TWI820589B - 電子裝置及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種電子裝置及其製造方法。電子裝置包括基板、多個發光元件以及吸光層。多個發光元件設置在基板上。其中一個發光元件具有至少一側面。吸光層設置在基板上且位於兩個相鄰的發光元件之間，其中吸光層接觸所述至少一側面。

Description

電子裝置及其製造方法
本揭露是有關於一種電子裝置及其製造方法。
發光元件（如發光二極體）除了頂面之外，其側面也會發光。由於設置在載板上的多個發光元件的傾角不一致，導致側視下的側面發光強度不同，而容易出現色彩不均勻（mura）或白畫面色偏等問題。
本揭露提供一種電子裝置及其製造方法，其有助於改善色彩不均勻或白畫面色偏等問題。
根據本揭露的實施例，電子裝置包括基板、多個發光元件以及吸光層。多個發光元件設置在基板上，其中一個發光元件具有至少一側面。吸光層設置在基板上且位於兩個相鄰的發光元件之間，其中吸光層接觸所述至少一側面。
根據本揭露的實施例，製造電子裝置的方法包括將多個發光元件設置在基板上，且其中一個發光元件具有至少一側面。製造電子裝置的方法還包括將吸光層形成在基板上，其中吸光層接觸所述至少一側面。
為讓本揭露的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
現將詳細地參考本揭露的示範性實施例，示範性實施例的實例說明於附圖中。只要有可能，相同元件符號在圖式和描述中用來表示相同或相似部分。
本揭露通篇說明書與所附的申請專利範圍中會使用某些詞彙來指稱特定元件。所屬技術領域中具有通常知識者應理解，電子裝置製造商可能會以不同的名稱來指稱相同的元件。本文並不意在區分那些功能相同但名稱不同的元件。在下文說明書與申請專利範圍中，「含有」與「包含」等詞為開放式詞語，因此其應被解釋為「含有但不限定為…」之意。
本文中所提到的方向用語，例如：“上”、“下”、“前”、“後”、“左”、“右”等，僅是參考附圖的方向。因此，使用的方向用語是用來說明，而並非用來限制本揭露。在附圖中，各圖式繪示的是特定實施例中所使用的方法、結構及/或材料的通常性特徵。然而，這些圖式不應被解釋為界定或限制由這些實施例所涵蓋的範圍或性質。舉例來說，為了清楚起見，各膜層、區域及/或結構的相對尺寸、厚度及位置可能縮小或放大。
本揭露中所敘述之一結構（或層別、元件、基材）位於另一結構（或層別、元件、基材）之上/上方，可以指二結構相鄰且直接連接，或是可以指二結構相鄰而非直接連接。非直接連接是指二結構之間具有至少一仲介結構（或仲介層別、仲介元件、仲介基材、仲介間隔），一結構的下側表面相鄰或直接連接于仲介結構的上側表面，另一結構的上側表面相鄰或直接連接于仲介結構的下側表面。而仲介結構可以是單層或多層的實體結構或非實體結構所組成，並無限制。在本揭露中，當某結構設置在其它結構「上」時，有可能是指某結構「直接」在其它結構上，或指某結構「間接」在其它結構上，即某結構和其它結構間還夾設有至少一結構。
說明書與申請專利範圍中所使用的序數例如「第一」、「第二」等之用詞用以修飾元件，其本身並不意含及代表該（或該些）元件有任何之前的序數，也不代表某一元件與另一元件的順序、或是製造方法上的順序，該些序數的使用僅用來使具有某命名的元件得以和另一具有相同命名的元件能作出清楚區分。申請專利範圍與說明書中可不使用相同用詞，據此，說明書中的第一構件在申請專利範圍中可能為第二構件。
本揭露中所敘述之電性連接或耦接，皆可以指直接連接或間接連接，於直接連接的情況下，兩電路上元件的端點直接連接或以一導體線段互相連接，而於間接連接的情況下，兩電路上元件的端點之間具有開關、二極體、電容、電感、電阻、其他適合的元件、或上述元件的組合，但不限於此。
在本揭露中，厚度、長度與寬度的量測方式可以是採用光學顯微鏡量測而得，厚度或寬度則可以由電子顯微鏡中的剖面影像量測而得，但不以此為限。另外，任兩個用來比較的數值或方向，可存在著一定的誤差。另外，本揭露中所提到的術語“實質上”或“大致上”或“等於”通常代表落在給定數值或範圍的10%範圍內。此外，用語“給定範圍為第一數值至第二數值”、“給定範圍落在第一數值至第二數值的範圍內”表示所述給定範圍包括第一數值、第二數值以及它們之間的其它數值。若第一方向垂直於第二方向，則第一方向與第二方向之間的角度可介於80度至100度之間；若第一方向平行於第二方向，則第一方向與第二方向之間的角度可介於0度至10度之間。
須知悉的是，以下所舉實施例可以在不脫離本揭露的精神下，可將數個不同實施例中的特徵進行替換、重組、混合以完成其他實施例。各實施例間特徵只要不違背發明精神或相衝突，均可任意混合搭配使用。
除非另外定義，在此使用的全部用語（包含技術及科學用語）具有與本揭露所屬技術領域的具有通常知識者通常理解的相同涵義。能理解的是，這些用語例如在通常使用的字典中定義用語，應被解讀成具有與相關技術及本揭露的背景或上下文一致的意思，而不應以一理想化或過度正式的方式解讀，除非在本揭露實施例有特別定義。
在本揭露中，電子裝置可包括顯示裝置、背光裝置或拼接裝置，但不以此為限。電子裝置可為可彎折或可撓式電子裝置。顯示裝置可為非自發光型顯示裝置或自發光型顯示裝置。拼接裝置可例如是顯示器拼接裝置，但不以此為限。需注意的是，電子裝置可為前述之任意排列組合，但不以此為限。
須說明的是，下文中不同實施例所提供的技術方案可相互替換、組合或混合使用，以在未違反本揭露精神的情況下構成另一實施例。
圖1至圖3是根據本揭露的一些實施例的電子裝置的製造流程的局部剖面示意圖。請參照圖1，製造電子裝置的方法可包括將多個發光元件12設置在基板10上，舉例來說，可透過表面貼焊技術(Surface Mount Technology，SMT)將多個發光元件12設置在基板10上，但不以此為限。
基板10例如可包括印刷線路板、軟性印刷電路板、其上形成有線路的玻璃基板或其上形成有線路的可撓基板等，但不以此為限。
發光元件12例如可包括有機發光二極體（Organic Light Emitting Diode，OLED）、次毫米發光二極體（mini LED）、微發光二極體（micro LED）或量子點發光二極體（quantum dot LED），但不以此為限。
發光元件12可包括頂面S12T以及至少一側面S12S。舉例來說，發光元件12可為圓柱體，且發光元件12可包括一個側面S12S；或者，發光元件12可為多邊形柱體（例如四邊形柱體），且發光元件12可包括多個（例如四個）側面S12S。
在一些實施例中，多個發光元件12可透過巨量轉移製程從成長基板或臨時載板轉移至基板10上。舉例來說，可先在基板10的多個接墊100上分別形成多個導電凸塊14，接墊100與導電凸塊14可對應設置。接著，可透過巨量轉移製程將多個發光元件12分別轉移至多個導電凸塊14上，發光元件12與導電凸塊14可對應設置，且各發光元件12的接墊120與對應的一個導電凸塊14接觸。然後，可透過回流焊(solder reflow)製程，使發光元件12的接墊120固定至導電凸塊14。接墊100和接墊120的材料可包括鎳金、鎳鈀金、銀、金、鎳、錫、有機保焊膜(Organic Solderability Preservative，OSP)、其他導電材料或上述的組合，但不以此為限。導電凸塊14的材料可包括錫球、銅柱、其他合適金屬材料或金屬合金材料，但不以此為限。在一些實施例中，發光元件12可以例如是覆晶式(Flip Chip)發光二極體且可至少包括兩個接墊(未繪示)，但不以此為限。在另一些實施例中，發光元件12可以例如是直立式(Vertical Chip)發光二極體且可至少包括一個接墊(如圖1)，但不以此為限。此外，為清楚說明，本案僅繪示出一個接墊與一個導電凸塊對應設置，但本案不限制發光元件12的接墊數量以及設置於基板上的導電凸塊的數量。
在一些實施例中，多個發光元件12可包括多個紅色發光元件12R（圖1僅示意性繪示出一個）、多個綠色發光元件12G（圖1僅示意性繪示出一個）以及多個藍色發光元件12B（圖1僅示意性繪示出一個），但不以此為限。多個紅色發光元件12R、多個綠色發光元件12G以及多個藍色發光元件12B例如在方向D1或/及方向D2上交替排列，但不以此為限。方向D1與方向D2彼此相交且皆垂直於基板10的法線方向（如方向D3）。在一些實施例中，方向D1與方向D2彼此垂直，但不以此為限。
在一些實施例中，製造電子裝置的方法還可包括在形成吸光層18（參照圖2）之前，先在各發光元件12的頂面S12T上形成界面活性劑16。界面活性劑16的材料可包括任何與吸光層18互斥的材料，以降低吸光層18沾附在頂面S12T上的機率。舉例來說，界面活性劑16可透過印刷，如噴墨印刷（Ink-Jet Printing，IJP），形成在發光元件12的頂面S12T上，但不以此為限。在其他實施例中，儘管未繪示，製造電子裝置的方法也可省略形成界面活性劑16的步驟。
請參照圖2，製造電子裝置的方法還可包括將吸光層18形成在基板10上，其中吸光層18接觸各發光元件12的側面S12S。
舉例來說，可透過塗佈或印刷等方式將吸光層18形成在基板10上。吸光層18可用以吸收從發光元件12的側面S12S射出的光（未繪示）。舉例來說，吸光層18的光學密度（OD值）可為0.5至2，但不以此為限。在一些實施例中，吸光層18的材料可包括黑膠、黑漆、灰色塗料或其他合適之材料，但不以此為限。
在一些實施例中，吸光層18的高度H18可小於或等於各發光元件12的高度H12。吸光層18的高度H18例如為基板10的頂面S10T至吸光層18的頂面S18T在方向D3上的最大距離。發光元件12的高度H12例如為基板10的頂面S10T至發光元件12的頂面S12T在方向D3上的最大距離。吸光層18的高度H18可依據不同規格（例如遮光程度）改變。在一些實施例中，吸光層18的高度H18可大於或等於發光元件12的高度H12的一半且小於或等於各發光元件12的高度H12。
請參照圖3，製造電子裝置的方法還可包括移除界面活性劑16。移除界面活性劑16的方法可包括加熱或照光，但不以此為限。儘管未繪示，在界面活性劑16具有高光穿透率的情況下，可省略移除界面活性劑16的步驟。
製造電子裝置的方法還可包括在吸光層18和多個發光元件12上形成保護層19。舉例來說，可透過塗佈方式將保護層19形成在吸光層18和多個發光元件12上。保護層19可用以保護發光元件12。舉例來說，保護層19可包括具有足夠機械強度、耐化性佳、高光穿透率、阻水氧或高折射率等特性的材料，如矽氧烷材料，但不以此為限。舉例來說，保護層19的可見光穿透率可大於85%，以允許從發光元件12的頂面S12T射出的大部分光穿過保護層19。此外，保護層19的折射率可為1.4至1.9，但不以此為限。在一些實施例中，本揭露所述的“穿透率”可以是發光元件12的發射光穿透保護層19後量測到的光強度除以發射光未穿透保護層19所量測到的光強度的百分比。發光元件12的發射光可包含可見光(例如波長介於380nm至780nm之間)或紫外光(例如波長小於365nm)，但不限於此。舉例來說，當發光元件12的發射光為可見光時，光強度為波長380nm至波長780nm範圍內的頻譜積分值。
在一些實施例中，保護層19的材料可包括環氧樹脂(epoxy)、丙烯酸類樹脂(acylic-based resin)、矽膠(silicone)、聚醯亞胺聚合物(polyimide polymer)或上述組合，但不以此為限。在一些實施例中，保護層19可為受熱固化，且固化溫度可為攝氏100度至攝氏250度，例如：攝氏120度、攝氏130度、攝氏200度或攝氏250度，但不以此為限。在一些實施例中，保護層19的厚度T19可為200微米至250微米(200μm≦厚度T19≦250μm)，但不以此為限。保護層19的厚度T19例如為保護層19在方向D3上的最大厚度。在一些實施例中，保護層19可為亮面或霧面。透過採用霧面的保護層19，有助於進一步抑制色差或降低顆粒感，使電子裝置具更加的光學品味。
形成保護層19後，便初步完成電子裝置1的製造。電子裝置1包括基板10、多個發光元件12以及吸光層18。多個發光元件12設置在基板10上，且發光元件12具有至少一側面S12S。吸光層18設置在基板10上且位於兩個相鄰的發光元件12之間，其中吸光層18接觸所述至少一側面S12S。
在一些實施例中，電子裝置1還可包括多個導電凸塊14，且多個發光元件12的多個接墊120透過多個導電凸塊14接合至基板10的多個接墊100。在一些實施例中，電子裝置1還可包括保護層19。保護層19設置在吸光層18和多個發光元件12上。
在電子裝置1中，覆蓋發光元件12的側面S12S的吸光層18可吸收從發光元件12的側面S12S射出的光，而有助於改善因側視下光強度不同造成的色彩不均勻或白畫面色偏等問題。
圖4A至圖4C分別是紅色發光元件、綠色發光元件以及藍色發光元件在方位角0度下的天頂角與光強度的關係圖。圖5A至圖5C分別是紅色發光元件、綠色發光元件以及藍色發光元件在方位角90度下的天頂角與光強度的關係圖。需注意的是，本揭露以天頂角0度的光強度100%作為比較基準。
在圖4A至圖5C中，以虛線和實線分別表示未設置和有設置吸光層的情況。從圖4A至圖5C可看出，透過設置吸光層，可縮減不同視角的光強度差異，從而有助於改善色彩不均勻或白畫面色偏等問題。
在實際產品中，可透過光學顯微鏡、3D顯微鏡或掃描電子顯微鏡(SEM)觀察發光元件的側面是否有吸光層。在設置有吸光層的情況下，從光學顯微鏡或3D顯微鏡難以觀察到發光元件的側面，可利用離子束剖面研磨(Cross section polisher，CP)技術研磨發光元件側面或剖面，再以掃描電子顯微鏡(SEM)觀察發光元件側面或剖面，而在未設置吸光層的情況下，從光學顯微鏡、3D顯微鏡或掃描電子顯微鏡(SEM)容易觀察到發光元件的側面。在觀察前，可選擇性地移除（例如撕除）保護層，以觀察到更清楚的影像。
圖6至圖8分別是根據本揭露的一些實施例的電子裝置的局部剖面示意圖。請參照圖6，電子裝置1A與圖3的電子裝置1的主要差異說明如下。
在電子裝置1A中，吸光層18A的高度H18大於各發光元件12的高度H12，且吸光層18A曝露出各發光元件12的頂面S12T。
製造電子裝置1A的方法例如包括在基板10上設置多個發光元件12，接著將吸光層18A形成在基板10上。舉例來說，可透過塗佈或印刷等方式將吸光材料設置在基板10上且覆蓋多個發光元件12，然後透過圖案化製程（例如黃光製程或雷射方式）形成分別曝露出多個發光元件12的頂面S12T的多個開口A。接著，在吸光層18A上以及多個開口A中形成保護材料，並透過升溫製程使保護材料受熱固化形成保護層19。
在一些實施例中，依據所選擇的保護材料或圖案化製程中蝕刻劑的蝕刻選擇比等的不同，保護層19在鄰近發光元件12處可能有底切（undercut）現象（參照圖6中的圓形虛線框），也就是說保護層19與吸光層18A的界線在鄰近發光元件12可不平整。然而，在其他實施例中，儘管未繪示，也可透過其他製程（例如研磨製程）來曝露出發光元件12的頂面S12T。在採用研磨製程的情況下，吸光層18A的高度H18可大致上等於各發光元件12的高度H12。
請參照圖7，電子裝置1B與圖3的電子裝置1的主要差異說明如下。在電子裝置1B中，基板10B例如為元件陣列基板。舉例來說，基板10B可包括載板102以及設置在載板102與多個發光元件12之間的元件陣列層104，且多個接墊100位於元件陣列層104中。載板102可包括玻璃載板或塑膠載板，但不以此為限。儘管未繪示，元件陣列層104可包括多個元件（如多個主動元件）以及多條線路（如多條訊號線、多條電源線等），但不以此為限。在一些實施例中，電子裝置1B可做為顯示裝置，而圖3的電子裝置1可做為背光模組，但不以此為限。
請參照圖8，電子裝置1C與圖6的電子裝置1A的主要差異說明如下。電子裝置1C亦採用圖7所示的基板10B承載多個發光元件12。因此，電子裝置1C也可做為顯示裝置，但不以此為限。
綜上所述，在本揭露的實施例中，透過覆蓋發光元件的側面的吸光層吸收從發光元件的側面射出的光，因此電子裝置有助於改善因側視下光強度不同造成的色彩不均勻或白畫面色偏等問題。
以上各實施例僅用以說明本揭露的技術方案，而非對其限制；儘管參照前述各實施例對本揭露進行了詳細的說明，所屬技術領域中具有通常知識者應當理解：其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術特徵進行等同替換；而這些修改或者替換，並不使相應技術方案的本質脫離本揭露各實施例技術方案的範圍。
雖然本揭露的實施例及其優點已揭露如上，但應該瞭解的是，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭露之精神和範圍內，當可作更動、替代與潤飾，且各實施例間的特徵可任意互相混合替換而成其他新實施例。此外，本揭露之保護範圍並未侷限於說明書內所述特定實施例中的製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟，任何所屬技術領域中具有通常知識者可從本揭露揭示內容中理解現行或未來所發展出的製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟，只要可以在此處所述實施例中實施大抵相同功能或獲得大抵相同結果皆可根據本揭露使用。因此，本揭露的保護範圍包括上述製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟。另外，每一請求項構成個別的實施例，且本揭露之保護範圍也包括各個請求項及實施例的組合。本揭露之保護範圍當視隨附之申請專利範圍所界定者為準。
1、1A、1B、1C:電子裝置 10、10B:基板 12:發光元件 12R:紅色發光元件 12G:綠色發光元件 12B:藍色發光元件 14:導電凸塊 16:界面活性劑 18、18A:吸光層 19:保護層 100、120:接墊 102:載板 104:元件陣列層 A:開口 D1、D2、D3:方向 H12、H18:高度 S10T、S12T、S18T:頂面 S12S:側面 T19:厚度
圖1至圖3是根據本揭露的一些實施例的電子裝置的製造流程的局部剖面示意圖。 圖4A至圖4C分別是紅色發光元件、綠色發光元件以及藍色發光元件在方位角（azimuth angle）0度下的天頂角（zenith angle）與光強度的關係圖。 圖5A至圖5C分別是紅色發光元件、綠色發光元件以及藍色發光元件在方位角90度下的天頂角與光強度的關係圖。 圖6至圖8分別是根據本揭露的一些實施例的電子裝置的局部剖面示意圖。
1:電子裝置
10:基板
12:發光元件
12R:紅色發光元件
12G:綠色發光元件
12B:藍色發光元件
14:導電凸塊
18:吸光層
19:保護層
100、120:接墊
D1、D2、D3:方向
S12T:頂面
S12S:側面
T19:厚度

Claims (8)

  1. 一種電子裝置，包括：基板；多個發光元件，設置在所述基板上，且其中一個所述發光元件具有至少一側面；吸光層，設置在所述基板上且位於兩個相鄰的所述發光元件之間，其中所述吸光層接觸所述至少一側面；以及保護層，設置在所述吸光層和所述多個發光元件上，其中所述保護層的厚度為200μm至250μm。
  2. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述吸光層的高度小於或等於各所述發光元件的高度。
  3. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述吸光層的高度大於各所述發光元件的高度，且所述吸光層曝露出各所述發光元件的頂面。
  4. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述保護層的可見光穿透率大於85%。
  5. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述保護層的折射率為1.4至1.9。
  6. 如請求項1所述的電子裝置，其中所述吸光層的光學密度為0.5至2。
  7. 一種製造電子裝置的方法，包括：將多個發光元件設置在基板上，且其中一個所述發光元件具 有至少一側面；將吸光層形成在所述基板上，其中所述吸光層接觸所述至少一側面；以及將保護層形成在所述吸光層和所述多個發光元件上，其中所述保護層的厚度為200μm至250μm。
  8. 如請求項7所述的製造電子裝置的方法，還包括：在形成所述吸光層之前，先在各所述發光元件的頂面上形成界面活性劑。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1869740A (zh) * 2005-05-25 2006-11-29 中华映管股份有限公司 制造彩色滤光片的方法
CN107507845A (zh) * 2016-06-14 2017-12-22 群创光电股份有限公司 显示装置
CN109844948A (zh) * 2017-10-12 2019-06-04 株式会社流明斯 显示器用发光二极管模块组件
CN110767108A (zh) * 2019-10-21 2020-02-07 东莞阿尔泰显示技术有限公司 避免串光干涉的微间距显示灯板及其制造方法
TW202109920A (zh) * 2019-08-23 2021-03-01 李家銘 具有遮光膜的rgb發光二極體模組

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11094530B2 (en) * 2019-05-14 2021-08-17 Applied Materials, Inc. In-situ curing of color conversion layer
KR20210057275A (ko) * 2019-11-11 2021-05-21 갈란트 프리시젼 머시닝 캄파니, 리미티드 발광 모듈 및 이의 제조방법
CN112786742B (zh) * 2021-01-05 2022-02-22 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制作方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1869740A (zh) * 2005-05-25 2006-11-29 中华映管股份有限公司 制造彩色滤光片的方法
CN107507845A (zh) * 2016-06-14 2017-12-22 群创光电股份有限公司 显示装置
CN109844948A (zh) * 2017-10-12 2019-06-04 株式会社流明斯 显示器用发光二极管模块组件
TW202109920A (zh) * 2019-08-23 2021-03-01 李家銘 具有遮光膜的rgb發光二極體模組
CN110767108A (zh) * 2019-10-21 2020-02-07 东莞阿尔泰显示技术有限公司 避免串光干涉的微间距显示灯板及其制造方法

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