TWI808569B - 沉降分析用光學單元、離心沉降分析裝置及離心沉降分析方法 - Google Patents
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Abstract
此沉降分析用光學單元具有可供光穿透的一對相對向的面、及2個偏光板，前述2個偏光板分別以正交(cross-nicol)方式配置於前述一對相對向的面各自之內表面。
Description
本發明係關於沉降分析用光學單元、離心沉降分析裝置及離心沉降分析方法。
本發明係依據2020年12月16日在日本申請之日本特願2020-208085號主張優先權，並在此援用其內容。
在專利文獻1，揭示有對介質溶液中存在有液體或固體粒子的系統之粒子的凝聚分散狀態進行分析及評價的精度提升的方法、及適合該方法的實施之裝置。此裝置藉由在裝設於離心沉降式粒度分佈測定裝置之試料單元內配置一對電極，當沉降或浮起時測定該電極間電位差，能夠同時地測定粒度分佈與Z電位(zeta potential)。使用該兩測定結果，對粒子的凝聚分散狀態進行分析及評價。
在專利文獻2，揭示目的為可精度良好地測定包含微小粒子徑之廣泛的粒子徑範圍的粒子徑分佈的粒子徑分佈測定裝置等。專利文獻2的粒子徑分佈測定裝置具備：離心沉降式測定機構，其將收容有分散於分散介質的粒子群之測定單元旋轉而使粒子沉降，並且對測定單元照射光而檢測穿透光，依據該穿透光強度的變化，測定第1粒子徑分佈；及動態光散射式測定機構，其檢測對粒子群照射光所產生的散射光，再依據因粒子的布朗運動所產生之散射光強度的變化，測定第2粒子徑分佈。又，揭示有該粒子徑分佈測定裝置在藉由離心沉降式測定機構檢測穿透光後，動態光散射式測定機構對測定單元R照射光而測定第2粒子徑分佈。
在專利文獻3，揭示能夠實現偏光觀察之離心顯微鏡及離心顯微鏡觀察方法。此離心顯微鏡具備：碟盤，其可自由旋轉地設置，具有收容試料之試料室；偏光觀察用光學系統，其具有物鏡，該物鏡配置成藉由此碟盤的旋轉使前述試料室橫切其光軸；及在前述試料室橫切前述物鏡的光軸之時間點，朝前述偏光觀察用光學系統發射雷射光之光源。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平7-128215號公報
[專利文獻2]國際公開第2018/092573號公報
[專利文獻3]日本特開平11-109245號公報
[發明所欲解決之問題]
但，在專利文獻1或2的裝置，無法明確得知相位是否為異相性，無法獲得關於異向性粒子的異相沉降之資訊。在專利文獻3的裝置，可能得知該資訊，但，由於偏光穿透光學單元壁而到達試料，故，光學單元的材質僅限於未有雙折射且亦可承受離心加速度之昂貴的材料。再者，異相性沉降係指沉降的粒子伴隨定向進行沉降。
本發明的一態樣是針對異向性粒子的異相性沉降的測定，有鑑於前述這樣的情事，目的在於提供可進一步緩和材質的限制之沉降分析用光學單元、離心沉降分析裝置及離心沉降分析方法。
[解決問題之技術手段]
亦即，本發明為具備以下所示的結構之發明。
[1]一種沉降分析用光學單元，其特徵為係具有：可供光穿透的一對相對向的面、及2個偏光板，前述2個偏光板分別以正交(cross-nicol)方式各自配置於前述一對相對向的面。
[2]如前項[1]的沉降分析用光學單元，其中，前述一對相對向的面是以具有雙折射的樹脂所構成。
[3]如前項[2]的沉降分析用光學單元，其中，前述樹脂為聚碳酸酯。
[4]一種離心沉降分析裝置，其特徵為具有如前項[1]~[3]中任一項的光學單元，對前述沉降分析用光學單元施加離心加速度，測定穿透前述2個偏光板之光的強度。
[5]如前項[4]的離心沉降分析裝置，其中，對前述沉降分析用光學單元施加離心加速度之方向與前述2個偏光板之偏光軸各自所形成的角度係為35°~55°。
[6]如前項[4]或[5]的離心沉降分析裝置，其中，在離心加速度方向，測定前述光的強度，獲得在離心加速度方向上穿透前述2個偏光板之光的強度的分佈。
[7]一種離心沉降分析方法，其特徵為：使用如前項[4]或[5]的裝置，對收容有試料之前述沉降分析用光學單元施加離心加速度，測定穿透前述沉降分析用光學單元之光的強度，判斷在前述光的強度相對強之部分的前述試料中存在有異向性粒子。
[8]一種離心沉降分析方法，其特徵為：使用如前項[6]的裝置，對收容有試料之前述沉降分析用光學單元施加離心加速度，測定穿透前述沉降分析用光學單元之光的強度，判斷在前述光的強度相對強之部分的前述試料中存在有異向性粒子。
[9]如前項[8]的離心沉降分析方法，其中，當測定到離心加速度方向的相對的前述光的強度時，則判斷成為前述光的強度之反曲點的位置是前述試料中的異向性粒子的沉降面。
[發明效果]
若依據本發明，可藉由以緩和了進一步材質的限制之光學單元的離心沉降分析，能夠分析異向性粒子的異相性沉降。
以下說明關於本發明的實施形態，但，本發明在不變更其技術思想的範圍內可適宜變更並加以實施。在不超出本發明的技術思想的範圍，針對數量、材料、量、形狀、數值、比例、位置、結構等，可進行變更、附加、省略、置換等。
(沉降分析用光學單元)
圖1係示意地顯示本實施形態之沉降分析用光學單元10的剖面圖。在圖1中，為了說明上的方便，以箭號顯示穿透沉降分析用光學單元10之光。
沉降分析用光學單元10例如具有光學單元1、和2個偏光板。光學單元1具有供光穿透之一對相對向的面2、5。面2、5係光學單元1的內壁之面。2個偏光板3、4分別以正交(cross-nicol)方式配置於一對相對向的面2、5。
面2、5位於例如偏光板3、4的外側。供光穿透之一對相對向的面2、5係在光路上，不位於以正交(cross-nicol)狀配置之偏光板3、4之間。因此，在光學單元1，構成與該等面2、5對應的部分之材料，不需要為不會有處理偏光之雙折射的光學材料，亦可具有雙折射。作為這樣的材料，比起前述光學材料，可為更廉價的樹脂，例如可舉出聚碳酸酯等。
在圖1中，顯示以具有長方體的光學單元1之沉降分析用光學單元10為例，但，本實施形態之沉降分析用光學單元10不限於此例。光學單元1的形狀，具有可供光穿透之一對相對向的面即可，例如，可舉出長方體狀、圓筒狀等。在為圓筒狀的情況，供光穿透的一對相對向的面為上面與下面，但亦可為側面。
光學單元1可藉由例如在現成的沉降分析用光學單元的光路上之2個內表面設置偏光板3、4來製作。從製作容易度的觀點來看，偏光板3、4係薄膜狀為佳。若為薄膜狀的偏光板，可配合內壁的面2、5之形狀而預先切出，能夠容易使偏光板3、4的偏光軸對齊期望的方向。且，更佳為在偏光板3、4的單一面具有黏著劑者，能夠容易將偏光板黏貼於面2、5。
設在面2、5的2個偏光板3、4以該等的偏光軸呈正交(cross-nicol)的方式配置。在此情況，2個偏光板3、4配置成各自的偏光軸的角度正確地成為90°為佳，但在對測定結果不會大幅產生影響的範圍內，可容許自90°偏離。偏光板3的偏光軸及偏光板4的偏光軸之角度，一般是90°±5°的範圍，亦可為90°±20°、90°±10°等之範圍。
又，在預先知道施加離心加速度的方向之沉降分析用光學單元的情況，從異相性沉降的檢測靈敏度的觀點來看，以2個偏光板3、4之偏光軸對施加離心加速度的方向分別成為約45°的角度的方式進行配置為佳。例如，在後述的離心沉降分析裝置100設置光學單元1的狀態下從該光源方向觀看的情況，可如圖2及圖3所示，調整偏光板的偏光軸之角度。圖2係從光源方向以俯視視角觀看之偏光板3的圖，用來說明2個偏光板中的一方之偏光板3的偏光軸的方向與離心加速度的方向之關係的圖。圖3係從光源方向以俯視視角觀看之偏光板4的圖，用來說明2個偏光板中的一方之偏光板4的偏光軸的方向與離心加速度的方向之關係的圖。偏光板3及偏光板4之偏光軸的方向亦可交換。
如圖2所示，一方的偏光板3之偏光軸7對離心加速度的方向6具有約45°的角度α，如圖3所示，另一方的偏光板3之偏光軸8對離心加速度的方向6具有約45°的角度β。且，如前述般，該等偏光軸7與偏光軸8是配置成正交(cross-nicol)狀。亦即，α+β為約90°。
再者，在本實施形態，約45°係指最理想為正好45°，但，在對測定結果不會產生大幅影響的範圍下，容許自45°偏離，理想為45°±10°，更理想為45°±5°之範圍。
(離心沉降分析裝置)
本實施形態的離心沉降分析裝置，具有沉降分析用光學單元10，對此沉降分析用光學單元10之2個偏光板3、4的偏光軸7、8的任一者所形成的角度約45°之方向施加離心加速度，測定穿透2個偏光板3、4之光的強度(以下亦稱為「穿透光強度」。在沉降分析用光學單元10的光學單元1，收容有試料。
若施加離心加速度，在填充於光學單元1中之試料中，產生異向性粒子之異相性沉降的話，則穿透光強度增加。
圖4係示意地顯示本實施形態之離心沉降分析裝置100的圖。離心沉降分析裝置100例如具有：具備光源20及受光部(光檢測器)30之濃度檢測裝置；設有沉降分析用光學單元10之旋轉圓盤40；使旋轉圓盤40旋轉的馬達50；測定沉降分析用光學單元10的角度、旋轉圓盤40的旋轉速度等之測定位置等檢測裝置60；及控制部70。
在離心沉降分析裝置100，旋轉圓盤40具有例如本體41和單元固定部42。單元固定部42是以例如彈簧構成。沉降分析用光學單元10係在例如以單元蓋子11密封的狀態，固定於單元固定部42。控制部70具有例如未圖示的放大器、A/D變換器、反相器、CPU等。來自於受光部30及測定位置等檢測裝置60之訊號，被例如控制部內的放大器予以放大，再經由A/D變換器輸入至CPU。控制部的CPU經由例如反相器將訊號輸出至馬達，控制旋轉圓盤40之旋轉速度。
且，穿透光強度的測定，理想為可測定離心加速度方向的強度變化者為佳。亦即，在離心加速度方向，測定光的強度，獲得在離心加速度方向上穿透2個偏光板3、4之光的強度的分佈為佳。作為這樣的離心沉降分析裝置，例如，1對的光源20與光檢測器(受光部)30並具備將沉降分析用光學單元10朝離心加速度方向進行掃描的手段之裝置、具備與1個光源20在離心加速度方向排列的複數個檢測器(受光部)30、30之裝置、具備排列於離心加速度方向之複數個光源20與1個檢測器(受光部)30之裝置、排列於離心加速度方向之成對的複數對的光源20、20與受光部30之裝置等。
藉由在離心加速度方向，測定光的強度而獲得在離心加速度方向上穿透沉降分析用光學單元10之光的強度的分佈，能夠檢測異相性沉降的沉降面。若產生沉降面的話，則在較沉降面更靠近離心軸側，相對地光的強度弱，在較沉降面更靠近離心加速度方向，相對地光的強度變強。
(離心沉降分析方法)
本實施形態的離心沉降分析方法，使用前述實施形態之離心沉降分析裝置，對沉降分析用光學單元10施加離心加速度，測定穿透收容有試料之沉降分析用光學單元10之光的強度，判斷在穿透光的強度相對高之部分的試料中存在有異向性粒子。亦即，在本實施形態之離心沉降分析方法，在離心加速度方向之預定的位置，穿透光的強度相對高的情況，判斷在離心加速度方向與該位置對應的部分之試料中存在有異向性粒子。
且，當測定離心加速度方向的相對的光的強度時，若為產生異向性粒子的異相性沉降的話，則在離心軸側，會有穿透光強度弱，從該處朝離心加速度方向前進時，則穿透光強度變強的部分。在本實施形態之離心沉降分析方法，例如將此離心加速度方向之成為穿透光強度的反曲點的位置判斷為試料中的異向性粒子的沉降面。
本發明不限於特定的實施形態，在申請專利範圍所記載的技術思想的範圍內，可加以適宜組合並實施。例如，可將不同實施形態所揭示的結構予以組合並實施。
在本實施形態之離心沉降分析方法及離心沉降分析裝置，由於光學單元的材質不限於可承受離心加速度之無雙折射的昂貴材料，因此，在藉由材質的限制和緩之光學單元的離心沉降分析，能夠分析異向性粒子的異相性沉降。
[實施例]
以下，依據實施例及比較例更具體地說明本發明，但，本發明不是僅限於以下的實施例。
(測定材料)
將以下的銀奈米線A~C或含有銀粒子D~F的水分散液作為後述的實施例及比較例之測定試料。再者，銀粒子E為將銀奈米線A及銀粒子F為將銀奈米線B分別以超音波在10分鐘進行粉碎直到定向性喪失的粒子。
銀奈米線A：昭和電工製、平均徑28nm、平均長度26μm之銀奈米線
銀奈米線B：昭和電工製、平均徑20nm、平均長度20μm之銀奈米線
銀奈米線C：Aldrich製、平均徑20nm、平均長度12μm之銀奈米線
銀粒子D：Nano Composix製、平均粒徑25nm之球狀銀粒子
銀粒子E：將銀奈米線A粉碎之銀粒子
銀粒子F：將銀奈米線B粉碎之銀粒子
(實施例1~6)
將在內部張貼偏光板之沉降分析用光學單元以下述的方式製作。首先，切斷在單一面具有黏著層之偏光薄膜(Midtown製 BS-250、厚度0.25mm)，製作7mm×30mm之長方形狀的裁切片兩枚。將該等裁切片的偏光軸作成為長度30mm的長邊對延伸的方向成為45°的角度。
以與圖1的沉降分析用光學單元10成為相同的結構的方式，將裁切片(偏光板3)插入直到市面販賣的光學單元(MSScientfic製、Lumisizer單元、內部尺寸：縱(光路長度)2mm、橫8mm、高50mm、材質：聚碳酸酯)1的底部為止並進行安裝。偏光板3的安裝，以裁切片的黏著面與一方的8mm×50mm的面2密接的方式，一邊注意不會產生氣泡一邊以扁平型刮刀按壓。在另一方的8mm×50mm的面5，亦同樣地安裝偏光板4。如此，製作的光學單元1之2個偏光板的偏光軸，對單元的50mm之長邊，為45°±2°之範圍內。又，2個偏光板3、4配置成正交(cross-nicol)。
作為測定試料，使用如表1所記載的試料組成之水分散液。如表1[試料組成]所示，實施例1~6中，測定試料的組成不同。藉由試料充滿前述所製作的沉降分析用光學單元。將此沉降分析用光學單元以50mm的長邊延伸的方向成為與離心加速度方向平行的方式，又，在測定光的光路上，2個8mm×50mm的面呈垂直地進行配置。又，以設有偏光板的部分成為光路的方式，亦即，光垂直地射入2個偏光板且穿透2個偏光板的方式，將沉降分析用光學單元設置於離心沉降分析裝置(MSScientfic製、LUMiSizer)的轉子。
其次，使轉子旋轉，一邊使離心加速度階段性地增加，一邊以波長約470nm的光測定穿透光強度。再者，穿透光強度，在實施例所使用的裝置中，藉由在離心加速度方向具有分解能之受光部(在離心加速度方向排列有2000個以上的受光部之線型感測器)受光，變換成以沒有沉降分析用光學單元的狀態之穿透高強度作為100%之穿透率並表示。其結果顯示於表1。
在實施例1~6，轉子剛開始旋轉後的單元全體之穿透率(亦稱為[初期穿透率])係在離心加速度方向一樣低，如表1所記載，為0.5%左右。當施加如表1所記載的離心加速度時，確認到沉降分析用光學單元在離心旋轉方向上被分成穿透率高的區域與低的區域。沉降分析用光學單元的穿透率，在離心軸側(亦即，與離心加速度方向相反方向，接近旋轉軸之側的區域。以下，有將遠心軸側稱為「上側」的情況)，比起初期穿透率，並無變化。亦即，上側係對應於穿透率低的區域。另外，其相反側(亦即，離心加速度方向，比起上側更遠離旋轉軸之側的區域。以下，有將相反側稱為「下側」的情況)，如表1所記載，成為較初期穿透率高的穿透率。亦即，下側係對應於穿透率低的區域。又，沉降分析用光學單元在其上側與下側具有穿透率變化的部分(離心加速度方向的相對的穿透光強度之變化的反曲點)。反曲點在離心加速度方向，位於穿透率高的區域與低的區域之界面。觀察到反曲點是伴隨以一定的離心加速度使沉降分析用光學單元的旋轉持續，以如表1的沉降速度欄所記載的速度朝下側移動者。
依據前述結構，判斷作為異向性粒子之試料中的銀奈米線一邊定向一邊以表1所記載的沉降速度進行異相性沉降。
(實施例7~12)
實施例7~12，除了以對離心加速度方向，2個偏光板的偏光軸中的一方平行而另一方垂直地配置而進行測定以外，其餘與實施例1~實施例6同樣地進行測定。更具體而言，當將偏光薄膜切斷而獲得2枚的裁切片時，以偏光軸對於裁切片的30mm的長邊之延伸的方向，一方為0°而另一方為90°的方式進行製作的這一點與實施例1不同。其結果顯示於表1。
從表1，將試料組成相同且偏光軸的傾斜不同之實施例1與7、實施例2與8、實施例3與9、實施例4與10、實施例5與11、實施例6與12分別進行比較，呈現出下側穿透率不同，但其他相同的傾向。下側穿透率，比起實施例7~12，實施例1~6變得較高。因銀奈米線容易朝加速度方向定向，所以，偏光軸對於離心加速度方向呈45°的實施例1~6靈敏度較佳而顯著地觀察到異相性沉降。
(實施例13~17)
實施例13~17，除了採用如表1所記載的試料組成及測定條件以外，其餘與實施例1~6同樣地進行測定。亦即，實施例13~17，沉降分析用光學單元之偏光板的偏光軸的方向作成為與實施例1~6相同，但將離心加速度從實施例1~6加以變更。其結果顯示於表1。
(比較例1~4)
在市面販賣的光學單元(MSScientfic製、Lumisizer單元、內部尺寸：縱(光路長度)2mm、橫8mm、高50mm、材質：聚碳酸酯)，不配置偏光板，作為測定試料，填滿如表2所記載的試料組成之水分散液。將此單元以50mm的長邊與離心加速度方向成為平行，又，在測定光的光路上，2個8mm×50mm的面垂直地配置的方式，設在離心沉降分析裝置(MSScientfic製、LUMiSizer)的轉子，施加如表3所記載的離心加速度，測定上側的區域及下側的區域之穿透率，再測定反曲點的移動速度，亦即，測定沉降速度。其結果顯示於表2。
在以往的離心沉降分析中，在比較例1、2確認到球狀粒子之沉降。另外，在實施例13、14，不論是進行離心分離前後，穿透光強度均為0，未測定到球狀粒子之沉降。亦即，在本實施形態的方法，可知能夠選擇性地僅測定異向性粒子的異相性沉降。
因此，如實施例15，即使異向性粒子與球狀粒子混合存在的系列，也可判斷為僅測定異向性粒子的異相性沉降。
又，在因彎折、斷裂等的損傷行進而造成定向性喪失的粒子(銀粒子E、F)，變得無法觀察到異相性沉降(實施例16、17)。相對於此，在將銀粒子E、F以以往的離心沉降分析進行分析的比較例3、4，確認到銀粒子E、F之沉降。
如前述可知，在因進行處理而產生彎折、斷裂等的損傷之銀奈米線等的粒子，依據該損傷的程度所觀察到的異相性沉降不同。因此，本發明亦可應用於異向性粒子的品質檢查等。
1:光學單元
2:面(光學單元的內壁的面)
3:一方的偏光板
4:另一方的偏光板
5:面(光學單元的內壁的面)
6:顯示離心加速度的方向之箭號
7:顯示一方的偏光板的偏光軸之箭號
8:顯示另一方的偏光板的偏光軸之箭號
10:沉降分析用光學單元
100:離心沉降分析裝置
[圖1]係示意地顯示本實施形態之光學單元的剖面圖。
[圖2]係從光源方向以俯視視角觀看之偏光板的圖，用來說明2個偏光板中的一方之偏光板的偏光軸的方向與離心加速度的方向之關係的圖。
[圖3]係從光源方向以俯視視角觀看之偏光板的圖，用來說明2個偏光板中的另一方的偏光板的偏光軸的方向與離心加速度的方向之關係的圖。
[圖4]係示意地顯示本實施形態之離心沉降分析裝置的圖。
1:光學單元
2:面(光學單元的內壁的面)
3:一方的偏光板
4:另一方的偏光板
5:面(光學單元的內壁的面)
10:沉降分析用光學單元
Claims (9)
- 一種沉降分析用光學單元，其特徵為具有：供光穿透之一對相對向的面；及2個偏光板，前述2個偏光板以各自的偏光軸正交(cross-nicol)方式各自配置於前述一對相對向的面。
- 如請求項1的沉降分析用光學單元，其中，前述一對相對向的面是以具有雙折射的樹脂所構成。
- 如請求項2的沉降分析用光學單元，其中，前述樹脂為聚碳酸酯。
- 一種離心沉降分析裝置，其特徵為具有如請求項1至3中任一項的沉降分析用光學單元，對前述沉降分析用光學單元施加離心加速度，測定穿透前述沉降分析用光學單元之光的強度。
- 如請求項4的離心沉降分析裝置，其中，對前述沉降分析用光學單元施加離心加速度之方向與前述2個偏光板之偏光軸各自所形成的角度係為35°~55°。
- 如請求項4或5的離心沉降分析裝置，其中，在離心加速度方向，測定前述光的強度，獲得在離心加速度方向上穿透前述沉降分析用光學單元之光的強度的分佈。
- 一種離心沉降分析方法，其特徵為：使用如請求項4或5的離心沉降分析裝置，對收容有試料之前述沉降分析用光學單元施加離心加速度，測定穿透前述沉降分析用光學單元之光的強度，判斷在前述光的強度相對 強之部分的前述試料中存在有異向性粒子。
- 一種離心沉降分析方法，其特徵為：使用如請求項6的離心沉降分析裝置，對收容有試料之前述沉降分析用光學單元施加離心加速度，測定穿透前述沉降分析用光學單元之光的強度，判斷在前述光的強度相對強之部分的前述試料中存在有異向性粒子。
- 如請求項8的離心沉降分析方法，其中，當測定到離心加速度方向的相對的前述光的強度時，則判斷成為前述光的強度之反曲點的位置是前述試料中的異向性粒子的沉降面。
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