TWI835732B - 用於刷具調節的化學品輸送的方法及設備 - Google Patents

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Abstract

本發明提供了提供用於離線調節刷具的化學品的輸送的實施例，其中刷具未耦接到利用刷具清潔物體表面的機器。

Description

用於刷具調節的化學品輸送的方法及設備
本發明涉及輸送化學品，更具體地，涉及用於刷具調節的化學輸送的方法和設備。
在半導體製造工業和其他工業中，刷具用於從表面去除污染物，例如從半導體晶圓中去除污染物。在立即使用的條件下，不從製造商處接收傳統的刷具。相反地，刷具通常在用於預期產品之前被調節（或「磨合」）。
藉由將這些方法與本揭示的其餘部分中闡述的本方法和系統的一些態樣參考附圖而進行比較，對於調節刷具的傳統方法的限制和缺點對於本領域技術人員將變得顯而易見。
提供了用於刷具調節的化學輸送的方法和裝置，基本上如結合至少一幅附圖所示和描述的，且如申請專利範圍中更完整地闡述的。
各種應用和處理可受益於表面的物理清潔。例如，在半導體製造中，可以在於晶圓上製造電子電路的一個或多個階段期間清潔半導體晶圓以去除潛在的破壞性污染物。清潔可以藉由例如與待清潔表面接觸的刷具來提供。在立即使用的條件下，不從製造商處接收常規刷具。例如，刷具可能具有會抵消物體清潔度的污染物。因此，可能需要對刷具進行調節（調節，磨合）以將污染物移除到可接受的程度以用於刷具的預期用途。附加地或替代地，可以將一種或多種物質施加到刷具上以調節刷具以用於特定的清潔應用。
雖然應該理解，本揭示的各種實施例可以用於不同的應用，但是將在本揭示中進行示例性參考以調節半導體晶圓的表面。
在半導體晶圓的製造處理中，可以在半導體晶圓表面上發現大量污染物，例如以有機和/或無機顆粒的形式呈現。這些污染物通常會導致裝置故障和晶圓產量不佳。而且，對於每個新的半導體製程技術世代，半導體晶圓上的缺陷的臨界尺寸和半導體晶圓上的可容忍的缺陷數量變得更小。
半導體工業可以在半導體元件的製造中使用後化學機械平坦化（pCMP）清潔，其中諸如聚乙酸乙烯酯（PVAc）刷具可以與特定應用的清潔劑和/或化學品結合使用以從半導體晶圓表面除去顆粒。
各種刷具類型，包括PVAc刷具，根據材料本身的性質和/或刷具製造/運輸過程，當沖洗和/或暴露於流體時（例如去離子水（DIW）和/或清潔劑/化學品），將自然地釋放顆粒（有機和/或無機）。釋放的顆粒數量可能與刷具所接觸的流體（DIW，清潔劑等）的性質以及刷具所用的處理條件有關（例如，流體流速，刷具轉速等）。
雖然刷具可以由刷具製造商清潔以在輸送給最終使用者之前降低可釋放污染物的程度，但是個別最終使用者可能更喜歡刷具的基線位準的顆粒污染的不同閾值。
由於一些刷具通常使用保存劑來包裝，運輸和儲存於水合狀態，以防止細菌生長和產品失效。保存，包裝，運輸和儲存處理（例如，保質期）可能都對刷具的預期原始性質產生不利影響，並且增加可從刷具釋放的顆粒的數量。
刷具製造處理的性質，以及保存，包裝，運輸和/或保質期問題都可能是複合效應，其需要最終使用者調整（或調整或磨合）刷具以移除一些在半導體製造設備生產工具中使用它們之前的顆粒。
正在處理的實際半導體層可以決定從刷具釋放的可接受顆粒的位準（和尺寸），並因此決定調節刷具所需的時間。調節刷具所需的時間可以為10分鐘至24小時或更長。調節刷具的常規方法涉及使用擋片（dummy wafers）執行調節處理，以用於清潔系統上的刷具，該系統執行最終產品清潔。由此導致的生產力損失和最終更高的運行成本對最終使用者是有害的。
用於藉由離線刷具調節系統調節刷具的揭示的示例性系統包括調節板，被配置成保持刷具的刷具保持裝置，以及配置成從一（化學品）源接收化學品以將化學品輸送到刷具和調節板之一個或兩個中的化學品的導管。刷具被配置為清潔物體的表面，例如，半導體晶圓，且調節板和刷具被配置成彼此接觸以調節刷具。
用於藉由離線刷具調節系統調節刷具的揭示的示例性方法涉及接收化學品的流，藉由刷具保持裝置保持/固定刷具，其中刷具被配置為清潔物體的表面，例如，半導體晶圓，以允許刷具和調節表面彼此接觸，並將化學品輸送到刷具和調節表面中的一個或兩個以進行調節。
圖1A示出了根據本揭示的態樣的示例性離線刷具調節系統。參照圖1A，示出了離線刷具調節系統100，其可包括一個或多個刷具站110，使用者介面120和狀態燈130。
可以有任何數量的單獨刷具站110可用於同時調節多個刷具。每個刷具站110可以接收一個用於調節的刷具，其中調節可以包括多步驟處理能力（例如，刷具的壓縮，刷具的旋轉速度，DIW沖洗和/或沖洗等）。多個刷具站110可以被設置為以相同的處理調節刷具和/或獨立地設置以調節具有不同處理的刷具。而且，儘管刷具站110已經被描述為調節一個刷具，但是在其他示例性中，多個刷具可以由一個刷具站110調節。
當刷具站110調節單個刷具時，該刷具可以與其他消耗品的交叉污染隔離。當刷具站110被配置為處理多個刷具時，可能存在將一個刷具與另一個刷具隔離以減少交叉污染的屏障。可以監測刷具中的污染量。
使用者介面120（例如，觸碰螢幕，顯示面板，按鈕，鍵盤和滑鼠等）可以用於輸入命令以調節刷具站110中的刷具，並且還用於查刷具的看調節狀態。例如，使用者介面120可用於監視和控制在刷具被調節時用於旋轉刷具的扭矩/速度。
狀態燈130可以例如閃爍和/或顯示不同的顏色以警告最終使用者刷具的處理狀態。狀態燈130指示的狀態可以取決於設計。
在操作中，可以將一個或多個刷具放置在離線刷具調節系統100中並且開始調節處理。狀態燈130可以指示，例如，對於至少一個刷具的調節何時結束。如果針對可能花費不同時間長度的不同調節處理設置不同的刷具站110，則使用者介面120可以給出每個刷具站110的狀態的進一步指示。
離線刷具調節系統100可以連接到流體輸送系統101，以便接收供離線刷具調節系統100使用的流體。流體輸送系統101可以屬於例如最終使用者。
圖1B示出了根據本揭示的態樣的離線刷具調節系統的示例性框圖。參照圖1B，示出了離線刷具調節系統100，其包括刷具站110，流體流入系統140，流體流出系統150，控制系統160，I/O介面170和馬達系統180。
刷具站110可以接收刷具，該刷具可以成形為例如圓柱形輥子。雖然本揭示的多個實施例可以具有用於接收刷具的固定軸，但是其他實施例可以允許在接收刷具之後接收不同角度的刷具和/或調整角度。這可以允許在調節刷具和/或用於容納不同形狀的刷具時具有更大的靈活性。
流體流入系統140可包括各種固定裝置，其用於將流體引入離線刷具調節系統100，以用於調節刷具和/或用於其他目的。例如，可以存在用於流體(例如用於調節的化學品)的耦接到流體輸送系統101的固定裝置。本揭示的各種實施例可以允許例如耦接到由流體輸送系統101提供的多個流體導管。因此，這可以允許在離線刷具調節系統100的使用期間快速改變流體。流體流入系統140還可以包括分配系統，用於將所接收的流體輸送到刷具以調節刷具。一些實施例還可以具有作為流體流入系統140的一部分的可用於儲存流體的容器。這可以用於在例如流體流入的壓力下降的情況下提供緩衝器。例如，這也可以用於允許在未連接到最終使用者流體供應管線時使用離線刷具調節系統100。
流體流出系統150可包括各種固定裝置和元件，而用於移除已經在調節刷具的處理中使用的流體(流出物)。在一些實施例中，流體流出系統150可具有對應於刷具站110的特定部分的若干專用流出導管。這可以允許例如監測用於刷具的特定部分的特徵的流出物。因此，流體流出系統150可因此包括可以確定流出物的特定特徵的監測裝置。
控制系統160可包括控制離線刷具調節系統100的操作的各種模組。例如，可以存在一個或多個處理器(微處理器，微控制器等)，其執行儲存在記憶體中的編碼並處理從外部裝置或藉由I/O介面170接收的資料。然後，處理器可以控制刷具調節處理的操作，包括刷具的旋轉速度和刷具對調節板的壓縮。這可以允許例如控制施加到刷具上的調節位準(例如，壓力，強度，持續時間，化學等)。
如果離線刷具調節系統100被連接以從最終使用者接收不同類型的流體(或者如果容器可用則可能使用容器)，則處理器還可以控制多種流體之間的切換。
控制系統160還可以控制例如諸如化學品和/或超純水(UPW)的流體的流速。UPW的特性將不再描述，因為它們可能因應用而異。因此，應該理解，UPW是指被認為對於所討論的應用具有合適的「UPW」特性的水。控制系統160還可以例如使用來自容器的流體(如果容器可用)或來自另一個最終使用者導管來控制稀釋化學品。
I/O介面170可以包括各種裝置，其可以允許將信息和命令輸入到離線刷具調節系統100，以及顯示和/或與外部裝置通訊。例如，使用者介面120可以是I/O介面170的一部分。I/O介面170還可以包括例如各種按鈕，開關，LED/燈，鍵盤，滑鼠，軌跡球等中的一個或多個，用於輸入輸入以及顯示輸出。I/O介面170還可以包括用於有線通訊的各種端口，例如USB端口，乙太網端口等。I/O介面170還可以支持無線通訊技術和協定，例如蜂巢式通訊，藍芽通訊，近場通訊，Wi-Fi通訊，RFID通訊等。
I/O介面170可用於允許狀態顯示成處於遠端站或裝置處和/或允許遠端控制離線刷具調節系統100。I/O介面170還可以允許經由有線或無線連接更新離線刷具調節系統100中的各種軟體/韌體和應用程式。另外，I/O介面170可以允許遠端控制離線刷具調節系統100。
馬達系統180可包括一個或多個馬達，其用於旋轉一個或多個刷具以進行調節。馬達系統180中的馬達可包括適當的馬達，用於在刷具被調節時旋轉馬達。可以控制馬達系統180中的馬達以具有可變的速度和/或扭矩。各種實施例還可以包括能夠提供關於當前扭矩的信息的馬達系統。該信息可用於確定例如調節是否按預期進行。各種實施例可以提供一個馬達來驅動一個刷具，而其他實施例可以允許一個馬達驅動多個刷具。其他實施例可以允許一個馬達驅動單個刷具或多個刷具。
圖2是示出缺陷和調節時間之間的示例性關係的曲線圖。在圖2中，示出了曲線圖200，其示出了Y軸上的缺陷和X軸上的時間。在刷具調節首次開始的時間T0，可能存在不可接受的「缺陷」的位準：UL，其中缺陷是指釋放的顆粒量和/或刷具釋放的顆粒尺寸。可以藉由例如檢查流出物來監測缺陷。隨著調節持續一段時間，缺陷位準可在時間T1降低到可接受的位準：AL。時間T1可以根據所需的缺陷位準而變化。用於藉由離線刷具調節系統100調節刷具的任何時間量是生產系統可以繼續操作以生產半導體晶圓的時間量，從而節省最終使用者寶貴的生產時間和金錢。在某些情況下，可以很好地表徵特定類型的刷具，使得可以將調節設定一段時間而不必監測缺陷。
圖3示出了根據本揭示的態樣的用於調節刷具的刷具和調節板的示例性佈置。參照圖3，示出了圖300，其示出了刷具站110中的調節板（調節表面）310和刷具320。刷具320包括軸向開口322。軸向開口322的一端可以被用來當刷具320被用於清潔例如，半導體晶圓時的表面時保持刷具320。當刷具320被調節時，刷具支撐件330可用於保持刷具320。示例性刷具支撐件330可包括支架，柱和/或任何其他類型的支撐件。刷具支撐件330可以連接到馬達系統180。用於調節刷具的流體可以經由軸向開口的未連接到刷具支撐件330的端部引入到刷具320中。可以將刷具支撐件330調節到不同的尺寸，以允許不同刷具可具有的不同尺寸的軸向開口。可以使用各種其他部件將刷具320牢固地緊固到耦接部件322，但是在本揭示中將不描述這些部件，因為存在將諸如刷具320的結構緊固到刷具支撐件330的公知方法。
調節板310可以是平的或具有其他形狀，例如彎曲表面。表面可以是例如平坦的，凹的，凸的，管狀的，網狀的和/或偏置的（例如，從左到右）等，以改變刷具320的調節特性。調節板310可以由適當的材料製成，例如玻璃，石英，二氧化矽，多晶矽，氮化矽，碳化矽，鎢，鈦，氮化鈦，鋁，氧化鋁，鉭，氮化鉭，銅，釕，鈷等，取決於被調節刷具清潔的表面的性質（例如，Si，SiO2 ，SiC，SiOC，SiN，W，TiW，TiN，TaN，Cu，Ru，GaAs，GaP，InP，藍寶石，這些材料的任何組合等）。
調節板310的表面312可以具有調節刷具320所需的不同特性。例如，調節板310可以具有光滑，粗糙或含有研磨材料的表面312，例如SiO2 ，SiC，Al2 O3 ，CeO2 等。因此，為了為表面312提供不同的特性，可以適當地更換表面312，或者可以更換調節板310。用於調節刷具320的表面312可以接觸整個刷具或僅接觸刷具320的一部分。
不同的刷具320可以具有不同尺寸的長度、軸向開口322的直徑和/或外徑。可以調節和/或更換刷具支撐件330和調節板310以適應不同的尺寸和/或調節要求。當控制馬達速度/扭矩和/或引入流體以調節刷具320時，控制系統160還可以考慮不同的尺寸。
調節板310可以藉由連接到例如一個或多個支腿314的馬達（未示出）來移動。馬達可以是例如步進馬達，其可以向前移動調節板310以接觸刷具320，其中刷具320可以是靜止的或旋轉的。調節板310和刷具320之間的接觸程度可以藉由距離（例如，0～5mm的壓縮）和刷具馬達扭矩輸出來監控和控制。監視和控制可以由例如控制系統160執行。
各種實施例可以藉由例如在調節板310中的嵌入或黏附的觸覺壓力感測器來表徵（映射）由刷具320施加在調節板310上的壓力。
扭矩資料可用於直接或間接地驗證刷具320的品質（例如，同心度，刷具均勻性等）。各種實施例還可以基於各種反饋資料（例如，可以由各種壓力感測裝置收集的接觸面積，壓力，力等）來對調節處理進行調節。
如圖3所示，刷具320在左側連接到刷具支撐件330，以允許馬達以各種速度（例如，高達1000RPM）旋轉刷具320，並在刷具320被調節時監控馬達的扭矩輸出。刷具320的右側可以允許將流體（化學品，UPW等）輸送到刷具320的內部。這在圖4A中會更詳細地示出。流體（化學品和/或UPW）的輸送可以是輸送到刷具320 的外表面。這在圖4B中更詳細地示出。各種實施例可以將流體輸送到刷具320的內部和刷具320的外表面。流體到刷具320的流動可以藉由例如一個或多個閥來控制，這些閥可以由操作員手動控制或由控制系統160自動控制。流量可以變化到不同的範圍，例如，0～5GPM的示例性範圍。
此外，還可以將流體輸送到調節板310。可以在適當的時間將流體輸送到調節板310以用於調節刷具320。另外，一些實施例可以允許將不同的流體輸送到刷具320和調節板310。
圖4A示出了根據本揭示的態樣的化學品輸送到刷具的一種示例性方法。參考圖4A，示出了具有刷具320的刷具站110。如先前關於圖3所述，刷具支撐件330可用於保持刷具320。例如，套管332可以用於幫助將刷具320連接到刷具支撐件330和/或用作密封件，或者包括單獨的密封件，以防止輸送到刷具320的軸向開口322的流體410的洩漏。因此，在刷具320的調節處理中，輸送的流體410可以從刷具320的內部流到刷具320的表面。
導管420可用於將流體410從最終使用者的流體輸送系統101輸送到每個刷具站110。離線刷具調節系統100還可以被配置為連接到在最終使用者的流體輸送系統101中的多個導管，以允許不同類型的流體到離線刷具調節系統100的輸送。因此，最終使用者可以具有將特定流體輸送到離線刷具調節系統100的能力。
導管420還可包括閥430，閥430可用於調節輸送到刷具320的流體的流速和壓力。雖然示出了手動閥430，但是本揭示的各種實施例不必如此限制。閥430可經由控制系統160而可以手動地和/或遠端操作。閥430還可以包括例如輸入處的壓力感測器（未示出）和/或輸出處的壓力感測器（未示出），其中壓力可以顯示在閥430處、在諸如使用者介面120之類的顯示器，和/或在遠端裝置處。閥430還可以顯示指示標記或指示流體流速的其他顯示。流體流速也可以顯示在諸如使用者介面120和/或遠端裝置的顯示器上。
雖然未示出，但是本揭示的各種實施例還可以包括其他機構（包括泵）以增加流體輸送的壓力，或者降低輸送流體的壓力。
導管420還可以包括各種機構，用於允許將流體輸送到在刷具站110處的多個噴嘴（如圖4B所示）。例如，歧管可用於允許與噴嘴類似的壓力和流速。歧管也可用於將流體輸送到多個刷具320和/或刷具站110。例如，歧管可用於將流體輸送到刷具320的軸向開口322。
因此，可以看出，各種實施方案可藉由單個導管420或多個導管420接受多個獨立的濃縮或稀釋流體，其pH值範圍基本上為1～13。一些腐蝕性非常強的化學品，例如氟化氫（HF）或稀釋的HF可以提供專用導管。
離線刷具調節系統100可以接收的流體可以包括但不限於DIW、有機酸（檸檬酸，草酸，丙酸，蘋果酸，甲酸，碳酸，磺酸等）、表面活性劑、氧化劑（H2 O2 ， O3 ，CO2 ，無機過氧化物等）、溶劑（IPA，乙醇，乙酸乙酯，DMSO等）、鹼性化學品（NH4 OH，KOH，NaOH，TMAH，乙醇胺等），包括所有可能的這些流體的衍生物。
耦接裝置422和424可用於將各種導管彼此耦接，並且還可提供密封（或用作密封件）以防止流體洩漏。
圖4B示出了根據本揭示的態樣的化學品輸送到刷具的另一示例性方法。圖4B的輸送系統與圖4A所描述的不同，在圖4A中流體被輸送到刷具320的表面。因此，不是將流體輸送到刷具320的軸向開口322，而是將流體滴在刷具320上或藉由歧管424的噴嘴426噴射到刷具320上。流體可以是加壓的或不加壓的。本揭示的各種實施例可以允許調節噴嘴426的噴射模式，並且還可以調節噴嘴426以允許藉由噴嘴426的不同流速。
可以使用各種公知技術手動地或在控制系統160的控制下調節噴嘴426。另外，對於特定配置，歧管424的每個部分可以單獨更換，或者歧管424可以用更適合於刷具320的另一個歧管424加以替換。
因此，如關於圖4A和圖4B所示。流體可以經施加而通過刷具320或刷具320的表面。本揭示的各種實施例還可以允許將流體施加到刷具320的表面並通過刷具320。本發明的各種實施例還可允許在刷具調節處理期間經由歧管（如果可用）和/或經由導管將流體輸送到調節板310的表面。
圖5示出了根據本揭示的態樣的將化學品輸送到刷具調節系統的示例性方法的流程圖。在流程圖502，則確定要被調節的刷具320的類型。
在504處，設置離線刷具調節系統100以容納刷具320。這可能是由於，例如，刷具320的尺寸、刷具320的組成、在刷具320被調節後由刷具320清潔的材料的表面等等使然。因此，一些變量可以是以下各者之選擇：如果最終使用者可以向離線刷具調節系統100供應多於一種流體，則可以向刷具320輸送流體；是否要輸送流體通過刷具320(如圖4A所示）、至刷具320的表面上（如圖4B所示)，或者藉由刷具320和刷具320的表面兩者；是否應該將流體輸送到調節板310；所使用的調節板310的類型；以及確定何時完成調節。
在506處，可以開始對刷具進行調節。例如，在本揭示的實施例中，調節板310可以在控制系統160的控制下移動到距刷具320適當的距離。可以藉由相對於調節板310旋轉來調節刷具320。
在508處，可以確定調節是否完成。該確定可以取決於設計和/或實現。例如，調節可以持續設定的一段時間，或者調節時間可以取決於調節期間的缺陷量測。如果確定完成調節，則可以在510處移除刷具320並且該過程可以在502處重新開始。如果確定調節未完成，則刷具320可以在506處繼續進行調節。508處的確定可以連續地或週期性地發生。
本方法和系統可以用硬體，軟體和/或硬體和軟體的組合來實現。本方法和/或系統可以例如以集中方式在至少一個計算系統中實現控制系統160，或者以分佈式方式實現，分佈式方式中不同元件分佈在若干互連計算系統上。適於執行本文描述的方法的任何類型的計算系統或其他裝置都是適合的。硬體和軟體的典型組合可以包括具有程式或其他編碼的通用計算系統，該程式或其他編碼在被加載和執行時控制計算系統，使得其執行本文描述的方法。另一典型實現可包括一個或多個特殊應用積體電路或晶片。一些實現可以包括非暫時性機器可讀（例如，計算機可讀）媒體（例如，快閃記憶體，光碟，磁性儲存碟等），其上儲存有可由機器執行的一行或多行編碼，從而使機器執行如本文所述的處理。如本文所使用的，術語「非暫時性機器可讀媒體」被定義為包括所有類型的機器可讀儲存媒體並且排除傳播信號。
如本文所使用的，術語「電路」和「電路系統」是指物理電子組件（即硬體）和任何軟體和/或韌體（「編碼」），其可以配置硬體，由硬體執行，或者以其他方式與硬體關聯。如這裡所使用的，例如，特定處理器和記憶體可以在執行第一行或多行編碼時包括第一「電路」，並且在執行第二行或多行編碼時可以包括第二「電路」。如這裡所使用的，「和/或」表示 由「和/或」連接的列表中的任何一個或多個項目。作為示例性，「x和/或y」表示三元素集{（x），（y），（x，y）}中的任何元素。換句話說，「x和/或y」表示「 x和y中的 一個或兩個」。作為另一個例子， 「x，y和/或z」表示七元素集{（x），（y），（z），（x，y），（x，z），（y，z），（x，y，z）}中的任何元素。換句話說，「x，y和/或z」表示「x，y和z中的一個或多個」。如本文所使用的，術語「示例性」意味著用作非限制性示例性，實例或說明。如這裡所使用的，術語「例如」和「舉例而言」引出一個或多個非限制性示例性，實例或圖示的列表。{0}如本文所使用的，電路「可操作」以在電路包括必要的硬體和編碼（如果有{/0} {1}必要的話）來執行功能時執行功能，而不管是否禁用或不啟用功能的性能（例如，藉由使用者可配置的設置，工廠修剪等）。
雖然已經參考某些實施方式描述了本方法和/或系統，但是本領域技術人員將理解，可以進行各種改變並且可以替換等同物而不脫離本方法的範圍和/或系統。另外，在不脫離本揭示的範圍的情況下，可以進行許多修改以使特定情況或材料適應本揭示的教導。因此，本方法和/或系統不限於所揭示的特定實施方式。相反，本方法和/或系統將包括在落入字面上和在等同原則下的所附請求項範圍內的所有實施方式。
100‧‧‧離線刷具調節系統101‧‧‧流體輸送系統110‧‧‧刷具站120‧‧‧使用者介面130‧‧‧狀態燈140‧‧‧流體流入系統150‧‧‧流體流出系統160‧‧‧控制系統170‧‧‧I/O介面180‧‧‧馬達系統200‧‧‧曲線圖300‧‧‧圖310‧‧‧調節板312‧‧‧表面314‧‧‧支腿320‧‧‧刷具322‧‧‧軸向開口330‧‧‧刷具支撐件332‧‧‧套管410‧‧‧流體420‧‧‧導管422‧‧‧耦接裝置424‧‧‧耦接裝置430‧‧‧閥426‧‧‧噴嘴500‧‧‧流程圖502‧‧‧流程圖504‧‧‧流程圖506‧‧‧流程圖508‧‧‧流程圖510‧‧‧流程圖
從以下結合附圖對示例性實施例的描述中，這些和/或其他態樣將變得顯而易見並且更容易理解。
圖1A示出了根據本揭示的態樣的示例性離線刷具調節系統的圖。
圖1B示出了根據本揭示的態樣的離線刷具調節系統的示例性框圖。
圖2是示出缺陷和調節時間之間的示例性關係的曲線圖。
圖3示出了根據本揭示的態樣的用於調節刷具的刷具和調節板的示例性佈置。
圖4A示出了根據本揭示的態樣的化學品輸送到刷具的一種示例性方法。
圖4B示出了根據本揭示的態樣的化學品輸送到刷具的另一示例性方法。
圖5示出了根據本揭示的態樣的將化學品輸送到刷具調節系統的示例性方法的流程圖。
這些圖不一定按比例。在適當的情況下，相似或相同的元件符號用於表示相似或相同的組件。
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100‧‧‧離線刷具調節系統
101‧‧‧流體輸送系統
110‧‧‧刷具站
120‧‧‧使用者介面
130‧‧‧狀態燈

Claims (21)

  1. 一種被配置為藉由一調節處理調節一刷具的一離線刷具調節系統，該離線刷具調節系統包括：一調節表面；一刷具保持裝置，該刷具保持裝置用於保持該刷具；一導管，該導管配置成從一源接收一化學品，而用於將該化學品輸送到該刷具和該調節表面中的一個或兩個；和一第一流出導管，其配置為在調節處理期間排出與該刷具的一第一部分相關的流出物；一第二流出導管，其被配置為在調節處理期間排出與該刷具的一第二部分相關的流出物；複數個感測器，其中一第一感測器被配置為產生反饋資料，該反饋資料反映來自該第一流出導管和該第二流出導管中的每一個的化學品中的流出物的一特徵，並且該第二感測器被配置為在調節處理期間監測一馬達的一扭矩輸出；和一控制器，該控制器可操作地耦合到一或更多個感測器並被配置為控制該離線刷具調節系統，其中：該控制器被配置為基於該反饋資料和該扭矩輸出調整調節處理， 該調節表面和該刷具被配置成彼此接觸以調節該刷具，該控制器被配置為使用該反饋資料和該扭矩輸出確定調節處理完成，以及當該控制器確定該調節處理完成時，該控制器被配置為提供指示該刷具將從該刷具保持裝置移除的一警報。
  2. 根據請求項1所述的系統，其中該化學品的pH值基本上在1至13的範圍內。
  3. 根據請求項1所述的系統，其中該化學品包括氟化氫和稀釋的氟化氫中的一種。
  4. 根據請求項1所述的系統，其中該化學品包括去離子水，有機酸，表面活性劑，氧化劑，溶劑和鹼性化學品中的至少一種。
  5. 根據請求項1所述的系統，還包括一歧管，該歧管配置成從該導管接收該化學品以控制該化學品向該刷具和該調節表面中的一者或兩者的輸送。
  6. 根據請求項5所述的系統，其中該化學品在壓力下從該歧管輸送。
  7. 根據請求項5所述的系統，其中該化學品藉由滴落或噴灑之一方式直接從該歧管輸送。
  8. 根據請求項1所述的系統，其中該化學品直接輸送到該刷具和該調節表面中的一者或兩者。
  9. 根據請求項1所述的系統，其中該化學品直接輸送到該刷具的一內部。
  10. 根據請求項9所述的系統，其中該化學品經由沿著該刷具的一中心軸向地形成的一中心開口直接輸送到該刷具的一內部。
  11. 根據請求項1所述的系統，其中該離線刷具調節系統包括多個刷具保持裝置，該等刷具保持裝置用於調節多個該刷具，並且該導管將該化學品輸送到該等多個刷具。
  12. 根據請求項1所述的系統，包括一閥，該閥被配置成將藉由該導管的該化學品的輸送控制成以一第一流速來輸送。
  13. 根據請求項12所述的系統，其中該閥是手動控制的或藉由自動控制的以用於將該化學品的輸送控制成以不同於該第一流速的一第二流速來輸送。
  14. 根據請求項1所述的系統，其中，該控制器被配置為使用來自會反映該扭矩輸出的該第二感測器的一測量值來驗證該刷具的一品質。
  15. 根據請求項14所述的系統，其中，該刷具的該品質是同心度或均勻度。
  16. 根據請求項1所述的系統，其中，該控制器被配置為透過一遠端裝置無線地提供該警報。
  17. 根據請求項1所述的系統，其中，該反饋資料反映該刷具和該調節表面之間的一接觸面積、一壓力或一力。
  18. 根據請求項1所述的系統，其中，該刷具不耦合到利用該刷具清潔一物體的表面的一機器。
  19. 一種離線刷具調節系統，其被配置為調節複數個刷具，該離線刷具調節系統包括：一第一刷具保持裝置，其配置成將一第一刷具與一第一調節表面保持接觸；一第二刷具保持裝置，其配置成將一第二刷具與一第二調節表面保持接觸，其中該第一刷具與該第二刷具隔離以減輕調節處理中的交叉污染；一導管，該導管配置為從一源接收一化學品以將該化學品輸送至一歧管，其中該歧管配置為在該調節處理期間將該化學品輸送至(1)該第一刷具或該第一調節表面和(2)該第二刷具或該第二調節表面；和一控制器，該控制器可操作地耦合到複數個感測器並且被配置為基於來自該複數個感測器中的一第一感測器的與該第一刷具和該第二刷具有關的反饋資料以及來自該複數個感測器中的一第二感測器的一馬達的扭 矩輸出來調整該調節處理，其中該控制器被配置為使用該反饋資料和該扭矩輸出確定該第一刷具和該第二刷具中的每一者的調節處理完成。
  20. 根據請求項19所述的系統，其中，該反饋資料反映來自該離線刷具調節系統的一流出導管中的流出物的一特徵。
  21. 根據請求項19所述的系統，其中，該第一刷具和該第二刷具不耦合至使用該刷具清潔一物體的表面的一機器。
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