TWI803118B - 用於核能電廠物體除污的自主路徑計畫及路徑執行 - Google Patents

用於核能電廠物體除污的自主路徑計畫及路徑執行 Download PDF

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Abstract

揭示一種利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法。該除污系統包括平台、成像系統、包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂、及可操作地耦接至該成像系統及該機械手臂的控制系統。該方法包括將該物體放置於該平台上，藉由該成像系統掃描該物體，藉由該控制系統基於該經掃描物體產生該物體的三維模型，藉由該控制系統基於該所產生的三維模型計畫除污路徑，藉由該控制系統根據該計畫除污路徑控制該機械手臂的位置，及藉由該端效器在沿該計畫除污路徑的複數個位置處將該除污介質排放於該物體上。

Description

用於核能電廠物體除污的自主路徑計畫及路徑執行
本發明大致係有關用於將物體除污，更明確言之，用於將自除役核能電廠移除之組件除污的除污系統。
在各種具體例中，揭示一種利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法。該除污系統包括平台、成像系統、包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂、及可操作地耦接至該成像系統及該機械手臂的控制系統。該方法包括將該物體放置於該平台上，藉由該成像系統掃描該物體，藉由該控制系統基於該經掃描物體產生該物體的三維模型，藉由該控制系統基於該所產生的三維模型計畫除污路徑，藉由該控制系統根據該計畫除污路徑控制該機械手臂的位置，及藉由該端效器在沿該計畫除污路徑的複數個位置處將該除污介質排放於該物體上。
在各種具體例中，揭示一種經組構來將自核能電廠移除之物體除污的除污系統。該除污系統包括平台、成像系統、包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂、及可操作地耦接至該成像系統及該機械手臂的控制系統。該控制系統係經組構以藉由該成像系統基於放置於該平台上之該物體來掃描該物體，藉由該控制系統基於該經掃描物體產生該物體的三維模型，藉由該控制系統基於該所產生的三維模型計畫除污路徑，藉由該控制系統根據該計畫除污路徑控制該機械手臂，及藉由該端效器在沿該計畫除污路徑的複數個位置處將該除污介質排放於該物體上。
在各種具體例中，揭示一種利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法。該除污系統包括平台、經組構來旋轉平台的運動產生系統、成像系統、包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂、及可操作地耦接至該運動產生系統、該成像系統、及該機械手臂的控制系統，該方法包括將該物體放置於該平台上，藉由該控制系統維持該成像系統之位置，藉由該運動產生系統相對於該成像系統將該平台旋轉至複數個旋轉位置，藉由該成像系統於該複數個旋轉位置掃描該物體，藉由該控制系統基於該經掃描物體產生該物體的三維模型，藉由該控制系統基於該所產生的三維模型計畫除污路徑，藉由該控制系統根據該計畫除污路徑控制該機械手臂的位置，及藉由該端效器在沿該計畫除污路徑的複數個位置處將該除污介質排放於該物體上。
本申請案根據35 U.S.C. § 119 (e)主張2021年12月28日提出申請標題「用於核能電廠物體除污的自主路徑計畫及路徑執行(AUTONOMOUS PATH PLANNING AND PATH EXECUTION FOR DECONTAMINATION OF NUCLEAR POWER PLANT OBJECTS)」之美國專利申請案序號17/134,619的權益及優先權，該案之全體揭示內容以引用的方式併入本文。
闡述許多特定細節以提供對如於說明書中所說明及繪示於附圖中之具體例之整體結構、功能、製造、及使用的徹底理解。未詳細描述熟知的操作、組件、及元件，以不致模糊描述於說明書中的具體例。讀者將理解，本文中所描述及說明之具體例為非限制性實例，且因此可瞭解本文中揭示之特定結構及功能細節可為代表性及說明性的。可對其進行變化及改變而不脫離申請專利範圍之範疇。
在核能電廠的生命全期過程中，使用於核能電廠中的組件會暴露至輻射及因此受到污染。當核能電廠除役時，需要除污操作來確保自核能電廠移除之組件沒有、或至少實質上沒有輻射。目前，此除污操作係於濕式除污盒(wet decontamination box)中手動進行，其可係骯髒、麻煩的，且更重要地，由於在過程期間被人員吸收的放射性劑量而對除污人員具有危害。
為減輕工作負荷及降低工人所吸收的放射性劑量，將希望使除污過程自動化。然而，為有效地使過程自動化，除污系統必須能夠對來自核能電廠的未知部件(諸如閥、泵、及其類似物)密切地工作，其不具有附隨的CAD模型或繪圖。不利用附隨的CAD模型或繪圖來計畫物體的除污路徑將係極端困難的。
因此，本揭示之一目標係要提供一種自動化除污系統，其免除除污人員的不安全工作條件且能夠對來自核能電廠的未知部件進行工作。
現參照圖1，提供根據本揭示之至少一態樣，用於將自核能電廠移除之物體除污的除污系統100。除污系統100可包括控制系統102、機械手臂104、成像系統106、及包括平台的轉盤108。控制系統102可與機械手臂104、成像系統106及轉盤108可操作通信，如將更詳細論述於下文。在各種具體例中，控制系統102可包括處理器及可操作地耦接至該處理器的記憶體。該記憶體可包括可由該處理器執行以實行除污過程之各種功能，諸如尤其控制機械手臂104、轉盤108、及成像系統106的指令，如於文中他處所解釋。
轉盤108之平台可經定尺寸使得自核能電廠移除之物體可放置於其上。轉盤108可包括耦接至平台，使得平台可相對於控制系統102旋轉的運動產生器，諸如馬達。在一態樣中，運動產生器可與控制系統102可操作通信，使得控制系統102可控制平台之旋轉，及因此，可控制放置於平台上之物體的旋轉位置。在各種具體例中，控制系統102可以均勻、恆定的速度旋轉平台。在各種具體例中，控制系統102可以各種速度旋轉平台。在各種具體例中，控制系統102可相對於成像系統106將平台旋轉至複數個離散的旋轉位置，使得成像系統106可於複數個旋轉位置掃描物體，如將更詳細論述於下文。在各種具體例中，控制系統102可控制平台，使得平台於物體的掃描過程期間保持靜止(即不旋轉)。
在各種具體例中，機械手臂104可包括端效器。端效器可耦接至除污介質來源，使得端效器能夠自其排放除污介質。在各種具體例中，端效器可與軟管或噴嘴類似，使得端效器可將除污介質排放或噴霧於意欲除污的物體上。在各種具體例中，除污介質可包括水，其可以高壓排出。在各種具體例中，除污介質可包括砂，其可以高壓排出。在各種具體例中，除污介質可包括雷射以容許雷射燒蝕物體。
在各種具體例中，除污系統100可進一步包括處理系統。處理系統可包括收集系統，諸如，比方說，排液管、泵、水槽，其可收集自端效器排放於物體上的除污介質。在一態樣中，與集水坑泵類似，可將收集系統放置於地板上，使得於將除污介質噴霧於物體上後，除污介質將落下且到達收集系統。在各種其他具體例中，收集系統可包括真空，其可由控制系統102控制以抽真空及收集用過的除污介質。
在各種具體例中，處理系統可進一步包括耦接至收集系統的清潔系統。清潔系統可清潔由收集系統所收集的除污介質，諸如，比方說，經由純化介質、過濾介質、消毒介質。清潔系統可與除污介質來源可操作連接，使得經過清潔的除污介質可再次利用於除污過程中。
在各種具體例中，成像系統106可係任何適當的三維(3D)成像、偵測器、或顯像系統，其可即時掃描放置於平台上之物體並將掃描影像提供至控制系統102。在一態樣中，控制系統102可控制成像系統106之位置，使得成像系統106能夠充分地掃描放置於平台上之物體且控制系統102可利用掃描影像產生物體的3D模型，如將更詳細地論述於下文。在各種具體例中，可將成像系統106安裝至機械手臂且控制系統102可將機械手臂相對於物體移動至複數個掃描位置。在各種其他具體例中，安裝成像系統106的機械手臂可不同於機械手臂104，使得除污系統100包括兩個機械手臂。在各種其他具體例中，可將成像系統106安裝至機械手臂104。在各種具體例中，成像系統106可以任何適當的方式，諸如安裝於機械手臂104或其他地方，使得成像系統106可於掃描過程期間保持靜止。在成像系統106保持靜止的具體例中，控制系統102可如以上所提及，將平台相對於成像系統106旋轉至複數個旋轉位置，使得靜止的顯像系統106能夠掃描物體的多個角度。設想各種具體例，其中將成像系統106移動至複數個掃描位置且亦將平台旋轉至複數個旋轉位置。
在各種具體例中，控制系統102可利用來自成像系統106的掃描影像以產生放置於平台上之物體的3D模型，諸如CAD模型。在一些具體例中，控制系統102可當成像系統106掃描物體時產生物體的3D模型。在一些具體例中，一旦成像系統106已完成掃描物體時，控制系統102即可產生物體的3D模型。在各種具體例中，如控制系統102無法利用由成像系統106所提供之掃描影像充分地完成3D模型，諸如若一些影像模糊時，則控制系統102可控制成像系統106以於不完整位置再掃描物體，而獲得物體的完整3D模型。在各種其他具體例中，使用者可手動控制控制系統102，使得使用者可相對於物體設置成像系統106來確保捕獲充足的影像，以確保可產生完整的3D模型。在各種具體例中，控制系統102可與描述於美國專利第10,600,203號中之個案相似，該案以全文引用的方式併入本文。
在一態樣中，一旦已產生物體的3D模型，控制系統102即可基於物體之所產生的3D模型來計畫除污路徑。除污路徑可包括意欲於除污過程期間由端效器相對於物體穿越的路徑。在各種具體例中，除污路徑可包括使端效器相對於物體移動至複數個離散位置。該複數個位置可包括任何數目的位置以使端效器可將物體充分地除污，如將更詳細地描述於下文。在各種具體例中，計畫除污路徑可包括各種限制來輔助清潔物體。作為一實例，一限制可包括將端效器設置於沿除污路徑之複數個位置處距物體一預定距離、或於一預定距離範圍內。另一實例限制可包括沿除污路徑將物體充分地除污所需之最小數目的位置。另一實例限制可包括於沿除污路徑之複數個位置之間的最小或最大距離。設想各種其他限制來輔助將物體充分地除污。
一旦已由控制系統102計畫除污路徑，控制系統102即可執行計畫除污路徑以根據除污路徑控制機械手臂104及端效器相對於物體的位置。在一態樣中，控制系統102可將端效器設置於沿除污路徑的複數個離散位置，然後端效器可排放除污介質，使得端效器僅於除污路徑的離散位置處排放除污介質。在其他具體例中，控制系統102可沿除污路徑移動端效器，且端效器可隨端效器沿除污路徑的移動而連續排放除污介質。在各種具體例中，控制系統102可沿除污路徑相對於物體設置端效器，同時亦控制轉盤108以旋轉物體。在一態樣中，控制系統102可控制轉盤108的旋轉，同時使機械手臂104保持靜止。設想機械手臂104與轉盤108之間的任何移動組合，使得端效器可沿計畫除污路徑移動來將物體除污。
一旦已根據計畫除污路徑將物體除污，則在各種具體例中，除污系統100可進一步包括感測器總成，其可經利用來感測自物體發射的輻射水平。在一態樣中，如該等輻射水平低於預定閾值，則可將物體自平台移除且可自核能電廠移除。在一態樣中，如輻射水平處於或高於預定閾值，則控制系統102可判定物體未經充分除污而需要進一步的除污。在此一情境中，作為一實例，控制系統102可控制機械手臂104以再次執行端效器的計畫除污路徑來進一步將物體除污，直至所感測的輻射低於要求的預定閾值為止。在各種具體例中，如輻射水平處於或高於預定閾值，則控制系統102可再次重新開始該過程，開始掃描物體以產生新的3D模型。
現參照圖2，提供根據本揭示之至少一態樣，利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法200。在各種具體例中，該除污系統可類似於除污系統100。在各種具體例中，該除污系統可包括平台、成像系統、包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂、及可操作地耦接至該成像系統及該機械手臂的控制系統。
在一態樣中，方法200可包括將物體放置202於平台上，藉由成像系統掃描204物體，藉由控制系統基於經掃描物體產生206物體的三維模型，藉由控制系統基於所產生的三維模型計畫208除污路徑，藉由控制系統根據計畫除污路徑控制210機械手臂的位置，及藉由端效器在沿計畫除污路徑的複數個位置處將除污介質排放212於物體上。
現參照圖3，提供根據本揭示之至少一態樣，利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法300。在各種具體例中，該除污系統可類似於除污系統100。在各種具體例中，該除污系統可包括平台、經組構以旋轉平台的馬達、成像系統、包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂、及可操作地耦接至該馬達、該成像系統、及該機械手臂的控制系統。
在一態樣中，方法300可包括將物體放置302於平台上，藉由控制系統維持304成像系統之位置，藉由運動產生系統相對於成像系統將平台旋轉306至複數個旋轉位置，藉由成像系統於該複數個旋轉位置掃描308該物體，藉由控制系統基於經掃描物體產生310物體的三維模型，藉由控制系統基於所產生的三維模型計畫312除污路徑，藉由控制系統根據計畫除污路徑控制314機械手臂的位置，及藉由端效器在沿計畫除污路徑的複數個位置處將除污介質排放316於物體上。
現參照圖4，提供根據本揭示之至少一態樣，利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法400。在各種具體例中，該除污系統可類似於除污系統100。在各種具體例中，該除污系統可包括平台、成像系統、包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂、及可操作地耦接至一馬達、該成像系統、及該機械手臂的控制系統。
在一態樣中，方法400可包括將物體放置402於平台上，藉由控制系統將成像系統相對於物體移動404至複數個掃描位置，藉由成像系統於複數個掃描位置掃描406物體，藉由控制系統基於經掃描物體產生408物體的三維模型，藉由控制系統基於所產生的三維模型計畫410除污路徑，藉由控制系統根據計畫除污路徑控制412機械手臂的位置，及藉由端效器在沿計畫除污路徑的複數個位置處將除污介質排放414於物體上。
以下實例闡述本文所述標的之各種態樣。
實例1 - 一種利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法，其中該除污系統包括平台、成像系統、包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂、及可操作地耦接至該成像系統及該機械手臂的控制系統，該方法包括將該物體放置於該平台上，藉由該成像系統掃描該物體，藉由該控制系統基於該經掃描物體產生該物體的三維模型，藉由該控制系統基於該所產生的三維模型計畫除污路徑，藉由該控制系統根據該計畫除污路徑控制該機械手臂的位置，及藉由該端效器在沿該計畫除污路徑的複數個位置處將該除污介質排放於該物體上。
實例2 - 如實例1之方法，其中該除污系統進一步包括可操作地耦接至該平台及該控制系統的運動產生系統，其中該運動產生系統係經組構以旋轉該平台，且其中該方法進一步包括藉由該控制系統維持該成像系統之位置，藉由該運動產生系統相對於該成像系統將該平台旋轉至複數個旋轉位置，及藉由該成像系統於該複數個旋轉位置掃描該物體。
實例3 - 如實例1之方法，其進一步包括藉由該控制系統將該成像系統相對於該物體移動至複數個掃描位置，及藉由該成像系統於該複數個掃描位置掃描該物體。
實例4 - 如實例1至3中任一項之方法，其中該成像系統係安裝至該機械手臂。
實例5 - 如實例1至4中任一項之方法，其中該除污系統進一步包含處理系統，且其中該方法進一步包含藉由該處理系統收集經排放於該物體上之除污介質及藉由該處理系統清潔該經收集的除污介質。
實例6 - 如實例1至5中任一項之方法，其中該方法進一步包含將該端效器設置在沿該計畫除污路徑之複數個位置處距該物體一預定距離。
實例7 - 如實例1至6中任一項之方法，其中該除污介質包含高壓水。
實例8 - 如實例1至6中任一項之方法，其中該除污介質包含砂。
實例9 - 一種經組構來將自核能電廠移除之物體除污的除污系統，該除污系統包括平台、成像系統、包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂及可操作地耦接至該成像系統及該機械手臂的控制系統，其中該控制系統係經組構以藉由該成像系統基於放置於該平台上之該物體來掃描該物體，藉由該控制系統基於該經掃描物體產生該物體的三維模型，藉由該控制系統基於該所產生的三維模型計畫除污路徑，藉由該控制系統根據該計畫除污路徑控制該機械手臂，及藉由該端效器在沿該計畫除污路徑的複數個位置處將該除污介質排放於該物體上。
實例10 - 如實例9之除污系統，其進一步包含可操作地耦接至該平台及該控制系統的運動產生系統，其中該運動產生系統係經組構以旋轉該平台。
實例11 - 如實例10之除污系統，其中該控制系統係經進一步組構以藉由該控制系統維持該成像系統之位置，藉由該運動產生系統相對於該成像系統將該平台旋轉至複數個旋轉位置，及藉由該成像系統於該複數個旋轉位置掃描該物體。
實例12 - 如實例9之除污系統，其中該控制系統係經組構以藉由該控制系統將該成像系統相對於該物體移動至複數個掃描位置，及藉由該成像系統於該複數個掃描位置掃描該物體。
實例13 - 如實例9至12中任一項之除污系統，其中該成像系統係安裝至該機械手臂。
實例14 - 如實例9至13中任一項之除污系統，其進一步包含處理系統，該處理系統經組構以收集經排放於該物體上之該除污介質並清潔該經收集的除污介質。
實例15 - 如實例9至14中任一項之除污系統，其中該控制系統經進一步組構以將該端效器設置在沿該計畫除污路徑之複數個位置處距該物體一預定距離。
實例16 - 如實例9至15中任一項之除污系統，其中該除污介質包含高壓水。
實例17 - 如實例9至15中任一項之除污系統，其中該除污介質包含砂。
實例18 - 一種利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法，其中該除污系統包括平台、經組構來旋轉該平台的運動產生系統、成像系統、包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂、及可操作地耦接至該運動產生系統、該成像系統、及該機械手臂的控制系統，該方法包括將該物體放置於該平台上，藉由該控制系統維持該成像系統之位置，藉由該運動產生系統相對於該成像系統將該平台旋轉至複數個旋轉位置，藉由該成像系統於該複數個旋轉位置掃描該物體，藉由該控制系統基於該經掃描物體產生該物體的三維模型，藉由該控制系統基於該所產生的三維模型計畫除污路徑，藉由該控制系統根據該計畫除污路徑控制該機械手臂的位置，及藉由該端效器在沿該計畫除污路徑的複數個位置處將該除污介質排放於該物體上。
實例19 - 如實例18之方法，其中該除污系統進一步包含處理系統，且其中該方法進一步包含藉由該處理系統收集經排放於該物體上之除污介質及藉由該處理系統清潔該經收集的除污介質。
實例20 - 如實例18或19之方法，其中該成像系統係安裝至該機械手臂。
除非另有特別說明，否則從前述揭露明白，應瞭解，在整個前述揭露中，使用諸如「處理」、「演算」、「計算」、「確定」、「顯示」等術語的討論是指電腦系統或類似電子計算裝置的操作和處理，其操作電腦系統暫存器及記憶體內表示為物理(電子)量的資料及將其轉換成類似地表示為電腦系統記憶體或暫存器或其他此類資訊儲存、傳輸或顯示裝置內的物理量之其他資料。
一或多個組件在本說明書中可稱為「構形成」、「可構形成」、「可操作/可操作成」、「經調適/可調適」、「能夠」、「適用於/符合於」等。熟習該項技藝者將明白，除非另有特別需求，否則「構形成」通常可包括主動狀態組件及/或非主動狀態組件及/或待命狀態組件。
熟習該項技藝者應明白，通常，本說明書且特別是在所附申請專利範圍(例如，所附申請專利範圍的主體)中使用的用語通常是指「開放性(open)」用語(例如，用語「包含(including)」應解釋為「包含但不限於」，用語「具有(having)」應解釋為「至少具有」，用語「包含(includes)」應解釋為「包含但不限於」等)。熟習該項技藝者將更瞭解，如果意欲特定數量的所引用請求項陳述(claim recitation)，則在申請專利範圍中明確陳述此意圖，而在沒有此陳述的情況下，則此意欲就不存在。舉例而言，作為對理解之輔助，以下隨附申請專利範圍可含有引入片語「至少一個」及「一或多個」之使用以引入申請專利範圍敍述。然而，這類片語的使用不應詮釋以隱含請求項陳述中引用不定冠詞「一(a)」或「一個(an)」對包含此所引用請求項陳述的任何特定請求項限制為僅含此一陳述的請求項，即使當相同請求項包括引用片語「一或多個」或「至少一個」和諸如「一」或「一個」的不定冠詞(例如，「一」及/或「一個」通常應解釋為意指「至少一個」或「一或多個」)；對用於引入請求項陳述的定冠詞使用亦是如此。
此外，即使明確陳述一特定數量的所引用請求項陳述，熟習該項技藝者將明白，這類陳述通常應解釋成至少意指所陳述的數目(例如，沒有其他修飾語之「兩陳述」的真實陳述通常意指至少兩陳述，或兩或多個陳述)。此外，在使用類似於「A、B和C等之至少一者」之公約的彼等情況下，一般而言，此構造意欲為熟悉本技藝者應瞭解公約之意義(例如，「具有A、B及C中之至少一者的系統」將包括但不限於具有僅A、僅B、僅C、A及B一起、A及C一起、B及C一起、及/或A、B及C一起等的系統)。在使用類似於「A、B或C中之至少一者等」之公約的彼等情況下，一般而言，此構造意欲為熟悉本技藝者應瞭解公約之意義(例如，「具有A、B或C中之至少一者的系統」將包括但不限於具有僅A、僅B、僅C、A及B一起、A及C一起、B及C一起及/或A、B及C一起等的系統)。熟悉本技藝者將進一步理解，除非上下文另外規定，否則無論在描述內容、申請專利範圍或圖式中，通常呈現兩個或多於兩個替代性術語之分離性詞語及/或片語應理解為涵蓋包括該等術語中之一者、該等術語中之任一者或兩種術語之可能性。例如，片語「A或B」將通常瞭解為包括可能性「A」或「B」或「A和B」。
關於所附申請專利範圍，熟習該項技藝者應明白，其中所列舉的操作通常可採用任何順序執行。而且，雖然順序示出各種操作流程圖，但是應瞭解，可採用所示意說明以外的其他順序來執行各種操作；或者，可同時執行各種操作。除非上下文另外規定，否則此類替代次序之實例可包括重疊、交錯、中斷、重新排序、遞增、預備、補充、同步、反向或其他變型次序。此外，除非另有特別說明，否則諸如「隨著」、「關於」或其他過去式形容詞之類的用語通常不意欲排除這類變異形式。
值得注意，「一種態樣」、「一態樣」、「一示例」、「一種示例」等的任何參考意味著一結合態樣描述的特定特徵、結構或特性包含在至少一態樣中。因此，在整個說明書中各處出現的片語「在一種態樣」、「在一態樣」、「在一示例性」和「在一種示例性」不必然都意指相同態樣。此外，在一或多個態樣中可採用任何適當方式組合多個特定特徵、結構或特性。
在本說明書中所參考及/或在任何申請資料表(Application Data Sheet)中所列出的任何專利申請案、專利案、非專利公開或其他揭露文獻併入本說明書供參考，在併入的文獻與本說明書不相矛盾的程度上。因此，在必要的程度上，本說明書明確闡述的揭露內容係取代併入本說明書供參考的任何矛盾文獻。併入本說明書供參考但與本說明書闡述的現有定義、聲明或其他揭露文獻相矛盾的任何文獻或其部分，將僅以所併入文獻與現有揭露文獻之間不發生矛盾的程度併入。
多個用語「包含(comprise)」(及任何形式的包含，諸如「包含(comprises)」和「包含(comprising)」)、「具有(have)」(及任何形式的具有，諸如「具有(has)」和「具有 (having)」)、「包括(include)」(及任何形式的包括，諸如「包括(includes)」和「包括(including)」)和「含有(contain)」(及任何形式的含有，諸如「含有(contains)」和「含有(containing)」)都是非限定開放式連綴動詞。因此，一種「包含」、「具有」、「包括」或「含有」一或多個元件的系統擁有這類一或多個元件，但不限於僅擁有這類一或多個元件。同樣地，一種「包含」、「具有」、「包括」或「含有」一或多個特徵的系統、裝置或設備的元件擁有這類一或多個特徵，但不限於僅擁有這類一或多個特徵。
除非另有特別說明，否則本發明中使用的用語「實質上」、「約」或「概略」意指一特定值由熟悉技藝人士所確定的可接受誤差，該誤差部分取決於數值的測量或確定方式。在某些具體例中，用語「實質上」、「約」或「概略」意指在1、2、3或4個標準偏差內。在某些具體例中，用語「實質上」、「約」或「概略」意指在一給定值或範圍的50%、20%、15%、10%、9%、8%、7%、6%、5%、4%、3%、2%、1%、0.5%或0.05%之內。
總之，已描述由於採用本說明書描述的概念而產生的眾多好處。為了示意說明和描述之目的，已呈現一或多個形式的前面描述。其並非意欲為窮盡性的或限於所揭示之精確形式。根據上述教示，修改或變化為可能的。選擇及描述一或多個形式以說明原理及實際應用，從而使熟悉本技藝者能夠利用各種形式及適於所涵蓋之特定用途的各種修改。意圖據此所提交的申請專利範圍定義整個範疇。
100:除污系統 102:控制系統 104:機械手臂 106:成像系統 108:轉盤 200:方法 202,204,206,208,210,212:步驟 300:方法 302,304,306,308,310,312,314,316:步驟 400:方法 402,404,406,408,410,412,414:步驟
根據以下結合如下附圖的實施方式可瞭解文中描述之具體例的各種特徵以及其優點：
圖1繪示根據本揭示之至少一態樣的除污系統。
圖2繪示根據本揭示之至少一態樣利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法。
圖3繪示根據本揭示之至少一態樣利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法。
圖4繪示根據本揭示之至少一態樣利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法。
在數個圖式中，對應的參考編號指示對應的部件。本說明書闡述的示例採用一形式以說明本發明的各種具體例，且不應將這些示例詮釋為以任何方式限制本發明的範疇。
100:除污系統
102:控制系統
104:機械手臂
106:成像系統
108:轉盤

Claims (17)

  1. 一種利用除污系統將自核能電廠移除之物體除污的方法，其中該除污系統包括平台、成像系統、包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂、及可操作地耦接至該成像系統及該機械手臂的控制系統，該方法包括：將該物體放置於該平台上；藉由該成像系統掃描該物體；藉由該控制系統基於該經掃描物體產生該物體的三維模型；藉由該控制系統基於該所產生的三維模型計畫除污路徑；藉由該控制系統根據該計畫除污路徑控制該機械手臂的位置；及藉由該端效器在沿該計畫除污路徑的複數個位置處將該除污介質排放於該物體上。
  2. 如請求項1之方法，其中該除污系統進一步包括可操作地耦接至該平台及該控制系統的運動產生系統，其中該運動產生系統係經組構以旋轉該平台，且其中該方法進一步包括：藉由該控制系統維持該成像系統之位置；藉由該運動產生系統相對於該成像系統將該平台旋轉至複數個旋轉位置；及藉由該成像系統於該複數個旋轉位置掃描該物體。
  3. 如請求項1之方法，其進一步包括：藉由該控制系統將該成像系統相對於該物體移動至複數個掃描位置；及藉由該成像系統於該複數個掃描位置掃描該物體。
  4. 如請求項1之方法，其中該成像系統係安裝至該機械 手臂。
  5. 如請求項1之方法，其中該除污系統進一步包含處理系統，且其中該方法進一步包含：藉由該處理系統收集經排放於該物體上之該除污介質；及藉由該處理系統清潔該經收集的除污介質。
  6. 如請求項1之方法，其中該方法進一步包含將該端效器設置在沿該計畫除污路徑之複數個位置處距該物體一預定距離。
  7. 如請求項1之方法，其中該除污介質包含高壓水。
  8. 如請求項1之方法，其中該除污介質包含砂。
  9. 一種經組構來將自核能電廠移除之物體除污的除污系統，該除污系統包括：平台；成像系統；包括經組構以排放除污介質之端效器的機械手臂；及可操作地耦接至該成像系統及該機械手臂的控制系統，其中該控制系統係經組構以：藉由該成像系統基於放置於該平台上之該物體來掃描該物體；藉由該控制系統基於該經掃描物體產生該物體的三維模型；藉由該控制系統基於該所產生的三維模型計畫除污路徑；藉由該控制系統根據該計畫除污路徑控制該機械手臂；及藉由該端效器在沿該計畫除污路徑的複數個位置處將該除污介質排放於該物體上。
  10. 如請求項9之除污系統，其進一步包含可操作地耦接至該平台及該控制系統的運動產生系統，其中該運動產生系統係經組構 以旋轉該平台。
  11. 如請求項10之除污系統，其中該控制系統係經進一步組構以：藉由該控制系統維持該成像系統之位置；藉由該運動產生系統相對於該成像系統將該平台旋轉至複數個旋轉位置；及藉由該成像系統於該複數個旋轉位置掃描該物體。
  12. 如請求項9之除污系統，其中該控制系統係經組構以：藉由該控制系統將該成像系統相對於該物體移動至複數個掃描位置；及藉由該成像系統於該複數個掃描位置掃描該物體。
  13. 如請求項9之除污系統，其中該成像系統係安裝至該機械手臂。
  14. 如請求項9之除污系統，其進一步包含處理系統，該處理系統經組構以：收集經排放於該物體上之該除污介質；及清潔該經收集的除污介質。
  15. 如請求項9之除污系統，其中該控制系統經進一步組構以將該端效器設置在沿該計畫除污路徑之複數個位置處距該物體一預定距離。
  16. 如請求項9之除污系統，其中該除污介質包含高壓水。
  17. 如請求項9之除污系統，其中該除污介質包含砂。
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