TWI814386B

TWI814386B - 顯示裝置及其製造方法

Info

Publication number: TWI814386B
Application number: TW111118371A
Authority: TW
Inventors: 謝朝樺; 陳逸安
Original assignee: 群創光電股份有限公司
Priority date: 2021-08-12
Filing date: 2022-05-17
Publication date: 2023-09-01
Also published as: TW202307808A; CN115707273A

Abstract

一種顯示裝置及其製造方法。顯示裝置包括基板、間隔層、發光元件以及光學層。間隔層設置在基板上且包括開孔。發光元件以及光學層設置在開孔內。

Description

顯示裝置及其製造方法

本發明是有關於一種電子裝置及其製造方法，且特別是有關於一種顯示裝置及其製造方法。

鑄模(molding)或蝕刻(etching)製程通常用於加工光學層(如微透鏡結構)。這兩種方法都很複雜且不易控制光學層的輪廓。

本發明提供一種顯示裝置及其製造方法，其能夠簡化光學層的製作難度，並達到良好的光學效果。

在本發明的一實施例中，顯示裝置包括基板、間隔層、發光元件以及光學層。間隔層設置在基板上且包括開孔。發光元件以及光學層設置在開孔內。

在本發明的一實施例中，顯示裝置的製造方法包括以下步驟。提供基板。在基板上形成間隔層，間隔層包括開孔。在開孔內設置發光元件。在開孔內形成光學層。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

1、1A、1B、1C、1D、1E:顯示裝置

10、15:基板

11、18、L2:間隔層

12、12A、12B:發光元件

13、L1:光學層

14:黏著材料

16、25:光吸收層

17:彩色濾光片

17R:紅色濾光圖案

17G:綠色濾光圖案

17B:藍色濾光圖案

19、20:色轉換圖案

21、21A:光散射層

22:封裝層

23:間隔件

24:黏著層

A1、A2、A3、A4:開孔

C:導電件

D1:俯視方向

D2:方向

E1:第一側

E2:第二側

H:最大高度

H1、H2:高度

M:材料

P:接墊

S1、S2:弧形表面

W1、W2:寬度

圖1是繪示出光學層的製作方法的剖面示意圖。

圖2至圖7分別是根據本揭露的多個實施例的顯示裝置的局部剖面示意圖。

現將詳細地參考本發明的示範性實施例，示範性實施例的實例說明於附圖中。只要有可能，相同元件符號在圖式和描述中用來表示相同或相似部分。

本揭露通篇說明書與所附的申請專利範圍中會使用某些詞彙來指稱特定元件。所屬技術領域中具有通常知識者應理解，電子裝置製造商可能會以不同的名稱來指稱相同的元件。本文並不意在區分那些功能相同但名稱不同的元件。在下文說明書與申請專利範圍中，“含有”與“包含”等詞為開放式詞語，因此其應被解釋為“含有但不限定為...”之意。

本文中所提到的方向用語，例如：“上”、“下”、“前”、“後”、“左”、“右”等，僅是參考附圖的方向。因此，使用的方向用語是用來說明，而並非用來限制本揭露。在附圖中，各圖式繪示的是特定實施例中所使用的方法、結構及/或材料的通常性特徵。然而，這些圖式不應被解釋為界定或限制由這些實施例所涵蓋的範圍或性質。舉例來說，為了清楚起見，各膜層、區域及/或結構的相對尺寸、厚度及位置可能縮小或放大。

本揭露中所敘述之一結構(或層別、元件、基材)位於另一結構(或層別、元件、基材)之上/上方，可以指二結構相鄰且直接連接，或是可以指二結構相鄰而非直接連接。非直接連接是指二結構之間具有至少一中介結構(或中介層別、中介元件、中介基材、中介間隔)，一結構的下側表面相鄰或直接連接于中介結構的上側表面，另一結構的上側表面相鄰或直接連接于中介結構的下側表面。而中介結構可以是單層或多層的實體結構或非實體結構所組成，並無限制。在本揭露中，當某結構設置在其它結構“上”時，有可能是指某結構“直接”在其它結構上，或指某結構“間接”在其它結構上，即某結構和其它結構間還夾設有至少一結構。

術語“等於”或“相同”一般解釋為在所給定的值或範圍的20%以內，或解釋為在所給定的值或範圍的10%、5%、3%、2%、1%或0.5%以內。

說明書與申請專利範圍中所使用的序數例如“第一”、“第二”等之用詞用以修飾元件，其本身並不意含及代表該(或該些)元件有任何之前的序數，也不代表某一元件與另一元件的順序、或是製造方法上的順序，該些序數的使用僅用來使具有某命名的元件得以和另一具有相同命名的元件能作出清楚區分。申請專利範圍與說明書中可不使用相同用詞，據此，說明書中的第一構件在申請專利範圍中可能為第二構件。

本揭露中所敘述之電性連接或耦接，皆可以指直接連接或間接連接，於直接連接的情況下，兩電路上元件的端點直接連接或以一導體線段互相連接，而於間接連接的情況下，兩電路上元件的端點之間具有開關、二極體、電容、電感、電阻、其他適合的元件、或上述元件的組合，但不限於此。

在本揭露中，厚度、長度與寬度的量測方式可以是採用光學顯微鏡量測而得，厚度或寬度則可以由電子顯微鏡中的剖面影像量測而得，但不以此為限。另外，任兩個用來比較的數值或方向，可存在著一定的誤差。另外，本揭露中所提到的術語“等於”、“相等”、“相同”、“實質上”或“大致上”通常代表落在給定數值或範圍的10%範圍內。此外，用語“給定範圍為第一數值至第二數值”、“給定範圍落在第一數值至第二數值的範圍內”表示所述給定範圍包括第一數值、第二數值以及它們之間的其它數值。若第一方向垂直於第二方向，則第一方向與第二方向之間的角度可介於80度至100度之間；若第一方向平行於第二方向，則第一方向與第二方向之間的角度可介於0度至10度之間。

須知悉的是，以下所舉實施例可以在不脫離本揭露的精神下，可將數個不同實施例中的特徵進行替換、重組、混合以完成其他實施例。各實施例間特徵只要不違背發明精神或相衝突，均可任意混合搭配使用。

除非另外定義，在此使用的全部用語(包含技術及科學用語)具有與所屬技術領域中具有通常知識者通常理解的相同涵義。能理解的是，這些用語例如在通常使用的字典中定義用語，應被解讀成具有與相關技術及本揭露的背景或上下文一致的意思，而不應以一理想化或過度正式的方式解讀，除非在本揭露實施例有特別定義。

在本揭露中，電子裝置可包括顯示裝置、背光裝置、天線裝置、感測裝置或拼接裝置，但不以此為限。電子裝置可為可彎折或可撓式電子裝置。顯示裝置可為非自發光型顯示裝置或自發光型顯示裝置。電子裝置可例如包括液晶(liquid crystal)、發光二極體、螢光(fluorescence)、磷光(phosphor)、量子點(quantum dot，QD)、其它合適之顯示介質或前述的組合。天線裝置可為液晶型態的天線裝置或非液晶型態的天線裝置，感測裝置可為感測電容、光線、熱能或超聲波的感測裝置，但不以此為限。在本揭露中，電子裝置中的電子元件可包括被動元件與主動元件，例如電容、電阻、電感、二極體、電晶體等。二極體可包括發光二極體或光電二極體。發光二極體可例如包括有機發光二極體(organic light emitting diode，OLED)、次毫米發光二極體(mini LED)、微發光二極體(micro LED)或量子點發光二極體(quantum dot LED)，但不以此為限。拼接裝置可例如是顯示器拼接裝置或天線拼接裝置，但不以此為限。需注意的是，電子裝置可為前述的任意排列組合，但不以此為限。此外，電子裝置的外型可為矩形、圓形、多邊形、具有彎曲邊緣的形狀或其他適合的形狀。電子裝置可以具有驅動系統、控制系統、光源系統、...等周邊系統以支援顯示裝置、天線裝置、穿戴式裝置(例如包括擴增實境或虛擬實境)、車載裝置(例如包括汽車擋風玻璃)或拼接裝置。下文將以顯示裝置做為電子裝置或拼接裝置以說明本揭露內容，但本揭露不以此為限。

須說明的是，下文中不同實施例所提供的技術方案可相互替換、組合或混合使用，以在未違反本揭露精神的情況下構成另一實施例。

圖1是繪示出光學層的製作方法的剖面示意圖。圖2至圖7分別是根據本揭露的多個實施例的顯示裝置的局部剖面示意圖。

請參照圖1，在本揭露的實施例中，形成光學層L1的方法可包括印刷製程。印刷製程可包括噴墨印刷製程，但不以此為限。

以圖1為例，可先形成間隔層L2，間隔層L2具有開孔A1。接著，在開孔A1中形成光學層L1。在一些實施例中，間隔層L2以及光學層L1可皆透過印刷製程形成，且間隔層L2以及光學層L1的材料可包括高分子材料、溶劑以及添加劑等，但不以此為限。舉例來說，光學層L1所包括的高分子材料可例如為壓克力樹酯，但不以此為限。

透過光學層L1的材料M與間隔層L2的材料之間產生特定的表面能現象(surface energy phenomenon)，能在開孔A1中形成具有微透鏡構型的光學層L1。舉例來說，當材料M與間隔層L2之間的接觸角小於30度時，會發生咖啡環效應(coffee ring effect)，而形成如圖1所示的微透鏡構型，但不以此為限。所述微透鏡構型例如為環形結構，更進一步來說，指光學層L1具有內凹的弧形表面S1，而能夠改變入射光的行進方向。

透過調變光學層L1與間隔層L2之間的接觸角，可控制微透鏡構型的各種參數，如微透鏡構型在顯示裝置的俯視方向D1上的最大高度H、弧形表面S1的曲率或微透鏡構型的形狀等，但不以此為限。

調變光學層L1與間隔層L2之間的接觸角的方法可包括調整光學層L1以及間隔層L2的其中至少一個的表面張力。在一些實施例中，可透過改變光學層L1的材料M中的溶劑及/或添加劑，來調整光學層L1的表面張力。在一些實施例中，可透過對間隔層L2進行表面處理，來調整間隔層L2的表面張力。所述表面處理可包括對間隔層L2的表面施加氬氣與氧氣混合的電漿、氬氣與三氟甲烷(CHF₃)混合的電漿、氬氣與四氟化碳(CF₄)混合的電漿、氬氣電漿、或照射紫外光等，但不以此為限。在一些實施例中，可透過調整間隔層L2的材料中的含氟添加劑的比例，來調整間隔層L2的表面張力。

利用印刷製程的表面能現象形成具有微透鏡構型的光學層L1，藉此簡化光學層L1的製作難度。在一些實施例中，儘管未繪示，光學層L1可包括散射顆粒、金屬顆粒或上述兩個的組合，以提升光學層L1的反射率或集光效果。散射顆粒的材料可包括二氧化鈦，但不以此為限。金屬顆粒的材料可包括銀、金或鋁，但不以此為限。以下實施例的光學層也可包括散射顆粒、金屬顆粒或上述兩個的組合，於下便不再重述。

請參照圖2，顯示裝置1包括基板10、間隔層11、發光元件12以及光學層13。間隔層11設置在基板10上且包括開孔A2。發光元件12以及光學層13設置在開孔A2內。

詳細來說，基板10可為陣列基板。儘管未繪示，陣列基板可包括載板、驅動元件、共用電極以及介電層等，但不以此為限。載板可為硬質基板或可撓基板。載板的材料例如包括矽(如多晶矽)、玻璃、石英、陶瓷、藍寶石或塑膠等，但不以此為限。驅動元件可包括電晶體。電晶體可包括閘極、半導體層、源極以及汲極等，但不以此為限。半導體層的材料可包括非晶矽(amorphous silicon)、多晶矽(polysilicon)、金屬氧化物、或上述的組合。金屬氧化物可包括銦鎵鋅氧化物(Indium Gallium Zinc Oxide，IGZO)，但不以此為限。

間隔層11例如為畫素定義層，且間隔層11可透過上述方式(如印刷製程)形成在基板10上。關於間隔層11的內容可參照上述間隔層L2的相關描述，於此不再重述。

發光元件12設置在基板10上且位於開孔A2內。在一些實施例中，發光元件12可透過導電件C固定在基板10的接墊P上並與接墊P電性連接。在一些實施例中，接墊P的材料可包括銅、鋁、其他導電的材料或上述的組合，但不以此為限。在一些實施例中，接墊P的材料可包括化學鍍鎳浸金(Electroless Nickel Immersion Gold，ENIG)、化學鍍鎳鈀浸金(Electroless Nickel Electroless Palladium Immersion Gold，ENEPIG)、浸銀(Immersion Silver)、電解金(Electrolytic Gold)或電解鎳(Electrolytic Nickel)，但不以此為限。導電件C的材料可包括錫、銅膏、其他金屬材料或異方性導電膜(anisotropic conductive film，ACF)，但不以此為限。

發光元件12用以提供光束(未繪示)。發光元件12可包括發光二極體(Light Emitting Diode，LED)、有機發光二極體(Organic Light Emitting Diode，OLED)、次毫米發光二極體(mini LED)、微型發光二極體(micro LED)或量子點發光二極體(Quantum Dot LED，簡稱QLED或QD-LED)。在一些實施例中，發光元件12為裸晶，且發光元件12的每個表面都可出光。

在一些實施例中，顯示裝置1包括多個發光元件12，且多個發光元件12分別設置在多個開孔A2內。在一些實施例中，多個發光元件12可同為輸出藍光的藍色發光元件，但不以此為限。

光學層13設置在基板10上且位於開孔A2內。光學層13可透過上述方式(如印刷製程)形成在基板10上。關於光學層13的內容可參照上述光學層L1的相關描述，於此不再重述。

顯示裝置1的製造方法例如包括以下步驟。提供基板10。在基板10上形成間隔層11，間隔層11包括開孔A2。在開孔 A2內設置發光元件12。在開孔A2內形成光學層13。

在一些實施例中，可先在開孔A2內設置發光元件12，然後再形成光學層13。在另一些實施例中，可先在開孔A2內形成光學層13，然後再設置發光元件12。

光學層13位於或形成於開孔A2內，或更進一步位於或形成在發光元件12與間隔層11之間。圖2中開孔A2的尺寸(如在方向D2上的寬度W2)可大於圖1中開孔A1的尺寸(如在方向D2上的寬度W1)，以方便設置發光元件12。由於開孔A2在方向D2上的寬度W2較大，因此從顯示裝置1的俯視方向D1觀之，光學層13在開孔A2的中間處可例如為不相連，而更進一步形成包含不相連處的環形結構。光學層13例如具有內凹的弧形表面S2。在一些實施例中，內凹的弧形表面S2可例如為不連續，但不以此為限。弧形表面S2連接光學層13鄰近間隔層11的一側(如第一側E1)以及光學層13鄰近發光元件12的另一側(如第二側E2)，其中光學層13鄰近間隔層11的一側(如第一側E1)的高度H1大於光學層13鄰近發光元件12的另一側(如第二側E2)的高度H2。

透過光學層13的弧形表面S2，可將發光元件12射出的光(例如從發光元件12的多個側面射出的光)集中向上傳遞，進而有助於提升出光效率。

根據不同的需求，顯示裝置1可進一步包括其他元件及/或膜層。舉例來說，顯示裝置1可進一步包括黏著材料14，黏著材料14填入開孔A2內，以固定發光元件12。在一些實施例中，光學層13在填入黏著材料14之前形成，光學層13被黏著材料14覆蓋且位於黏著材料14與基板10之間。在一些實施例中，黏著材料14可包括底部填充劑(underfill)，且部分的黏著材料14可填入發光元件12與基板10之間，以降低熱應力或物理應力對於發光元件12的影響或加強發光元件12與接墊P之間的連接。

在一些實施例中，黏著材料14的折射率大於光學層13的折射率。舉例來說，黏著材料14與光學層13的折射率差異至少大於0.05，以利光在黏著材料14與光學層13的介面處發生全內反射(total internal reflection，TIR)而集中向上傳遞，藉此提升出光效率。

在一些實施例中，顯示裝置1可進一步包括基板15、光吸收層16、彩色濾光片17、間隔層18、色轉換圖案19、色轉換圖案20、光散射層21、封裝層22、間隔件23以及黏著層24，但不以此為限。

基板15與基板10相對。基板15可為硬質基板或可撓基板。基板15的材料例如包括玻璃、石英、陶瓷、藍寶石或塑膠等，但不以此為限。在一些實施例中，基板15可以是可撓基板，且基板15的材料可包括聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚醯亞胺(polyimide，PI)、聚丙烯(polypropylene，PP)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)、其他合適的可撓材料或前述材料的組合，但不以此為限。

光吸收層16設置在基板15之面向基板10的表面上，且與間隔層11在顯示裝置的俯視方向D1上重疊。光吸收層16的材料可採用任何能夠吸收光的材料，如黑矩陣，但不以此為限。光吸收層16具有開孔A3。

彩色濾光片17與發光元件12在顯示裝置的俯視方向D1上重疊，且彩色濾光片17可包括多個濾光圖案，例如可讓紅光通過且過濾其餘顏色光的紅色濾光圖案17R、可讓綠光通過且過濾其餘顏色光的綠色濾光圖案17G以及可讓藍光通過且過濾其餘顏色光的藍色濾光圖案17B，但不以此為限。多個濾光圖案分別設置在多個開孔A3內。

間隔層18設置在光吸收層16之面向基板10的表面上。間隔層18可為具有吸收或反射可見光波段的高分子材料。舉例來說，間隔層18的材料可包含二氧化鈦(TiO₂)、碳黑(Carbon Black)、鈦黑(Tilox Black)、矽氧烷(Siloxane)、黑色染料的壓克力、其他適合材料或上述的組合，但不以此為限。此外，間隔層18組成可視需求調整不同材料的混合比例，使得間隔層18可形成包括白色、灰色或黑色的樣態，但不以此為限。在一些實施例中，間隔層11的材料可相同於間隔層18所包含的材料，於此不再重述。間隔層18具有開孔A4。開孔A4在顯示裝置的俯視方向D1上與開孔A3重疊。

色轉換圖案19、色轉換圖案20以及光散射層21分別設置在多個開孔A4內。色轉換圖案19以及色轉換圖案20可包括波長轉換材料，如螢光(fluorescence)、磷光(phosphor)、量子點(Quantum Dot，QD)、其他能轉換光線顏色的合適材料或上述的組合，但不以此為限。在一些實施例中，色轉換圖案19例如包括將藍光轉換成紅光的波長轉換材料，色轉換圖案20例如包括將藍光轉換成綠光的波長轉換材料，且光散射層21例如包括光散射粒子，但不以此為限。

封裝層22設置在間隔層18、色轉換圖案19、色轉換圖案20以及光散射層21之面向基板10的表面上。在一些實施例中，封裝層22可包括透明材料、阻水氧材料、其他合適的材料或上述組合，但不限於此。舉例來說，封裝層22的材料可包括環氧樹脂(epoxy)、丙烯酸類樹脂(acylic-based resin)、矽膠(silicone)、聚醯亞胺聚合物(polyimide polymer)或上述組合，但不限於此。在一些實施例中，阻水氧材料可包括氧化矽、氮化矽、氮氧化矽或上述的組合，但不以此為限。在一些實施例中，封裝層22可包括帶通濾波器(bandpass filter)或多層高低折射率交替堆疊形成的光學疊層，以將紅光及綠光反射且讓藍光通過，藉此提升出光效率。在一些實施例中，封裝層22可為上述多種功能層的堆疊層。

間隔件23設置在封裝層22以及間隔層11之間，且間隔件23可用以密封黏著層24。黏著層24可為光學透明黏著劑(optically clear adhesive，OCA)或光學透明樹脂(optically clear resin，OCR)，但不以此為限。

請參照圖3，顯示裝置1A與圖2的顯示裝置1的主要差異說明如後。在顯示裝置1A中，與綠色濾光圖案17G在顯示裝置的俯視方向D1上重疊的發光元件從圖2中的發光元件12替換成圖3中的發光元件12A。發光元件12A與發光元件12發出不同顏色的光。舉例來說，發光元件12A發出綠光，而發光元件12發出藍光。此外，圖2中的色轉換圖案20替換成光散射層21A。光散射層21A例如包括光散射粒子，但不以此為限。

請參照圖4，顯示裝置1B與圖3的顯示裝置1A的主要差異說明如後。在顯示裝置1B中，與紅色濾光圖案17R在顯示裝置的俯視方向D1上重疊的發光元件從圖3中的發光元件12替換成圖4中的發光元件12B。發光元件12B、發光元件12A以及發光元件12發出不同顏色的光。舉例來說，發光元件12B發出紅光，發光元件12A發出綠光，而發光元件12發出藍光。此外，顯示裝置1B例如可省略圖3中的間隔層18、色轉換圖案19、光散射層21、光散射層21A以及封裝層22，但不限於此。

請參照圖5，顯示裝置1C與圖4的顯示裝置1B的主要差異說明如後。顯示裝置1C例如可省略圖4中的基板15、光吸收層16、彩色濾光片17、間隔件23以及黏著層24。此外，顯示裝置1C可進一步包括光吸收層25。光吸收層25設置在間隔層11上且與間隔層11在顯示裝置的俯視方向D1上重疊。

光吸收層25可用以吸收環境光或降低環境光的反射，藉此增加顯示裝置1C的對比。舉例來說，光吸收層25的材料可採用任何能夠吸收光的材料，如黑矩陣，但不以此為限。在一些實施例中，光吸收層25可透過印刷製程形成在間隔層11上，但不以此為限。

請參照圖6，顯示裝置1D與圖5的顯示裝置1C的主要差異說明如後。顯示裝置1D可進一步包括彩色濾光片17，以增加色純度。彩色濾光片17的紅色濾光圖案17R、綠色濾光圖案17G以及藍色濾光圖案17B設置在黏著材料14上且在顯示裝置的俯視方向D1上分別與發光元件12B、發光元件12A以及發光元件12重疊。

請參照圖7，顯示裝置1E與圖4的顯示裝置1B的主要差異說明如後。在顯示裝置1E中，光學層13位於/形成在發光元件12上。舉例來說，光學層13在填入黏著材料14之後形成，使得光學層13位於/形成在發光元件12以及黏著材料14上。在一些實施例中，黏著材料14的頂表面可以與發光元件12的頂表面相當，或者低於發光元件12的頂表面，但不以此為限。在一些實施例中，黏著材料14具有高穿透率，因此可完全覆蓋發光元件12的頂表面。此外，彩色濾光片17的紅色濾光圖案17R、綠色濾光圖案17G以及藍色濾光圖案17B可分別形成在發光元件12B、發光元件12A以及發光元件12上，使得光學層13位於紅色濾光圖案17R與發光元件12B之間、綠色濾光圖案17G與發光元件12A之間或藍色濾光圖案17B與發光元件12之間。另外，彩色濾光片17(包括紅色濾光圖案17R、綠色濾光圖案17G以及藍色濾光圖案17B)的折射率例如大於光學層13的折射率。舉例來說，彩色濾光片17與光學層13的折射率差異可至少大於0.05，以利出光。

綜上所述，在本揭露的實施例中，可利用印刷製程的表面能現象形成具有微透鏡構型的光學層，藉此簡化光學層的製作難度，並達到良好的光學效果。

以上各實施例僅用以說明本揭露的技術方案，而非對其限制；儘管參照前述各實施例對本揭露進行了詳細的說明，所屬技術領域中具有通常知識者應當理解：其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術特徵進行等同替換；而這些修改或者替換，並不使相應技術方案的本質脫離本揭露各實施例技術方案的範圍。

雖然本揭露的實施例及其優點已揭露如上，但應該瞭解的是，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭露之精神和範圍內，當可作更動、替代與潤飾，且各實施例間的特徵可任意互相混合替換而成其他新實施例。此外，本揭露之保護範圍並未局限於說明書內所述特定實施例中的製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟，任何所屬技術領域中具有通常知識者可從本揭露揭示內容中理解現行或未來所發展出的製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟，只要可以在此處所述實施例中實施大抵相同功能或獲得大抵相同結果皆可根據本揭露使用。因此，本揭露的保護範圍包括上述製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟。另外，每一請求項構成個別的實施例，且本揭露之保護範圍也包括各個請求項及實施例的組合。本揭露之保護範圍當視隨附之申請專利範圍所界定者為准。

L1:光學層

L2:間隔層

A1:開孔

D1:俯視方向

D2:方向

H:最大高度

M:材料

S1:弧形表面

W1:寬度

Claims

一種顯示裝置，包括：基板；間隔層，設置在所述基板上且包括開孔；發光元件，設置在所述開孔內；以及光學層，設置在所述開孔內。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述光學層位於所述發光元件與所述間隔層之間。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述光學層位於所述發光元件上。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述光學層為環形結構。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述光學層鄰近所述間隔層的一側的高度大於所述光學層鄰近所述發光元件的另一側的高度。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述光學層具有內凹的弧形表面。
如請求項1所述的顯示裝置，還包括：彩色濾光片，與所述發光元件在所述顯示裝置的俯視方向上重疊。
如請求項1所述的顯示裝置，還包括：光吸收層，與所述間隔層在所述顯示裝置的俯視方向上重疊。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述光學層包括散射顆粒。
如請求項1所述的顯示裝置，其中所述光學層包括金屬顆粒。
一種顯示裝置的製造方法，包括：提供基板；在所述基板上形成間隔層，所述間隔層包括開孔；在所述開孔內設置發光元件；以及在所述開孔內形成光學層。
如請求項11所述的顯示裝置的製造方法，其中所述光學層形成在所述發光元件與所述間隔層之間。
如請求項11所述的顯示裝置的製造方法，其中所述光學層形成在所述發光元件上。
如請求項11所述的顯示裝置的製造方法，其中所述光學層透過印刷製程形成在所述開孔內。
如請求項14所述的顯示裝置的製造方法，其中所述印刷製程為噴墨印刷製程。
如請求項11所述的顯示裝置的製造方法，還包括：在所述開孔內填入黏著材料，以固定所述發光元件。
如請求項16所述的顯示裝置的製造方法，其中所述光學層在填入所述黏著材料之前形成。
如請求項16所述的顯示裝置的製造方法，其中所述光學層在填入所述黏著材料之後形成。