TWI807334B - 處理氣體汙染物的設備 - Google Patents

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TWI807334B TW110120224A TW110120224A TWI807334B TW I807334 B TWI807334 B TW I807334B TW 110120224 A TW110120224 A TW 110120224A TW 110120224 A TW110120224 A TW 110120224A TW I807334 B TWI807334 B TW I807334B
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Abstract

一種處理氣體汙染物的設備，包括一進氣部、一第一處理單元、一第二處理單元以及一非機械式引流裝置，該進氣部，包括一進氣腔室及至少一導引管路，該導引管路連通至該進氣腔室並將一來自半導體製程的流出物導引至該進氣腔室，該第一處理單元耦接於該進氣部下方並用以減弱該流出物，該非機械式引流裝置耦接於該第一處理單元，該引流裝置用於導引該流出物朝一開口移動，該第二處理單元經由該開口耦接至該引流裝置，並接收從該第一處理單元來的該流出物並進一步地減弱該流出物。

Description

處理氣體汙染物的設備
本發明關於一種處理氣體汙染物的設備，尤指一種處理半導體製程的流出物的設備。
半導體製程中的尾氣含有多種對人體或環境有害的化學物質，常見的尾氣處理設備，包括燃燒式、等離子式、水洗式以及觸媒式等。
對於水溶性的有害物質來說，水洗式(或稱濕式)尾氣處理設備具備合理的購置成本以及簡易安裝等優勢，在實際應用上常搭配磊晶製程或半導體蝕刻製程。習知技術的水洗式尾氣處理設備可見於美國專利公開第US20100119420號，揭示一種具有增進之流出物洗滌及水份控制的減降系統，包括一排放導管、複數個填充床、一或多個噴頭以及一滴注器，該排放導管用於使一流出物流能流經其中，該填充床設置在該排放導管中，以自該流出物流移除非可排放流出物，該噴頭配置以在相鄰的填充床之間提供一流出物處理劑，該流出物處理劑用於自該流出物流移除非可排放流出物，該滴注器設置在該排放導管中而位於一最上方填充床上方，用於以大液滴來提供該流出物處理劑，以實質上潤濕且潤洗來自該最上方填充床之上表面的微粒，而不會形成微細液滴。
對於化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,CVD)製程所產生的矽烷(Silane)、砷化三氫(Arsine)、磷化氫(Phosphine)等汙染物質，則常採用燃燒式的尾氣處理設備，傳統的商用產品包括來自於DAS公司的LARCH型號機台或是來自於Edwards公司的Spectra系列機台。
根據本發明的一方面，提供一種處理氣體汙染物的設備，包括：一進氣部，包括一進氣腔室以及至少一導引管路，該導引管路連通至該進氣腔室並將一來自半導體製程的流出物導引至該進氣腔室；一第一洗滌塔，耦接於該進氣部下方，該第一洗滌塔直向地延伸且包括一與該進氣腔室連通的第一頂部開口、一與該第一頂部開口連通的第一腔室、一位於該第一腔室內的內壁、一側向地連通於至該第一腔室的液體入口以及一與該第一腔室連通的第一底部開口，該液體入口用於供一水流進入該第一腔室而在該內壁形成一水簾；一第二洗滌塔，與該第一洗滌塔相鄰地設置，該第二洗滌塔直向地延伸且包括一與該第一腔室連通的第二底部開口、一與該第二底部開口連通的第二腔室、一與該第二腔室連通的第二頂部開口以及複數個設置於該第二腔室內的噴射件；一第三洗滌塔，與該第二洗滌塔相鄰地設置，該第三洗滌塔直向地延伸且包括一與該第二腔室連通的第三頂部開口、一與該第三頂部開口連通的第三腔室、一與該第三腔室連通的第三底部開口、一與該第三頂部開口相鄰設置的引流裝置以及至少一位於該引流裝置下方以接收來自該引流裝置的氣流的填充床；一循環水箱，耦接於該第一洗滌塔、該第二洗滌塔以及該第三洗滌塔下方，該循環水箱包括一蓄有一液體的集水空間、一第一上開口、一第二上開口以及一第三上開口，該第一上開口、一第二上開口以及一第三上開口分別連通至該第一腔室、該第二腔室以及該第三腔室，該集水空間包括一第一區域、一第二區域以及一設置於該第一區域以及該第二區域之間的阻隔件；其中，該第一區域在該第一洗滌塔的該第一底部開口以及該第二洗滌塔的該第二底部開口之間形成一暴露於該液體的第一流道，以供該流出物從該第一洗滌塔 經該第二洗滌塔流動至該第三洗滌塔，該第二區域接收受該第三洗滌塔的該引流裝置驅動的該流出物；其中該引流裝置設置於該第三腔室的一上方隔室，該上方隔室側向地連通至該第三頂部開口且向下地連通至該填充床。
根據本發明的一方面，提供一種處理氣體汙染物的設備，包括：一第一空間，該第一空間耦接至一氣體源並接收一來自該氣體源的氣體汙染物，該第一空間定義出一流入區域；一第二空間，與該第一空間流體地連接，該第二空間定義出一流出區域；以及一引流裝置，裝設於該流出區域以及該流入區域之間的一第一通道，該第一通道沿一方向延伸，該引流裝置包括一流體供應管以及一引流管，該流體供應管以及該引流管沿該方向彼此相隔且於其間形成一位於該第一通道的第二通道，其中，該流體供應管朝該引流管供應一噴射流體，據此於該第一通道以及該第二通道之間產生一壓力差，該壓力差驅動該氣體汙染物從該流入區域進入該流出區域。
根據本發明的一方面，提供一種處理氣體汙染物的設備，包括：一進氣部，包括一進氣腔室以及至少一導引管路，該導引管路連通至該進氣腔室並將一來自半導體製程的流出物導引至該進氣腔室；一第一處理單元，耦接於該進氣部下方，該第一處理單元用於減弱(abate)該流出物；一非機械式引流裝置，耦接於該第一處理單元，該引流裝置用於導引該流出物朝一開口移動；以及一第二處理單元，經由該開口耦接至該引流裝置，該第二處理單元接收從該第一處理單元來的該流出物並進一步地減弱(abate)該流出物。
10:進氣部
11:進氣腔室
12:進氣管
13:清潔件
131:移動件
132:清潔頭
20:第一洗滌塔
21:第一腔室
211:內壁
22:第一底部開口
23:蓄水池
24:液體入口
30:循環水箱
31:集水空間
31a:第一區域
31b:第二區域
32:阻隔件
33a:第一上開口
33b:第二上開口
33c:第三上開口
33d:第四上開口
34:頂部
35a、35b:通道
36:抽取口
37:進水口
38:側蓋
39:頂蓋
40:第二洗滌塔
41:第二腔室
42:第二底部開口
43:第二頂部開口
44:噴射件
45:輸送管
46:連接管
50:第三洗滌塔
51:第三腔室
51a:上方隔室
51b:下方隔室
52:第三頂部開口
53:第三底部開口
54:引流裝置
541:流體供應管
541a:頂端開口
541b:底端開口
542:引流管
542a:頂端開口
542b:底端開口
543:噴射流體
544:吸力
60:後處理塔
61:第四腔室
62:第四底部開口
63:第四頂部開口
70:泵管部
71:第一泵組件
72:第二泵組件
73:第一管路
74:第二管路
75:第三管路
76:第四管路
77:第五管路
78:進水管路
80:控制部
90:箱體
91:第一前蓋板
92:第二前蓋板
100:處理氣體汙染物的設備
101:進氣部
101a:導引管路
101b:進氣腔室
102:第一處理單元
1021:噴灑
103:第二處理單元
1031:填充物
104:引流裝置
105:流出物
106:第三處理單元
1061:水簾
107:第四處理單元
108:水箱單元
108a:第一部分
108b:第二部分
108c:隔板
1081a、1081b:水
A1:第一區域
A2:第二區域
A3:第三區域
B:第四區域
B1:第一部分
B2:第二部分
C:第五區域
D:第六區域
D1:方向
D2:方向
L:水平面
W:水
P1:第一通道
P2:第二通道
RO:流出區域
RI:流入區域
Gas:尾氣
『圖1』，為根據本發明一些實施例的示意圖。
『圖2A』，為根據『圖1』實施例一態樣的示意圖。
『圖2B』，為根據『圖1』實施例另一態樣的示意圖。
『圖3A』，為根據本發明一實施例的立體示意圖。
『圖3B』，為根據本發明一實施例的另一視角的立體示意圖。
『圖4』，為根據本發明一實施例的俯視圖。
『圖5』，為沿『圖1』A-A的剖面俯視示意圖。
『圖6』，為沿『圖4』B-B的立體剖面示意圖。
『圖7A』至『圖7B』，為沿『圖4』B-B的剖面示意圖。
『圖8』，為沿『圖4』C-C的立體剖面示意圖。
『圖9』，為沿『圖4』C-C的剖面示意圖。
『圖10』，為根據本發明一實施例的示意圖。
本發明的一方面揭露一種處理氣體汙染物的設備，應用於處理一來自半導體製程的流出物(Effluent stream)，例如尾氣(Waste gas)，下文中，儘管在多處使用“水”一詞，但僅基於描述方便之目的，本發明並不限定於水，其他能夠清洗或捕捉顆粒物(Particulate Matter,PM)的液體均可使用。
參閱『圖1』，本發明的一實施例揭示一處理氣體汙染物的設備100，包括一進氣部101、一第一處理單元102、一第二處理單元103以及一非機械式引流裝置104，該進氣部101將一來自半導體製程的流出物105導引至該第一處理單元102，該第一處理單元102用於減弱(abate)該流出物，該非機械式引流裝置104耦接於該第一處理單元102以及該第二處理單元103之間，用於導引該流出物105朝該第二處理單元103移動，該第二處理單元103接收從該第一處理單元102來的該流出物105並進一步地減弱該流出物。
在一實施例中，該第一處理單元102以及該第二處理單元103可為相同或相異的尾氣處理單元，例如均為水洗式處理單元。舉例來說，該第一處理單元102可為一噴灑式洗滌器，該第二處理單元103可為一填充床洗滌器。此外，在某些實施例中，該第一處理單元102的前端可進一步耦接其他形式的洗滌器或尾氣處理單元，該第二處理單元103的後端也可進一步耦接其他形式的洗滌器或尾氣處理單元。根據本發明的其他實施例，該第一處理單元102及/或該第二處理單元亦可為例如燃燒式、加熱式或等離子式的尾氣處理單元。
進一步參閱『圖2A』，為根據『圖1』實施例一態樣的示意圖。在本發明的一實施例中，該進氣部101包括至少一導引管路101a以及一進氣腔室101b，該導引管路101a連通至該進氣腔室101b並該流出物105導引至該進氣腔室101b，該第一處理單元102耦接於該進氣部101後端，該非機械式引流裝置104耦接於該第一處理單元102以及該第二處理單元103之間，用於導引該流出物105朝該第二處理單元103移動。本實施例中，該第一處理單元102的前端進一步耦接一第三處理單元106，該第二處理單元103的後端進一步耦接一第四處理單元107，該第三處理單元106設置於該進氣部101下方。該第一處理單元102、該第二處理單元103、該第三處理單元106以及該第四處理單元107下方耦接至一水箱單元108。操作上，該流出物105從該進氣腔室101b進入至該第三處理單元106，經該水箱單元108進入該第一處理單元102，利用該非機械式引流裝置104將該流出物105進一步地引導至該第二處理單元103，再經該水箱單元108進入該第四處理單元107。
參閱『圖2B』，為根據『圖1』實施例另一態樣的示意圖。本例中，該第三處理單元106係一水簾洗滌器，提供一水簾1061以沖洗該流出物 105，避免該流出物105的粉塵或顆粒沾附於壁面；該第一處理單元102為一噴灑洗滌器，提供複數個噴灑(Spray)1021以捕捉該流出物105中5μm以上的顆粒；該第二處理單元103為一填充床洗滌器，堆積有複數個填充物1031，用於將該流出物105剩餘的顆粒分離。本例中，該水箱單元108包括一第一部分108a、一第二部分108b以及一至少部分地隔開該第一部分108a及該第二部分108b的隔板108c，該第一部分108a及該第二部分108b分別蓄有水1081a、1081b。該流出物105在該第三處理單元106以及該第一處理單元102之間是經由該第一部分108a的一上部(該水1081a上方)流動；該流出物105在該第二處理單元103以及該第四處理單元107之間是經由該第二部分108b的一上部(該水1081b上方)流動。
本發明中，該引流裝置104是採用一非機械式的流體輸送設備，即並非泵、鼓風機或壓縮機等形式的機械式流體輸送設備，該引流裝置104是由一流體驅動並產生一吸力，利用該吸力帶動該流出物105在該處理氣體汙染物的設備內的流動。習知技術乃採用機械式的流體輸送設備(例如常見的泵)作為流出物的引流裝置，在半導體製程中的流出物，通常含有大量的高易燃性及/或高爆性氣體(例如H2、CH4)，而該些氣體將會有和該引流裝置中的機械結構或油發生摩擦因而產生激烈爆炸或燃燒的高度風險。由於本發明採取的該引流裝置104缺少了用於將機械能轉換成壓力能的機構，可以降低前述的危險，大幅提高製程以及操作的安全性，也更為地節能。
參閱『圖3A』至『圖4』，係有關本發明一實施例，本實施例是一種水洗式處理氣體汙染物的設備，該設備包括一進氣部10、一第一洗滌塔20、一循環水箱30、一第二洗滌塔40、一第三洗滌塔50、一後處理塔60、一泵管部70以及一控制部80。本實施例中，該第二洗滌塔40、該第三洗滌 塔50以及該後處理塔60係整合於一箱體90之中。該進氣部10設置於該第一洗滌塔20上方，而該第一洗滌塔20、該第二洗滌塔40、該第三洗滌塔50以及該後處理塔60彼此相鄰設置，配合氣體的流動方向設計，而達精簡的空間配置。
『圖6』為沿『圖4』B-B的立體剖面示意圖，係從D1方向所視，該進氣部10安裝於一頂端，該進氣部10包括一進氣腔室11、至少一進氣管12以及一清潔件13，其中，該進氣管12係實質上斜向地裝設於該進氣腔室11並與該進氣腔室11連通，該進氣管12相對該進氣腔室11的壁面傾斜且夾有一角度，該角度小於45°，較佳地介於35°至45°之間。操作時，從半導體製程流出的一尾氣Gas從該進氣管12進入該進氣腔室11，並從該進氣腔室11的一底端向下移動離開。其中，由於該進氣管12採斜向地設置，可以避免該尾氣Gas進氣過快而無法充分地被處理的問題。如圖所示，該進氣部10採垂直地裝設，該尾氣Gas從該底端離開後沿該流動方向向下移動。該清潔件13包括一移動件131以及一清潔頭132，該清潔頭132連接於該移動件131的一端，且該清潔頭132受該移動件131的驅動而可向下移動，以清潔沾附在該進氣腔室11的粉塵、顆粒或髒汙。
該第一洗滌塔20耦接於該進氣部10下方且彼此連通以接收該尾氣Gas，該第一洗滌塔20直向地延伸且包括一第一腔室21、一第一底部開口22以及一蓄水池23，該蓄水池23設置於該第一腔室21的一外側，該蓄水池23透過一管路連接至一水源，藉此供應水至該蓄水池23。該蓄水池23內的水流將從一位於上方的液體入口24流入該第一腔室21並沿該第一腔室21的一內壁211向下流動形成一水簾，以沖洗進入該第一腔室21的該尾氣Gas，並 清潔沾附在該內壁211的粉塵、顆粒或髒汙。該第一腔室21經由該第一底部開口22而與該循環水箱30連通。
『圖7A』至『圖7B』為沿『圖4』B-B的剖面示意圖，『圖8』為沿『圖4』C-C的立體剖面示意圖，係從D2方向所視，該循環水箱30設置於該第一洗滌塔20的下方，且耦接於該第一洗滌塔20和該第二洗滌塔40以及該第三洗滌塔50下方，該循環水箱30包括一集水空間31、一阻隔件32、一第一上開口33a、一第二上開口33b、一第三上開口33c以及一第四上開口33d，該阻隔件32設置於該集水空間31並將該集水空間31區隔出一第一區域31a以及一第二區域31b，該第一區域31a及該第二區域31b在一底部彼此相通，該集水空間31內蓄有循環流動的水W，該水的一水平面(Surface level)L係低於該循環水箱30的一頂部34，且高於該阻隔件32的一底端，據此在該第一區域31a及該第二區域31b分別留下供該尾氣Gas側向移動的通道35a、35b。該第一上開口33a以及該第二上開口33b連通至該第一區域31a，且該第一上開口33a連通至該第一洗滌塔20，該第二上開口33b連通至該第二洗滌塔40。該第三上開口33c及該第四上開口33d連通至該第二區域31b，且該第三上開口33c連通至該第三洗滌塔50，該第四上開口33d連通至該後處理塔60。此外，該循環水箱30還包括一抽取口36、一進水口37、一側蓋38以及一頂蓋39，該抽取口36耦接至該泵管部70，該進水口37則用於供應新鮮的水，該側蓋38以及該頂蓋39可被開啟或關閉，以供操作人員進行清洗、維護或修理等作業。
該第二洗滌塔40與該第一洗滌塔20相鄰地設置，且耦接於該循環水箱30的上方，以接收從該循環水箱30離開的該尾氣Gas，該第二洗滌塔40直向地延伸且包括一第二腔室41、一第二底部開口42、一第二頂部開口43、 複數個噴射件(Eductor)44、一輸送管45以及複數個連接管46。該第二腔室41的該第二底部開口42與該循環水箱30的該第二上開口33b連通，該輸送管45直立地設置於該第二腔室41內，並經由該連接管46連接至該噴射件44而供應噴灑的液體給該噴射件44。於本發明中，該噴射件44的一噴灑方向相對該尾氣Gas在該第二腔室41內的該流動方向呈順向設置，即該噴射件44設置為的該噴灑方向相反於該流動方向，而於其他實施例中，該噴射件44的該噴灑方向相對該流動方向亦可呈順向設置。
該第三洗滌塔50與該第二洗滌塔40相鄰地設置，該第三洗滌塔50包括一第三腔室51、一第三頂部開口52、一第三底部開口53、一引流裝置54以及至少一填充床(圖未示)，該第三頂部開口52側向地連接至該第二頂部開口43而使該第三腔室51與該第二腔室41連通，該第三腔室51包括一上方隔室51a以及一下方隔室51b，該引流裝置54設置於該上方隔室51a，該引流裝置54包括一流體供應管541以及一引流管542。
該引流裝置54定義出一輸入方向、一輸出方向以及一驅動方向，該輸入方向不平行於該輸出方向及該驅動方向，且該輸出方向同於該驅動方向。本實施例中，該輸入方向(水平方向)係實質上地垂直於該輸出方向(垂直方向)。在一例子中，該引流裝置54是利用一被動式的吸力來引導該尾氣Gas的流動，該吸力並非經由機械結構的做動而產生。該第二洗滌塔40的該第二頂部開口43定義為一流入區域RI，而該第三洗滌塔50的該下方隔室51b定義為一流出區域RO，該流出區域RO以及該流入區域RI之間形成一第一通道P1，該流體供應管541直向地設置且位於該引流管542上方，該流體供應管541與該引流管542彼此對齊且相隔，該流體供應管541與該引流管542之間定義出一第二通道P2，該第二通道P2位於該第一通道P1內，該流體供應管 541包括一頂端開口541a以及一底端開口541b，該頂端開口541a連接至一液體源，而該底端開口541b為一噴嘴，該引流管542包括一頂端開口542a以及一底端開口542b，該頂端開口542a位於該上方隔室51a之中，該底端開口542b位於該下方隔室51b之中。該流體供應管541朝該引流管542供應一噴射流體543，據此於該第一通道P1以及該第二通道P2之間產生一壓力差，而產生一吸力544，該吸力544在該流體供應管541及該引流管542之間定義出一側向進氣區域，該吸力544驅動該尾氣Gas從該流入區域RI進入該流出區域RO，換言之，該噴射流體543誘使該流體供應管541及該引流管542之間產生引導氣流朝該引流管542的該底端開口542b流出的一驅動力。此外，本實施例中，該流體供應管541呈上窄下寬的錐狀。該下方隔室51b是一填充床腔室，堆積有複數個填充物，而構成了該填充床，該填充物的材質例如為聚氯乙烯(PVC)。
配合參閱『圖8』至『圖9』，該後處理塔60設置於該循環水箱30的上方且和該第二洗滌塔40相鄰設置，該後處理塔60包括一第四腔室61、一第四底部開口62以及一第四頂部開口63，該第四腔室61經由該第四底部開口62而與該循環水箱30連通。本實施例中，該後處理塔60係提供乾燥、去水以及/或去除氮化物的功能，舉例來說，該後處理塔60可包括一電觸媒轉換器(Electro-catalyticconverter)，例如電觸媒蜂巢(Electro-catalytichoneycomb)組件或電觸媒雙平板(Electro-catalyticdouble-cell plate)組件。
本實施例中，該設備還包括一泵管部70(該泵管部70並非用於該尾氣Gas的抽取)，該泵管部70包括一第一泵組件71、一第二泵組件72、一第一管路73、一第二管路74、一第三管路75、一第四管路76、一第五管路77以及一進水管路78，該第一管路73分別連接至該第一泵組件71以及該循環水 箱30的該抽取口36，該第二管路74分別連接至該第二泵組件72以及該第三管路75及該第四管路76，該第三管路75連接至該第二洗滌塔40的該輸送管45，該第四管路76連接至該第三洗滌塔50的該引流裝置54的該流體供應管541，該第五管路77連接於該第一泵組件71及該第二泵組件72之間。該泵管部70。另一方面，根據本發明其他實施例，該後處理塔60的該第四頂部開口63還可選擇地連接至一抽氣設備，藉此增加該尾氣Gas的抽取效率。本例中，該箱體90係隔成複數個腔室而作為該第二洗滌塔40、該第三洗滌塔50及該後處理塔60，該箱體90進一步地包括複數個第一前蓋板91以及複數個第二前蓋板92，該第一前蓋板91對應該第二洗滌塔40而設置，該第二前蓋板92對應該第三洗滌塔50而設置，該第一前蓋板91以及該第二前蓋板92可被開啟或關閉，以供操作人員進行清洗、維護或修理等作業。於其他實施例中，該第二洗滌塔40、該第三洗滌塔50及該後處理塔60亦可採其他的結構配置。
操作上，在該第一洗滌塔20中，該蓄水池23內的水流將流入該第一腔室21並形成該水簾。在該第二洗滌塔40中，該第二泵組件72將水經由該第二管路74、該第三管路75抽取至該第二洗滌塔40的該輸送管45，以在該第二洗滌塔40內經由該噴射件44產生多個噴灑(Spray)。在該第三洗滌塔50中，該第二泵組件72將水經由該第二管路74、該第四管路76抽取至該第三洗滌塔50的該引流裝置54的該流體供應管541，從而作為該液體源而使該尾氣Gas被吸進該第三洗滌塔50。該第一泵組件71用於將該循環水箱30的水抽出，該第一泵組件71及該第二泵組件72之間更以該第五管路77彼此連接，如此一來，經由適當的過濾，可以將該循環水箱30中的水抽出做為該第二 洗滌塔40以及該第三洗滌塔50的水源，以優化耗水量。該控制部80用於控制各個管路上的閥件的做動，此為本領域人士熟知技術，於此不令贅述。
根據本發明的一方面，係提供一種處理氣體汙染物的設備，包括一第一空間、一第二空間以及一引流裝置54，舉例來說，該第一空間為該第二洗滌塔40的內部空間，該第二空間該第三洗滌塔50的內部空間，該第一空間可直接或間接地耦接至一氣體源，並接收一來自該氣體源的氣體汙染物，該第二空間與該第一空間流體地連接。該引流裝置54裝設於該第二空間的一流出區域RO以及該第一空間的一流入區域RI之間的一第一通道P1，該第一通道P1沿一方向延伸，該引流裝置54包括一設於靠近該流入區域RI的流體供應管541以及一設於靠近該流出區域RO的引流管542，該流體供應管541及該引流管542沿該方向彼此相隔且於其間形成一位於該第一通道P1的第二通道P2，其中，該流體供應管541朝該引流管542供應一噴射流體，據此於該第一通道P1以及該第二通道P2之間產生一壓力差，該壓力差驅動該氣體汙染物從該流入區域RI進入該流出區域RO。
綜合來說，在一實施例中，本發明揭示的一處理氣體汙染物的設備，係考慮尾氣的流動方向、各個洗滌器/組件的配置以及尾氣的處理方式，而在精簡的空間設置下，達到最大的處理效率。繼續參閱『圖10』，為根據本發明一實施例的示意圖，該設備包括一第一區域A1、一第二區域A2、一第三區域A3、一第四區域B、一第五區域C以及一第六區域D，該第一區域A1、該第二區域A2、該第三區域A3、該第五區域C以及該第六區域D係直向地延伸，該第四區域B係橫向地延伸。該第一區域A1、該第二區域A2以及該第三區域A3分別容置不同功能的洗滌器，該第四區域B為一水 箱，該第五區域C容置如泵管、輸送管路或閥件等組件，該第六區域D容置控制用的電子器件或操作面板(該第五區域C與該第六區域D亦可對調)。
該第一區域A1、該第二區域A2以及該第三區域A3於同一側彼此相鄰的並排，且共同地朝下地連接至該第四區域B。該第四區域B包括一第一部分B1以及一第二部分B2，該第一區域A1以及該第二區域A2經由該第一部分B1彼此連接，該第二區域A2則和該第三區域A3連接，該第三區域A3透過該第二部分B2進一步地連接至其他組件。該第五區域C與該第六區域D於同一側彼此相鄰的並排，且適當地連接至該第一區域A1、該第二區域A2、該第三區域A3以及該第四區域B內的硬體。
101:進氣部
101a:導引管路
101b:進氣腔室
102:第一處理單元
1021:噴灑
103:第二處理單元
1031:填充物
104:引流裝置
105:流出物
106:第三處理單元
1061:水簾
107:第四處理單元
108:水箱單元
108a:第一部分
108b:第二部分
108c:隔板
1081a、1081b:水

Claims (4)

  1. 一種處理氣體汙染物的設備，包括：一進氣部，包括一進氣腔室以及至少一導引管路，該導引管路連通至該進氣腔室並將一來自半導體製程的流出物導引至該進氣腔室；一第一洗滌塔，耦接於該進氣部下方，該第一洗滌塔直向地延伸且包括一與該進氣腔室連通的第一頂部開口、一與該第一頂部開口連通的第一腔室、一位於該第一腔室內的內壁、一側向地連通於至該第一腔室的液體入口以及一與該第一腔室連通的第一底部開口，該液體入口用於供一水流進入該第一腔室而在該內壁形成一水簾；一第二洗滌塔，與該第一洗滌塔相鄰地設置，該第二洗滌塔直向地延伸且包括一與該第一腔室連通的第二底部開口、一與該第二底部開口連通的第二腔室、一與該第二腔室連通的第二頂部開口以及複數個設置於該第二腔室內的噴射件；一第三洗滌塔，與該第二洗滌塔相鄰地設置，該第三洗滌塔直向地延伸且包括一與該第二腔室連通的第三頂部開口、一與該第三頂部開口連通的第三腔室、一與該第三腔室連通的第三底部開口、一與該第三頂部開口相鄰設置的引流裝置以及至少一位於該引流裝置下方以接收來自該引流裝置的氣流的填充床；一循環水箱，耦接於該第一洗滌塔、該第二洗滌塔以及該第三洗滌塔下方，該循環水箱包括一蓄有一液體的集水空間、一第一上開口、一第二上開口以及一第三上開口，該第一上開口、一第二上開口以及一第三上開口分別連通至該第一腔室、該第二腔室以及該第三腔室，該集水空間包括一第一區域、一第二區域以及一設置於該第一區域以及該第二區域之間的阻隔件； 其中，該第一區域在該第一洗滌塔的該第一底部開口以及該第二洗滌塔的該第二底部開口之間形成一暴露於該液體的第一流道，以供該流出物從該第一洗滌塔經該第二洗滌塔流動至該第三洗滌塔，該第二區域接收受該第三洗滌塔的該引流裝置驅動的該流出物；其中該引流裝置設置於該第三腔室的一上方隔室，該上方隔室側向地連通至該第三頂部開口且向下地連通至該填充床。
  2. 如請求項1所述的處理氣體汙染物的設備，其中該引流裝置包括一直向地設置的流體供應管、一位於該流體供應管下方的引流管以及一位於該流體供應管及該引流管之間的側向進氣區域，該引流管係對齊該流體供應管以接收來自該流體供應管的一噴射流體，該噴射流體在該側向進氣區域產生一引導氣流朝該引流管的一開口流出的驅動力。
  3. 如請求項1所述的處理氣體汙染物的設備，其中該引流管係一上窄下寬的錐狀。
  4. 如請求項1所述的處理氣體汙染物的設備，其中該引流裝置係一非機械式引流裝置。
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