除污目標房間,可以設想更準確且有效地對每個房間除污。但是,即使是這種情形下,在每個除污目標房間裝設裝設除污液體供應裝置和薄霧產生裝置《超音波霧化器(ultrasonic atomizer)等》、在每個房間管理除污液體的供給量或除污條件,是沒有效率的。因此,對於複數的除污目標房間,從一部除污液體產生裝置配設長距離的供給配管,從該供給配管供給除污液體至個別裝設在各除污目標房間的薄霧產生裝置《可以在各房間設置小型高性能的超音波霧化器》,可以想見:每個除污目標房間可以同時產生過氧化氫薄霧、同時進行除污。
【專利文獻】
【專利文獻1】特公昭61-4543號公報
【專利文獻2】特願2019-62333號
[發明所要解決的問題]
於此情形,為了要充分供應除污液體至各房間的超音波霧化器,在長距離的供給配管中,除污液體殘留而成為死液(dead liquid),沒有效率;每個房間的給液量的管理也不容易,產生以上的問題。另一方面,考量有效率地使用除污液體,希望供應必要的最小限量的除污液體至超音波霧化器的話,在除污液體供應不足的情形時,欠缺除污液體,作為超音波霧化器裝置的心臟的超音波振盪器(ultrasonic oscillator),發生直接關聯的故障的問題。
本發明,對應前述的各種問題,無需大口徑的管道或防止冷凝的加熱器等的大型設備,對於複數的除污目標房間,可以配設長距離的配管至每個房間,配管中的除污液體不會變成死液,並且,由於可以供給每個房間必須的適當正確量的除污液體,超音波振盪器不會發生故障,預期能夠有效率地利用除污液體,本發明以提供此種除污系統為目的。
[解決課題所採取的方法]
針對前述課題的解決,本發明團隊,使用小口徑的供應配管,將過氧化氫水在壓縮空氣(compressed air)中混合的1次薄霧,以各對應供給配管供給至各除污目標房間,在各除污目標房間的近旁或室內,將該1次薄霧做氣霧分離,分離後的過氧化氫水於超音波霧化器做成細微的2次薄霧,藉由此方法,完成了本發明。
亦即,本發明相關之除污系統,依據申請專利範圍第1項,
係對於1或2以上的除污目標房間《R1~Rn》,使用除污用薄霧,去除各除污目標房間內部的污染的除污系統《100》,
具備產生壓縮空氣的壓縮空氣產生裝置《10》、和供應構成除污用薄霧的除污液體的除污液體供給裝置《20》,同時
對於各除污目標房間,分別做成具備:將前述壓縮空氣和前述除污液體作氣體液體混合、產生1次薄霧的1次薄霧產生裝置《E1~En》、和將1次薄霧分離氣液後的除污液體變換成細微的2次薄霧的2次薄霧產生裝置《M1~Mn、Mx、My》、和連通前述壓縮空氣產生裝置到前述1次薄霧產生裝置之間的空氣供給配管《AL1~ALn》、和連通前述除污液體供給裝置到前述1次薄霧產生裝置之間的除污液體供給配管《LL1~LLn》、和連通前述1次薄霧產生裝置到前述2次薄霧產生裝置的1次薄霧產供給配管《ML1~MLn、MLx、MLy》,
前述2次薄霧產生裝置,具有1次薄霧接收器(acceptor)《R1~Rn、Rx、Ry》、和超音波霧化器《A1~An、Ax、Ay》,
前述1次薄霧接收器,具備排氣口(air vent),係前述1次薄霧供給配管為媒介而供應的1次薄霧,將經分離氣液後的空氣排放至外部的排氣口(air vent)《Rx2、Ry2》,
前述超音波霧化器,具備:壓電振動器(piezoelectric vibrator)《Ax2、Ay2》和靠該壓電振動器的振動、將已分離氣液後的除污液體霧化的裝設為貫通表面背面的複數細微孔的多孔振動板《Ax1、Ay1》,以此為特徵。
又,本發明,依據申請專利範圍第2項,於申請專利範圍第1項所述之除污系統中,
前述壓縮空氣產生裝置和前述除污液體供給裝置和前述各1次薄霧產生裝置,藉著前述1次薄霧供給配管,配置在與各除污目標房間分離的位置,
前述各2次薄霧產生裝置,藉由將前述1次薄霧供給配管為媒介,配置在各對應的除污目標房間的近旁或室內,
對於各除污目標房間,前述1次薄霧供給配管的輸送距離,比各對應的前述除污液體供給配管的輸送距離更長,以此為特徵。
又,本發明,依據申請專利範圍第3項,於申請專利範圍第1項或第2項所述之除污系統中,
前述超音波霧化器,其配置係前述多孔振動板的表面朝向前述除污目標房間的內部、背面朝向前述1次薄霧接收器的內部,
供應至前述1次薄霧接收器的1次薄霧,由前述1次薄霧供給配管朝向前述多孔振動板的背面排出而分離氣液,分離後的除污液體從該多孔振動板的背面向表面移動之際霧化,從該表面排放到前述除污目標房間的內部,以此為特徵。
又,本發明,依據申請專利範圍第4項,於申請專利範圍第1項或第2項所述之除污系統中,
前述超音波霧化器,其配置係前述多孔振動板的表面朝向前述除污目標房間的內部、背面朝向裝設在前述1次薄霧接收器的內部下端部分的液池(liquid pool),
供應至前述1次薄霧接收器的1次薄霧,由1次薄霧供給配管排放至前述1次薄霧接收器的內部而分離氣液,分離後的除污液體回收在該1次薄霧接收器的前述液池後,在前述多孔振動板的背面向表面移動之際霧化,從該表面被排放至前述除污目標房間的內部,以此為特徵。
又,本發明,依據申請專利範圍第5項,於申請專利範圍第4項所述之除污系統中,
前述1次薄霧接收器,做成具有下端部分集縮起來的紡錘狀(spindle‐shaped)或半紡錘狀(half-spindle‐shaped)、或者、下端部分集縮起來的紡錘狀剖面(cross section)或半紡錘狀剖面的形狀,將供應來的1次薄霧做氣液分離,分離出來的除污液體回收在裝設於下端部分的前述液池,分離出來的空氣由裝設於上端部分的前述排氣口排放至外部,以此為特徵。
又,本發明,依據申請專利範圍第6項,於申請專利範圍第4項所述之除污系統中,
前述1次薄霧接收器,藉由氣旋機轉(cyclone mechanism)將供應來的1次薄霧做氣液分離,分離出來的除污液體回收在裝設於下端部分的前述液池,分離出來的空氣由裝設於上端部分的前述排氣口排放至外部,以此為特徵。
又,本發明,依據申請專利範圍第7項,於申請專利範圍第1〜6項之任一項所述之除污系統中,
具備將前述2次薄霧分散(disperse).擴散(diffuse)的薄霧分散.擴散裝置《V1~Vn》,
前述薄霧分散.擴散裝置,具備配設在前述除污目標房間的內部壁面的超音波振動板(ultrasonic vibration plate),使該超音波振動板產生超音波振動,藉由來自板面的超音波而產生聲流(acoustic flow),對於前述2次薄霧產生裝置所排放的2次薄霧,藉由使聲音輻射壓力(acoustic radiation pressure)的擠壓力(pressing force)穩態運轉(steady operate)或間歇運轉(intermittent operate)、或者強弱運轉(strong and weak operate),將該2次薄霧分散.擴散,以此為特徵。
又,本發明,依據申請專利範圍第8項,於申請專利範圍第7項所述之除污系統中,
前述供應至前述除污目標房間內部的2次薄霧,藉由前述超音波振動板產生的超音波振動,更進一步細微化,以此為特徵。
又,本發明,依據申請專利範圍第9項,於申請專利範圍第1〜6項之任一項所述之除污系統中,
具備了將前述2次薄霧分散.擴散的薄霧分散.擴散裝置《W1~Wn》,
前述薄霧擴散裝置,具備了配設在前述2次薄霧產生裝置近旁的軸流式風扇(axial fan),憑藉該軸流式風扇,對於前述2次薄霧產生裝置所排放的2次薄霧,藉由使空氣流(airflow)的擠壓力(pressing force)穩態運轉(steady operate)或間歇運轉(intermittent operate)、或者強弱運轉(strong and weak operate),將該2次薄霧分散.擴散,以此為特徵。
【發明的成果】
依據前述之構造,作為除污用薄霧的產生源頭的除污液體,靠著1次薄霧產生裝置,與在壓縮空氣產生裝置所產生的壓縮空氣混合而做成1次薄霧。此1次薄霧,以1次薄霧供給配管為媒介,供應給2次薄霧產生裝置,作為2次薄霧,變成細微的過氧化氫薄霧。本發明中,1次薄霧,係壓縮空氣和除污液體的混合薄霧,因為處於密度很高的狀態且輸送速度也很快,1次薄霧供給配管可以使用小口徑的配管;因此,除污目標房間為複數,又、即使對於各除污目標房間的1次薄霧供給配管的配置距離不同的情形下,每個除污目標房間也是適當的距離,而且,可以配設長距離的供給配管。如此一來,就無需大口徑等的大型設備了。
再者,由於1次薄霧中的過氧化氫水呈現液體狀態,無需為了防止冷凝而保溫1次薄霧供給配管,因此,即使除污目標房間為複數、每個除污目標房間配設長距離的供給配管,為了防止冷凝的加熱器等的大型設備也沒有需要了。
再者,依據前述之構造,除污目標房間為複數的情形時,壓縮空氣產生裝置和除污液體供應裝置對於每個去污目標房間是共用的。另一方面,1次薄霧產生裝置和2次薄霧產生裝置以及連結二者的1次薄霧供給配管《以下,這些稱為『除污單元(decontamination unit)』》做成每個除污目標房間都配置。如此一來,壓縮空氣產生裝置和除污液體供應裝置和1次薄霧產生裝置可以配置在與各除污目標房間分離的位置。另一方面,各2次薄霧產生裝置配置在各對應的除污目標房間的近旁或室內。藉由此方式,每個除污目標房間配設個別的除污單元,形成除污液體供給配管的輸送距離短而混合氣液供給配管的輸送距離長,因此,對於複數的除污目標房間,每一個房間都可以做成長距離的配管。
用這種方法,由於除污液體供給配管的輸送距離做成短的,可以正確把握對1次薄霧產生裝置的除污液體的供應量;因此,每個除污目標房間供應給2次薄霧產生裝置的除污液體的數量可以正確地把握,排放至該除污目標房間的2次薄霧的數量就變得明確。另一方面,由於1次薄霧中的過氧化氫水呈現液體狀態,沒有冷凝,可以把1次薄霧供給配管的輸送距離做長,準確地將除污液體長距離輸送。再進一步,因為能夠靠壓縮空氣將配管中的過氧化氫水完全地輸送,配管中沒有死液殘留。又,在2次薄霧產生裝置,因為作為1次薄霧而供應的過氧化氫水的數量能夠正確地把握,不會發生過氧化氫水的欠缺,在2次薄霧產生裝置的超音波振盪器(ultrasonic oscillator),就不會發生故障。如此,可以提供除污液體的有效率使用。
再者,依據前述之構造,超音波霧化器,也可以做成多孔振動板的表面朝向除污目標房間的內部、背面朝向1次薄霧接收器的內部的配置;在這種狀態時,供給至1次薄霧接收器的1次薄霧,從1次薄霧供給配管朝向多孔振動板的背面直接排出,在多孔振動板的背面分離氣液;分離後的除污液體,從多孔振動板的背面向表面移動之際霧化,從該表面向除污目標房間的內部排放。
再者,依據前述之構造,超音波霧化器,也可以做成多孔振動板的表面朝向除污目標房間的內部、背面朝向裝設在1次薄霧接收器的內部下端部分的液池的配置;在這種狀態時,供給至1次薄霧接收器的1次薄霧,排放至1次薄霧接收器的內部而分離氣液;分離後的除污液體,回收於1次薄霧接收器的液池,然後,在從多孔振動板的背面向表面移動之際霧化,從該表面向除污目標房間的內部排放。
再者,依據前述之構造,1次薄霧接收器,也可以做成下端部分集縮起來的紡錘狀(spindle‐shaped)或半紡錘狀(half-spindle‐shaped);又,也可以做成下端部分集縮起來具有紡錘狀剖面或半紡錘狀剖面的形狀。如此,從供給的1次薄霧經氣液分離的除污液體,回收於裝設在1次薄霧接收器的下端部分的液池;另一方面,分離出來的空氣,從裝設在1次薄霧接收器的上端部分的排氣口排放至外部。
再者,依據前述之構造,1次薄霧接收器,也可以具有氣旋機轉。因此,從供給的1次薄霧經氣液分離後的除污液體,回收於裝設在1次薄霧接收器的下端部分的液池;另一方面,分離出來的空氣,從裝設在1次薄霧接收器的上端部分的排氣口排放至外部。
再者,依據前述之構造,也可以具備將2次薄霧分散.擴散的薄霧分散.擴散裝置。薄霧分散.擴散裝置,具備裝設在除污目標房間的內部壁面的超音波振動板,該超音波振動板發生超音波振動,從板面藉由超音波產生聲流(acoustic flow)。如此,對於從2次薄霧產生裝置排放的2次薄霧,藉由使聲音輻射壓力(acoustic radiation pressure)的擠壓力(pressing force)穩態運轉(steady operate)或間歇運轉(intermittent operate)、或者強弱運轉(strong and weak operate),可以將該2次薄霧分散.擴散。又,依據前述之構造,供應至除污目標房間內部的2次薄霧,藉由前述超音波振動板產生的超音波振動,可以更進一步細微化。
又,依據前述之構造,也可以具備將2次薄霧分散.擴散的薄霧擴散裝置。薄霧擴散裝置,具備了配設在2次薄霧產生裝置近旁的軸流式風扇(axial fan),憑藉該軸流式風扇,對於2次薄霧產生裝置所排放的2次薄霧,藉由使空氣流(airflow)的擠壓力(pressing force)做穩態運轉(steady operate)或間歇運轉(intermittent operate)、或者強弱運轉(strong and weak operate),能夠使該2次薄霧分散.擴散。
因此,依據本發明,不需要大口徑的管道或防止冷凝的加熱器等的大型設備,對於複數的除污目標房間,每個房間可以有長距離的配管,在供給配管中除污液體不會殘留成為死液,並且,每個房間可以供給必要的適當數量的除污液體,超音波振盪器不會產生故障,因此,可以提供能夠達到除污液體的有效率使用的除污系統。
【圖示簡單說明】
【圖1】係顯示本發明相關之除污系統的第1實施態樣的結構示意圖(schematic configuration diagram)。
【圖2】係顯示變更圖1的第1實施態樣中的2次薄霧產生裝置的配置位置的第2實施態樣的結構示意圖。
【圖3】係顯示變更圖1的第1實施態樣中的2次薄霧產生裝置的配置位置的同時,也配置了薄霧分散.擴散裝置的第3實施態樣的結構示意圖。
【圖4】係顯示變更圖1的第1實施態樣中的2次薄霧產生裝置的配置位置的同時,也配置了薄霧擴散裝置的第4實施態樣的結構示意圖。
【圖5】係顯示本發明相關之除污系統所使用的2次薄霧產生裝置的1個實例,(A)係從除污目標房間側見到的正視圖(front view)、(B)係側面剖視圖(cross sectional side view)。
【圖6】係顯示本發明相關之除污系統所使用的2次薄霧產生裝置的其他的實例,(A)係側面剖視圖、(B)係平面剖視圖(plane sectional view)。
以下,以各實施態樣為基礎,說明本發明相關的除污系統。再者,本發明,並非侷限於下述所表示的各實施態樣。
≪第1實施態樣≫
依照附圖,說明本發明相關的除污系統的第1實施態樣。圖1係本第1實施態樣相關的除污系統100的結構示意圖。於本實施態樣中,如同圖1所示,房間大小不同的n個房間《n係正數》形成的隔離室(isolator)作為除污目標房間;各除污目標房間分別具有獨立的空間,室內上方具備循環風扇(circulation fan)F1〜Fn、高效率粒子空氣濾器(high efficiency particulate air filter;HEPA filter)H1〜Hn、以及整流器(rectifier)B1〜Bn。
再者,本第1實施態樣中,雖然n個房間的隔離室作為除污目標房間,但並未侷限於此,也可以是無菌隔離系統(restricted access barrier system;RABS)、無菌室(aseptic room)、通過室(pass room)、通過箱(pass box)等,也可以是這些空間的組合。又,除污目標房間的數量,也可以是1個房間到複數的任何房間。
於圖1中,除污系統100,具有相連通至除污目標房間R1〜Rn的各房間的空氣壓縮機(air compressor)10和過氧化氫水貯槽(tank)20;又,除污目標房間R1〜Rn,各別地具備對應各房間的產生1次薄霧的排出器(ejector)E1〜En和過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn,此過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn,作為2次薄霧產生工具的功用。再者,於圖1中,除污目標房間R1,具有2具排出器E1(1)、E1(2),及2具過氧化氫薄霧產生裝置M1(1)、M1(2);另一方面,除污目標房間Rn,具有1具排出器En,及1具過氧化氫薄霧產生裝置Mn。這些裝置,係對應各除污目標房間的內部容積的裝置。
空氣壓縮機10,係作為用來輸送過氧化氫水的載體氣體(carrier gas)的壓縮空氣產生裝置的功用;此空氣壓縮機10,配置在與除污目標房間R1〜Rn分離的位置。
過氧化氫水貯槽(tank)20,係作為用來儲存做為除污用薄霧的過氧化氫薄霧的產生源頭的過氧化氫水的除污液體供給裝置的功用;此過氧化氫水貯槽20,係在與除污目標房間R1〜Rn分離的位置,配置於空氣壓縮機10的近旁。本發明中,儲存在過氧化氫水貯槽20的過氧化氫水的濃度,雖然沒有特別限定,但,考慮危險物等的處理,一般使用30〜35%重量比的液體是較合於理想的。又,過氧化氫水貯槽20,具備檢測內部過氧化氫水的殘餘量的衡量計(weigher)21、和控制殘餘量的控制裝置《未顯示於圖中》。
排出器(ejector)E1〜En,係作為將過氧化氫水與壓縮空氣作氣液混合、用來產生1次薄霧的1次薄霧產生裝置的功用;此排出器E1〜En,係在與除污目標房間R1〜Rn分離的位置,配置於空氣壓縮機10和過氧化氫水貯槽20的近旁。
過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn,係由薄霧接收器MR1〜MRn和超音波霧化器A1〜An《二者均未顯示於圖1,但構造將於後說明》所構成。薄霧接收器MR1〜MRn,功用係作為將含有排出器E1〜En輸送過來的過氧化氫水的1次薄霧接收、分離氣液的1次薄霧接收器。又,此薄霧接收器MR1〜MRn,將氣液分離後的過氧化氫水供給至超音波霧化器A1〜An的同時,將氣液分離後的空氣排放至外部。關於此薄霧接收器MR1〜MRn的構造,將說明於後。
本第1實施態樣的圖1中,過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn,配置在高效率粒子空氣濾器(high efficiency particulate air filter;HEPA filter)H1〜Hn的上方《循環風扇(circulation fan)F1〜Fn的近旁》,於此情形,產生的薄霧,擴散在循環風扇F1〜Fn運轉的地方。又,過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn的位置,並非侷限於此,也可以配置在側壁內側或側壁外側等的任一者。再者,即使是將過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn配置在除污目標房間R1〜Rn的外部的情形,過氧化氫薄霧的排放口也可以做成開口朝向除污目標房間R1〜Rn的內部。
超音波霧化器A1〜An,接受由薄霧接收器MR1〜MRn經氣液分離後的過氧化氫水,產生細微的2次薄霧,排放至除污目標房間R1〜Rn的內部。此超音波霧化器A1〜An,係作成與薄霧接收器MR1〜MRn成一體化、作為2次薄霧產生裝置的功用的過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn的構造。再者,關於此超音波霧化器A1〜An的構造,將說明於後。
再者,於最寬廣的除污目標房間R1,如前述,配置2組除污單元《2具排出器E1(1)、E1(2)、2具過氧化氫薄霧產生裝置M1(1)、M1(2)、及2支1次薄霧供給配管ML(1)、ML(2)》,此係由於除污目標房間R1的容積很大,比起只由1組除污單元供給大量的過氧化氫薄霧,由2組除污單元分別從2個地方排放過氧化氫薄霧,除污效率會提高。又,隨著除污目標房間的寬廣程度,也可以在1個房間裝設2組以上的除污單元;再者,像這樣,即使1個房間裝設複數的除污單元,1次薄霧供給配管是小口徑,從設備費的觀點來看,不會發生問題。
又,於圖1中,除污系統100具備:空氣壓縮機10與連通排出器(ejector)E1〜En的空氣供給配管AL1〜ALn、和過氧化氫水貯槽(tank)20與連通排出器E1〜En的除污液體供給給配管LL1〜LLn、和連通排出器E1〜En與薄霧接收器MR1〜MRn的1次薄霧供給給配管ML1〜MLn。
空氣供給配管AL1〜ALn,連通空氣壓縮機10的排出口與排出器E1〜En的驅動流徑(drive flow path)《圖中未顯示》。在空氣供給配管AL1〜ALn的管路,個別地裝設有控制壓縮空氣的供給的開閉閥(open/close valve)《沒有圖示》。本發明中,對於空氣供給配管AL1〜ALn的材質和管徑,並無特別的限制,但是,一般較為理想的是內徑1〜10毫米(mm)的不鏽鋼管。再者,雖然圖1中未顯示出來,但是空氣壓縮機10和空氣供給配管AL1〜ALn之間的管路,也可以裝設空氣乾燥器(air dryer)、空氣調節器(air regulator)、自動排水器(auto drain)、油霧分離器(oil mist separator)、其他的過濾器等。
除污液體供給配管LL1〜LLn,連通過氧化氫水貯槽20的供應口和排出器E1〜En的抽吸流徑(suction flow path)《圖中未顯示》。在除污液體供給配管LL1〜LLn,個別地裝設有控制過氧化氫水的供給的管式泵(tubing pump)P1〜Pn。本發明中,對於除污液體供給配管LL1〜LLn的材質和管徑,如果是過氧化氫水可以使用者,並無特別的限制,但一般較為理想的是內徑1〜10毫米(mm)的不鏽鋼管。
1次薄霧供給配管ML1〜MLn,連通排出器E1〜En的排出流徑和構成超音波霧化器A1〜An的薄霧接收器MR1〜MRn。1次薄霧供給配管ML1〜MLn,係從空氣壓縮機10與過氧化氫水貯槽20的近旁、到設置在除污目標房間R1〜Rn的上壁內側的過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn的位置、配設很長的距離。本發明中,1次薄霧供給配管ML1〜MLn的材質和管徑,較優選的是單位時間內能夠長距離輸送必要數量的過氧化氫薄霧者,一般較為理想的是內徑1〜10毫米(mm)的不鏽鋼管。
如此,對於除污目標房間R1〜Rn,由於個別地配置空氣供給配管AL1〜ALn、和除污液體供給配管LL1〜LLn、和1次薄霧供給配管ML1〜MLn,在每一間除污目標房間,可以個別地排放過氧化氫薄霧,每個房間可以確實地進行除污。
又,從圖1中可以看到,1次薄霧供給配管ML1〜MLn的輸送距離,做成比空氣供給配管AL1〜ALn的輸送距離或除污液體供給配管LL1〜LLn的輸送距離還要長的距離。此1次薄霧供給配管ML1〜MLn的1次薄霧的輸送距離,雖然沒有特別的限定,但通常3〜100米(m)程度是可以輸送的;另一方面,空氣供給配管AL1〜ALn的輸送距離或除污液體供給配管LL1〜LLn的輸送距離可以縮短。
於本實施態樣中,由於1次薄霧是壓縮空氣和過氧化氫水的混合氣液,處於密度很高的狀態,輸送速度也很快,所以1次薄霧供給配管ML1〜MLn,可以使用小口徑的配管。因此,每個除污目標房間可以設置長距離的1次薄霧供給配管ML1〜MLn。如此,大口徑的管道等的大型設備就不需要了。
又,由於1次薄霧中的過氧化氫水係處於液體的狀態,用來防止冷凝而保溫1次薄霧供給配管ML1〜MLn就沒有必要。因此,即使每個除污目標房間設置長距離的配管的情形時,也不需要防止冷凝的加熱器等的大型設備。
正如前述,由於短縮除污液體供給配管LL1〜LLn的輸送距離,可以確實地把握供應至排出器E1〜En的過氧化氫水的供給量;因此,可以確實地把握每個除污目標房間裡供給至薄霧接收器MR1〜MRn的過氧化氫水的供給量,該除污目標房間排放的過氧化氫薄霧的量變的明確。另一方面,由於1次薄霧中的過氧化氫水呈現液體狀態、不會冷凝,1次薄霧供給配管ML1〜MLn的輸送距離長,過氧化氫水還是可以正確輸送至遠距離。更進一步,由於靠壓縮空氣可以將1次薄霧供給配管ML1〜MLn中的過氧化氫水完全輸送,配管中沒有死液殘留。
其次,使用本第1實施態樣相關之除污系統100,說明將除污目標房間R1〜Rn除污的相關除污方法。
本第1實施態樣中,在同一除污薄霧產生時間,將4房間的除污目標房間R1〜Rn除污。因為各除污目標房間的大小並不相同,計算出每個除污目標房間在單位時間應排放的過氧化氫薄霧的量;從這些除污用薄霧排放量,相對於對應各除污目標房間的排出器E1〜En,以除污液體供給配管LL1〜LLn為媒介,計算出從過氧化氫水貯槽20供給的過氧化氫水的量。再者,除污前的各房間,使用溫度調節器(temperature regulator)和濕度調節器(humidity regulator),預先設定所需的條件,是較理想的。
其次,開始除污操作。首先,開放空氣供給配管AL1〜ALn的開閉閥(open/close valve)《沒有圖示》,從空氣壓縮機10,以空氣供給配管AL1〜ALn為媒介,將壓縮空氣供給至排出器E1〜En的驅動流徑。本發明中,供給至排出器E1〜En的壓縮空氣,並無特別限定,但各別地,較合於理想的是:排出壓力(discharge pressure)係0.05百萬帕(MPa)以上、空氣流量(air flow rate)係0.5〜20標準升/分鐘(NL/min;Normal Litre/minute)。此空氣流量,最好能因應供給至各除污目標房間的過氧化氫水的濃度和數量、以及到達各除污目標房間的距離而適當設定。
其次,開動除污液體供給配管LL1〜LLn的管式泵(tubing pump)P1〜Pn,從過氧化氫水貯槽20、以除污液體供給配管LL1〜LLn為媒介、供給過氧化氫水至排出器E1〜En的抽吸流徑(suction flow path)。再者,此過氧化氫水的供給量,對於排出器E1〜En,對應於如前述經計算過的數量。本發明中,供給至排出器E1〜En的過氧化氫水的濃度,雖然沒有特別的限定,但也可以將一般通用的30〜35%重量比的過氧化氫水,依其原樣使用,或將之濃縮或稀釋後使用。又,供給至排出器E1〜En的過氧化氫水,個別的,也可以將其流量調整為0.5〜10公克/分鐘(g/min)。
再者,藉由過氧化氫水的量在前述範圍,並且,藉由壓縮空氣的量是前述範圍,以1次薄霧供給配管ML1〜MLn為媒介,即使是長距離,也能夠輸送混合了過氧化氫水的1次薄霧。
透過前述的操作,在排出器E1〜En中,過氧化氫水和壓縮空氣做1次薄霧化,從排出器E1〜En的排出流徑,以1次薄霧供給配管ML1〜MLn為媒介,供給至構成過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn的薄霧接收器MR1〜MRn。
於薄霧接收器MR1〜MRn中,1次薄霧作氣液分離,產生過氧化氫水和空氣。在薄霧接收器MR1〜MRn被氣液分離後的過氧化氫,從薄霧接收器MR1〜MRn供給至除污目標房間R1〜Rn內具有排放口的超音波霧化器A1〜An。在這個階段時,超音波霧化器A1〜An的超音波振盪器(ultrasonic oscillator)《說明於後》就開始運作,因此,在超音波霧化器A1〜An生成的細微過氧化氫薄霧,排放至各除污目標房間內,各除污目標房間內就均勻地被除污了。
本發明中所謂『薄霧(mist)』,係廣義地解釋,細微化於空氣中飄浮的除污劑的微滴(droplet)的態樣、除污劑的氣體和微滴摻混一起的態樣、除污劑在氣體和微滴之間反覆呈現冷凝和蒸發的相位變化(phase change)等,都包括在內。又,關於粒子徑長,也廣義地解釋,視場合而更細區分為薄霧、霧(fog)、微滴等包括在內。
因此,本發明相關之薄霧,由於不同場合情形,係包括被稱為薄霧《也有定義為10微米(μm)以下的情形》或者霧《也有定義為5微米(μm)以下的情形》、以及具有這些粒徑以上之物者。再者,本發明中,藉由超音波霧化器A1〜An的作用,薄霧.霧.微滴等的3微米〜10微米或者即使是比這些大的微滴,都均一化成為5微米以下或3微米以下的超細微粒子,被認為是可以呈現高度除污效果。
如此一來,在既定的時間,排放過氧化氫薄霧。在經過既定的時間的階段,停止除污液體供給配管LL1〜LLn的管式泵P1〜Pn,終止過氧化氫水的供給。在這個階段,空氣供給配管AL1〜ALn為媒介,呈現壓縮空氣被供應到排出器E1〜En,1次薄霧供給配管ML1〜MLn中的殘留過氧化氫水全部被送到薄霧接收器MR1〜MRn。因此,對於除污目標房間R1〜Rn,個別的,既定量的過氧化氫薄霧就正確地被排放,供給至超音波霧化器A1〜An的過氧化氫水全部薄霧化的階段中,超音波霧化器A1〜An的超音波振盪器《說明於後》,停止運轉。
其次,空氣供給配管AL1〜ALn的開閉閥(open/close valve)11a〜15a閉鎖起來,停止壓縮空氣的供給,然後,房間內的過氧化氫薄霧排出,房間內通風(aeration),除污操作完成。再者,前述各操作,藉由微電腦(microcomputer)的自動控制來進行是較合於理想的。
此處,說明有關於在本第1實施態樣所使用的2次薄霧產生裝置的一個實例。圖5係顯示2次薄霧產生裝置的一個實例,於圖5中,(A)係從除污目標房間側見到的正視圖(front view)、(B)係側面剖視圖(cross sectional side view)。於圖5中,當作2次薄霧產生裝置的過氧化氫薄霧產生裝置Mx,係由薄霧接收器MRx和超音波霧化器Ax所構成。
薄霧接收器MRx,構造為正面內部做成半紡錘狀(half-spindle‐shaped)的截面,在半紡錘狀的寬度集縮的正面下端部分,裝設了超音波霧化器Ax。此內部空間的下端部分,因為有含氣液分離後的少量除污液體的液池MRx1的功能而將寬度集縮起來。又, 1次薄霧供給配管MLx的末端朝向薄霧接收器MRx的內部連通在薄霧接收器MRx的背面下端部分《與超音波霧化器Ax相對的位置》。在薄霧接收器MRx的背面內部的上端部分,有通氣孔(air vent)MRx2的開口。再者,此通氣孔MRx2的通路(route),也可以裝設分解過氧化氫的過濾器(filter)MH。又,薄霧接收器MRx的內部中央的1次薄霧供給配管MLx的末端和通氣孔MRx2之間,裝設折流板(baffle plate)MRx3。
超音波霧化器Ax,係由將氣液分離後的除污液體《過氧化氫水》霧化的有複數細微孔《圖中未顯示》貫通正背面的近似圓盤狀的多孔振動板Ax1、和使該多孔振動板Ax1薄膜震動做成近似圓環板狀的壓電振動器(piezoelectric vibrator)Ax2、和控制此壓電振動器Ax2的振動的控制裝置《圖中未顯示》所構成。多孔振動板Ax1,要覆蓋壓電振動器Ax2的內孔部分而貼合在壓電振動器Ax2;又多孔振動板Ax1,係將其正面朝向除污目標房間的內部、背面朝向薄霧接收器MRx的內部的方式裝設;多孔振動板Ax1的複數的細微孔貫通除污目標房間的內部和薄霧接收器MRx的內部。再者,於圖5中,係從多孔振動板Ax1的表面朝向水平方向排放過氧化氫薄霧的方式配置,但是並未侷限於此,朝向下方或依照配置位置朝向上方排放,都是可以的。
於此態樣中,1次薄霧,以1次薄霧供給配管MLx為媒介,排放至薄霧接收器MRx的內部。在薄霧接收器MRx的內部,多孔振動板Ax1的背面和1次薄霧供給配管MLx的末端係相對方向,因此,被排放的1次薄霧,直接、向多孔振動板Ax1的背面排出而分離氣液。此氣液分離後的除污液體,以用超音波振動的複數細微孔為媒介,變成細微的2次薄霧《過氧化氫薄霧》,排放至除污目標房間的內部,發生除污效果。再者,在多孔振動板Ax1的背面,即使氣液分離後的除污液體的一部分被積留在液池MRx1,這些係極少數量,以多孔振動板Ax1的複數細微孔為媒介,也能變成細微的2次薄霧,排放至除污目標房間的內部;另一方面,氣液分離後的空氣,由通氣孔MRx2排放至外面。
像這樣,由於供給至超音波霧化器Ax的除污液體的數量,能夠精確地控制在必要的最低程度,對於複數的除污目標房間而言,即使每個房間設置長距離的配管,也可以避免除污液體的殘留、進行有效率的除污。再進一步,由於可以供給每個房間正確數量的過氧化氫薄霧,作為超音波霧化器Ax的心臟的超音波振盪器,就不會發生因欠缺除污液體導致故障之事。又,用必要的最低程度的除污液體的數量,可以得到充分的除污效果,就能夠達到除污液體的高效率使用。
本發明中,多孔振動板Ax1的細微孔的孔徑和孔數,並沒有特別的限制,只要能確保超音波霧化效果和過氧化氫薄霧的充足供給量者即可。再者,通常是具有4〜11微米(μm)的孔徑,但是選擇比細菌的孢子(spore)的尺寸更小《例如,0.5〜3微米》的孔徑的話,發揮過濾效果,就不會有因細菌造成除污液體被污染的情形。
其次,說明關於本實施態樣中2次薄霧產生裝置的其他實例。圖6係顯示2次薄霧產生裝置的其他實例,圖6中,(A)係側面剖視圖、(B)係平面剖視圖。於圖6中,作為2次薄霧產生裝置的過氧化氫薄霧產生裝置My,係由薄霧接收器MRy和超音波霧化器Ay所構成。
薄霧接收器MRy,做成具有氣旋機轉(cyclone mechanism)的形狀,在薄霧接收器MRy的下端部分裝設超音波霧化器Ay,在裝設了此超音波霧化器Ay的內部空間的下端部分,具有已氣液分離後的少量除污液體的液池MRy的功能。又,薄霧接收器MRy的上部側面,1次薄霧供給配管MLy的末端朝向薄霧接收器MRy的內部,以法線(normal line)形狀,連通起來《對應氣旋的導入口》。薄霧接收器MRy的上端部分的中央處,排氣口MRy2朝向上方做成開口。
超音波霧化器Ay,被做成近似圓板狀,係由將氣液分離後的除污液體《過氧化氫水》霧化的複數細微孔《圖中未顯示》貫通正背面地裝設起來的多孔振動板Ay1、和使該多孔振動板Ay1薄膜震動做成近似圓環板狀的壓電振動器(piezoelectric vibrator)Ay2、和控制此壓電振動器Ay2之振動的控制裝置《圖中未顯示》所構成。多孔振動板Ay1,覆蓋壓電振動器Ay2的內孔部分而貼合在壓電振動器Ay2;又多孔振動板Ay1,係將其正面朝向除污目標房間的內部、背面朝向薄霧接收器MRy的內部的方式裝設;多孔振動板Ay1的複數的細微孔貫通除污目標房間的內部和薄霧接收器MRy的內部。再者,於圖6中,係從多孔振動板Ay1的表面朝向下方排放過氧化氫薄霧的方式配置,但是並未侷限於此,朝向水平方向或依照配置位置朝向上方排放,都是可以的。
於此態樣,1次薄霧以1次薄霧供給配管MLy為媒介,排放至薄霧接收器MRy的內部。在薄霧接收器MRy的內部,因為具有氣旋機轉的形狀,因此,被排放的1次薄霧,在薄霧接收器MRy的內部側壁處分離氣液。此氣液分離後的除污液體,被收集在薄霧接收器MRy的內部下端部分的液池MRy1,以超音波振動的多孔振動板A y1的複數細微孔為媒介,變成細微的2次薄霧《過氧化氫薄霧》,排放至除污目標房間的內部,發生除污效果。另一方面,氣液分離後的空氣,由通氣孔MRy2排放至外面。
像這樣,由於供給至超音波霧化器Ay的除污液體的數量,能夠精確地控制在必要的最低程度,對於複數的除污目標房間而言,即使每個房間設置長距離的配管,也可以避免除污液體的殘留,能夠進行有效率的除污。再進一步,由於可以供給每個房間正確數量的過氧化氫薄霧,作為超音波霧化器Ay的心臟的超音波振盪器,也不會發生因欠缺除污液體而導致故障之事。又,用必要的最低程度的除污液體的數量,可以得到充分的除污效果,就能夠達到除污液體的高效率使用。
由前述第1實施態樣可以明瞭,本發明中,大口徑的管道或防止冷凝的加熱器等的大型設備並無需要,對於複數的除污目標房間,每個房間可以配置長距離的配管,在供給配管中,除污液體不會成為死液殘留,並且,每個房間可以供給所需的適當數量的除污液體,超音波振盪器不會發生故障,因此可以提供達到除污液體的有效使用的除污系統。
≪第2實施態樣≫
本第2實施態樣中,關於變更過氧化氫薄霧產生裝置的位置的情形,加以說明。前述第1實施態樣的圖1中,過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn,配置在高效率粒子空氣濾器(HEPA filter)H1〜Hn的上部《循環風扇(circulation fan)F1〜Fn的近旁》,相對於此,圖2,係顯示變更前述第1實施態樣中的2次薄霧產生裝置的配置位置的結構示意圖。
本第2實施態樣的圖2中,過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn,配置在作業區域上方的整流器(rectifier)B1〜Bn的正下方(directly below)。具體來說,在除污目標房間R1中,2具過氧化氫薄霧產生裝置M1(1)、M1(2) 配置在作業區域上方的整流器B1的正下方。
再者,於圖2中,過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn以外的位置,係與圖1相同。本第2實施態樣中,只有過氧化氫薄霧產生裝置的位置與前述第1實施態樣相異,然而關於發明的作用機轉及效果,與前述第1實施態樣相同,因此,此處就省略其說明。
≪第3實施態樣≫
本第3實施態樣中,針對變更過氧化氫薄霧產生裝置的位置,同時配置將過氧化氫薄霧分散.擴散的薄霧分散.擴散裝置的情形,加以說明。圖3,係顯示變更前述第1實施態樣中的2次薄霧產生裝置的配置位置的同時,也配置了薄霧分散.擴散裝置的結構示意圖。
本第3實施態樣的圖3中,過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn,與前述第2實施態樣相同,係配置在作業區域上方的整流器(rectifier)B1〜Bn的正下方。更進一步,於圖3中,在整流器B1〜Bn的上部《整流器B1〜Bn和高效率粒子空氣濾器H1〜Hn之間》,與過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn同時配置薄霧分散.擴散裝置V1〜Vn。薄霧分散.擴散裝置V1〜Vn,個別地具備超音波振動板(ultrasonic vibration plate)。
具體來說,於除污目標房間R1中,2具過氧化氫薄霧產生裝置M1(1)、M1(2) 配置在作業區域上方的整流器B1的正下方。更進一步,1具過氧化氫薄霧產生裝置M1(3)和薄霧分散.擴散裝置V1(1)配置在整流器B1的上方《整流器B1和高效率粒子空氣濾器H1(1)、H1(2)之間》。再者,於圖3中,過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn和薄霧分散.擴散裝置V1〜Vn以外的位置,都與圖1相同。
於此,關於薄霧分散.擴散裝置V1〜Vn,加以說明。圖3的除污目標房間R1中,薄霧分散.擴散裝置V1(1),相對於過氧化氫薄霧產生裝置M1(3)水平地朝向圖示左邊方向排放過氧化氫薄霧,配置成從排放方向的正面,施加藉超音波振動聲成的聲音輻射壓力(acoustic radiation pressure)。
此處,以薄霧分散.擴散裝置V1(1)作為例子,說迎其構造和作用。薄霧分散.擴散裝置V1(1),具備由基座(foundation)和複數的發送器(transmitter)做成的超音波振動板。本第3實施態樣中,使用超音波發生器(ultrasonic generator)作為發送器。本第3實施態樣中,在基座的座上,複數的超音波發生器配置為振動面的發送方向一致、或、分散在多方向。再者,複數的超音波發生器的個數,並沒有特殊的限制。
本第3實施態樣中,使用了發送頻率40千赫(kilo-Hertz;KHz)附近的超音波的調頻型超音波發生器(frequency modulation type ultrasonic transmitter);又,關於超音波發生器的種類、大小和構造、輸出等,並沒有特殊的限制;又,本第3實施態樣中,關於超音波振動板(ultrasonic vibration plate),不只超音波發生器沒有限制,關於超音波的產生機轉、頻率範圍及輸出,都沒有特殊的限制。
再來,本第3實施態樣中,靠著控制設備來控制超音波發生器的頻率、輸出、發生時間的同時,藉由使超音波的發生穩態運轉(steady operate)或間歇運轉(intermittent operate)或者強弱運轉(strong and weak operate),可以使作用於過氧化氫薄霧的聲音輻射壓力(acoustic radiation pressure)的擠壓力(pressing force)有變化。
像這樣的構造中,從過氧化氫薄霧產生裝置M1(3)排放的過氧化氫薄霧《2次薄霧》,藉由薄霧分散.擴散裝置V1(1)的操作,在整流器B1和高效率粒子空氣濾器H1(1)、H1(2)之間的空間,均勻地分散.擴散。又,於此之際,過氧化氫薄霧,靠著聲音輻射壓力的作用,更進一步細微化,可以將整流器B1和高效率粒子空氣濾器H1(1)、H1(2)之間的空間和高效率粒子空氣濾器確實地除污。
再來,本第3實施態樣中,過氧化氫薄霧,因為靠著超音波振動的作用更進一步細微化、粒徑變小而表面積變大,被認為薄霧的蒸發效率高並且重複蒸發和冷凝。又,由於是高度細微化的薄霧,在除污目標房間R1的內壁面形成均勻且薄層的冷凝膜。據認為,藉由這些,除污目標房間R1的內部,過氧化氫的3微米以下的超細微粒子和過氧化氫氣體進行相位變化而共存,展現先進的除污環境。
≪第4實施態樣≫
本第4實施態樣中,針對變更過氧化氫薄霧產生裝置的位置的同時,配置分散.擴散過氧化氫薄霧的薄霧分散.擴散裝置的情形,加以說明。圖4,係顯示變更前述第1實施態樣中的2次薄霧產生裝置的配置位置的同時,也配置了薄霧擴散裝置的第4實施態樣的結構示意圖。
本第4實施態樣的圖4中,過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn,與前述第2實施態樣相同,配置在作業區域上方的整流器(rectifier)B1〜Bn的正下方(directly below)。更進一步,於圖4中,整流器B1〜Bn的上部分《整流器B1〜Bn和高效率粒子空氣濾器H1〜Hn之間》,與過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn同時配置薄霧擴散裝置W1〜Wn。薄霧擴散裝置W1〜Wn,個別地具備軸流式風扇,配置在過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn的近旁。
具體地說,於除污目標房間R1,2具過氧化氫薄霧產生裝置M1(1)、M1(2)配置在作業區域上方的整流器B1的正下方。再進一步,1具過氧化氫薄霧產生裝置M1(3)、和薄霧擴散裝置W1(1),配置在過氧化氫薄霧產生裝置M1(3)的近旁的整流器B1的上部《整流器B1和高效率粒子空氣濾器H1(1)、H1(2)之間》。再者,於圖4中,過氧化氫薄霧產生裝置M1〜Mn和薄霧擴散裝置W1〜Wn以外的位置,與涂1相同。
此處,關於薄霧擴散裝置W1〜Wn,加以說明。於途4的除污目標房間R1中,薄霧擴散裝置W1(1),其配置方式,係對於從過氧化氫薄霧產生裝置M1(3)、水平地向圖示右方向排放的過氧化氫薄霧,使大致平行於排放方向的空氣流生成的擠壓力發生作用。
又,對於從過氧化氫薄霧產生裝置M1(3)、水平地向圖示右方向排放的過氧化氫薄霧,也可以設置成薄霧擴散裝置W1(1)的空氣流排放方向傾斜;空氣流排放方向的傾斜程度,相對於過氧化氫薄霧的排放方向,較理想的是0°〜45°,更理想的是5°〜30°。再進一步,薄霧擴散裝置W1(1)裡,使用產生像軸流式風扇的渦形(swirl)空氣流的風扇時,對於從過氧化氫薄霧產生裝置M1(3)排放的過氧化氫薄霧,渦形的空氣流旋轉切線(rotating tangent)方向向上,使擠壓力作用於薄霧上,這樣方式配置薄霧擴散裝置W1(1)是優選。
此處,薄霧擴散裝置W1(1),一般的軸流式風扇是理想的,但也可以用西洛克風扇(sirocco fan)。又,也可以是排放壓縮空氣等的噴嘴(nozzle),過氧化氫薄霧產生裝置產生的薄霧,即使在整流器B1和高效率粒子空氣濾器H1(1)、H1(2)之間的狹窄空間內,為了使薄霧擴散至更遠,只要是能產生空氣流的方法,並無特別的限制。
再者,本第4實施態樣中,靠著控制設備來控制軸流式風扇的輸出、動作時間的同時,藉由使軸流式風扇發生穩態運轉(steady operate)或間歇運轉(intermittent operate)或者強弱運轉(strong and weak operate),可以使作用於過氧化氫薄霧的空氣流的擠壓力(pressing force)有變化。
這樣的構造中,從過氧化氫薄霧產生裝置M1(3)排放的過氧化氫薄霧《2次薄霧》,靠著薄霧擴散裝置W1(1)的運作,在整流器B1和高效率粒子空氣濾器H1(1)、H1(2)之間的空間內均勻地擴散,藉此可以將整流器B1和高效率粒子空氣濾器H1(1)、H1(2)之間的空間以及高效率粒子空氣濾器確實地除污。
如上所述,前述第2〜第4實施態樣,也已顯而易見,本發明中,大口徑的管道或防止冷凝的加熱器等大型設備,並無需要;對於複數的除污目標房間,每一個房間,可以有長距離的配管,在供給配管中,除污液體不會殘留成為死液,並且,在每一個房間,可以供給必要的適當數量的除污液體,在超音波振盪器不會發生故障,因此可以提供能夠達到除污液體的高效應用的除污系統。
再者,在實施本發明中,不侷限於前述各實施態樣,列舉各種修改示例(modification example)。
(1) 前述各實施態樣中,使用空氣壓縮機作為壓縮空氣產生裝置,但並非限制於此,也可以使用高壓氣瓶(high pressure air cylinder)等、其他的裝置。
(2) 前述各實施態樣中,使用排出器做為1次薄霧產生裝置,但並非限制於此,也可以使用氣液泵(gas-liquid pump)等、其他的氣液混合裝置。
(3) 前述各實施態樣中,除污液體供給配管的管路,使用管式泵(tubing pump),但並非限制於此,也可以使用任何其他泵或液體供應方式。
(4) 前述第3實施態樣中,為了分散.擴散過氧化氫薄霧的薄霧分散.擴散裝置《超音波振動板》,配置在整流器的上部《整流器和高效率粒子空氣濾器H1〜Hn之間》,但並非限制於此,也可以配置在作業區域上方的整流器的正下方(directly below)或作業區域內任意位置。
(5) 前述第4實施態樣中,為了分散.擴散過氧化氫薄霧的薄霧擴散裝置《軸流式風扇》,配置在整流器的上部《整流器和高效率粒子空氣濾器H1〜Hn之間》,但並非限制於此,也可以配置在作業區域上方的整流器的正下方(directly below)或作業區域內任意位置。
100:除污系統10:空氣壓縮機
AL1〜ALn:空氣供給配管20:過氧化氫水貯槽
21:衡量計LL1〜LLn:除污液體供給配管
P1〜Pn:管式泵(tubing pump)E1〜En:排出器
ML1〜MLn、MLx、MLy:1次薄霧供給配管
M1〜Mn、Mx、My:過氧化氫薄霧產生裝置
MR1〜MRn、MRx、MRy:薄霧接收器
MRx1、MRy1:液池MRx2、MRy2:通氣孔
MRx3:折流板(baffle plate)
A1〜An、Ax、Ay:超音波霧化器
Ax1、Ay1:多孔振動板Ax2、Ay2:壓電振動器
V1〜Vn:超音波振盪器W1〜Wn:軸流式風扇
R1〜Rn:除污目標房間F1〜Fn:循環風扇
H1〜Hn:高效率粒子空氣濾器
MH:過氧化氫分解過濾器B1〜Bn:整流器
Claims (9)
- 一種除污系統,係使用除污用薄霧對於1或2以上的除污目標房間的內部除污,包含:具備產生壓縮空氣的壓縮空氣產生裝置;和供應構成除污用薄霧的除污液體的除污液體供給裝置;同時對於各除污目標房間,分別做成具備:將前述壓縮空氣和前述除污液體作氣體液體混合、產生1次薄霧的1次薄霧產生裝置;和將1次薄霧分離氣液後的除污液體變換成細微的2次薄霧的2次薄霧產生裝置;和連通前述壓縮空氣產生裝置到前述1次薄霧產生裝置之間的空氣供給配管;和連通前述除污液體供給裝置到前述1次薄霧產生裝置之間的除污液體供給配管;和連通前述1次薄霧產生裝置到前述2次薄霧產生裝置的1次薄霧供給配管;前述2次薄霧產生裝置,具有1次薄霧接收器(acceptor)和超音波霧化器;前述1次薄霧接收器,具備排氣口(air vent),用以將前述1次薄霧供給配管為媒介而供應的1次薄霧,經分離氣液後的空氣排放至外部;前述超音波霧化器,具備:藉由壓電振動器(piezoelectric vibrator)和靠該壓電振動器的振動,將已分離氣液後的除污液體霧化的裝設為貫通表面背面的複數細微孔的多孔振動板。
- 如申請專利範圍第1項所述之除污系統,其中:前述壓縮空氣產生裝置和前述除污液體供給裝置和前述各1次薄霧產生裝置,藉著前述1次薄霧供給配管為媒介,配置在與各除污目標房間分離的位置;前述各2次薄霧產生裝置,藉由將前述1次薄霧供給配管為媒介,配置在各對應的除污目標房間的近旁或室內;對於各除污目標房間,前述1次薄霧供給配管的輸送距離,比各對應的前述除污液體供給配管的輸送距離更長。
- 如申請專利範圍第1項所述之除污系統,其中:前述超音波霧化器,其配置係前述多孔振動板的表面朝向前述除污目標房間的內部,背面朝向前述1次薄霧接收器的內部;供應至前述1次薄霧接收器的1次薄霧,由前述1次薄霧供給配管朝向前述多孔振動板的背面排出而分離氣體液體,分離後的除污液體從該多孔振動板的背面向表面移動之際霧化,從該表面排放到前述除污目標房間的內部。
- 如申請專利範圍第1項所述之除污系統,其中:前述超音波霧化器,其配置係前述多孔振動板的表面朝向前述除污目標房間的內部,背面朝向裝設在前述1次薄霧接收器的內部下端部分的液池(liquid pool);供應至前述1次薄霧接收器的1次薄霧,由1次薄霧供給配管排放至前述1次薄霧接收器的內部而分離氣液,分離後的除污液體回收在該1次薄霧接收器的前述液池後,在前述多孔振動板的背面向表面移動之際霧化,從該表面被排放至前述除污目標房間的內部。
- 如申請專利範圍第4項所述之除污系統,其中:前述1次薄霧接收器,做成具有下端部分集縮起來的紡錘狀(spindle-shaped)或半紡錘狀(half-spindle-shaped)或者下端部分集縮起來的紡錘狀剖面(cross section)或半紡錘狀剖面的形狀,將供應來的1次薄霧做氣液分離,分離出來的除污液體回收在裝設於下端部分的前述液池,分離出來的空氣由裝設於上端部分的前述排氣口排放至外部。
- 如申請專利範圍第4項所述之除污系統,其中:前述1次薄霧接收器,藉由氣旋機轉(cyclone mechanism)將供應來的1次薄霧做氣液分離,分離出來的除污液體回收在裝設於下端部分的前述液池,分離出來的空氣由裝設於上端部分的前述排氣口排放至外部。
- 如申請專利範圍第1項至第6項之任一項所述之除污系統,其中:具備將前述2次薄霧分散(disperse).擴散(diffuse)的薄霧分散.擴散裝置;前述薄霧分散.擴散裝置,具備設置在前述除污目標房間的內部壁面的超音波振動板(ultrasonic vibration plate),使該超音波振動板產生超音波振動,藉由來自板面的超音波而產生聲流(acoustic flow),對於前述2次薄霧產生裝置所排放的2次薄霧,藉由使聲音輻射壓力(acoustic radiation pressure)的擠壓力(pressing force)穩態運轉(steady operate)或間歇運轉(intermittent operate)或者強弱運轉(strong and weak operate),將該2次薄霧分散.擴散。
- 如申請專利範圍第7項所述之除污系統,其中:前述供應至前述除污目標房間內部的2次薄霧,藉由前述超音波振動板產生的超音波振動,更進一步細微化。
- 如申請專利範圍第1項至第6項之任一項所述之除污系統,其中:具備了將前述2次薄霧分散.擴散的薄霧分散.擴散裝置;前述薄霧擴散裝置,具備了配設在前述2次薄霧產生裝置近旁的軸流式風扇(axial fan),憑藉該軸流式風扇,對於前述2次薄霧產生裝置所排放的2次薄霧,藉由使空氣流(airflow)的擠壓力(pressing force)穩態運轉(steady operate)或間歇運轉(intermittent operate)或者強弱運轉(strong and weak operate),使該2次薄霧分散.擴散。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019201886 | 2019-11-07 | ||
JPJP2019-201886 | 2019-11-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202120131A TW202120131A (zh) | 2021-06-01 |
TWI836153B true TWI836153B (zh) | 2024-03-21 |
Family
ID=
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015166554A1 (ja) | 2014-04-30 | 2015-11-05 | 株式会社エアレックス | 除染システム |
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015166554A1 (ja) | 2014-04-30 | 2015-11-05 | 株式会社エアレックス | 除染システム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2021090661A1 (ja) | 除染システム | |
US20050072308A1 (en) | Air cleaner | |
JP6028089B2 (ja) | アイソレータシステム | |
WO2020195971A1 (ja) | 除染装置 | |
CN106822954A (zh) | 一种室温汽化消毒灭菌系统 | |
KR20210001365U (ko) | 멸균제 분해장치가 구비된 공간 및 표면 소독 시스템 | |
TWI836153B (zh) | 除污系統 | |
WO2019111814A1 (ja) | 液体微細化装置およびそれを用いた換気装置、空気清浄機、空気調和機 | |
US20220378964A1 (en) | Decontamination system | |
TWI839579B (zh) | 除污系統(二) | |
WO2020230449A1 (ja) | パスボックス | |
KR20220071993A (ko) | 초미세입자 수분과포화 분무방식의 바이러스 소독장치 | |
KR20210132904A (ko) | 멸균제 분해장치가 구비된 공간 및 표면 소독 시스템 | |
TW202210109A (zh) | 超細薄霧供給系統 | |
WO2023074464A1 (ja) | 移動式除染装置 | |
EP3954397A1 (en) | Mist supply device | |
JP2020156993A (ja) | 除染装置及びこれを配置したパスボックス | |
JP2016508751A (ja) | 水性ポリマー含有殺生物剤が超音波技術によって室内に噴霧される方法および装置{Methodanddevicebywhichaqueouspolymer−containingbiocidesareatomizedbymeansofultrasooundtechnologyintoaroom} | |
JPH04118066A (ja) | 超微細ミスト混合空気製造装置 | |
JP2014092336A (ja) | 屋内空気の快適化方法および空調設備 | |
JP2006087446A (ja) | ネブライザー、ネブライザーを搭載した環境調整装置及びネブライザーの殺菌方法 | |
JPH0529985U (ja) | 香り発生装置 |