TWI798041B

TWI798041B - 用於執行全內反射散射量測的裝置與方法

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Publication number: TWI798041B
Application number: TW111112390A
Authority: TW
Inventors: 林政鞍; 侯姿吟; 李祐瑋; 蔡育秀; 王明誠
Original assignee: 中原大學
Priority date: 2022-03-31
Filing date: 2022-03-31
Publication date: 2023-04-01
Also published as: TW202340699A

Abstract

本揭示內容是關於用於對樣本玻片執行一全內反射散射(total internal reflection scattering，TIRS)量測的裝置及方法。前述裝置包含具有第一開口的第一反射板；具有第二及第三開口，且設置在該第一反射板上方的第二反射板，從而在兩者之間形成用於容置樣本玻片的狹縫，其中第一反射板的第一開口設置在第二反射板的第二開口的正下方；光源，其設置由第二反射板之第三開口所形成的空間中，並設以對該狹縫發射光；以及第一遮光層，設置在第三開口的上方從而覆蓋該光源並防止發射光洩漏。當該樣本玻片插入狹縫中，光源照明該樣本玻片以對該樣本玻片達成全內反射散射量測。

Description

用於執行全內反射散射量測的裝置與方法

本揭示內容是關於用於對樣本玻片執行全內反射散射(total internal reflection scattering，TIRS)量測的裝置與方法。特別是有關於一種對容納於該裝置中的樣本玻片執行TIRS量測的方法。

由於暗視野顯微鏡(dark-filed microscopy，DFM)透過對成像物體創造一暗視野背景/視域，從而在成像背景與可見度之間取得平衡，因此從19世紀被發明以來一直是強大的光學工具。DFM的基本工作模式是物體在傾斜照明的焦平面上的光散射，且此照明的光透過光散射被轉移到物鏡中。DFM可選地可與全內反射螢光(total internal reflection fluorescence，TIRF)顯微鏡一起使用，透過來自電介質介面鄰近漸逝場的散射光的協助，從而增強成像物體的對比。因此發展及使用各種有著高散射效率的成像探針(例如，金屬奈米粒子及/或螢光團)來促進在散射及/或螢光顯微鏡下對成像物品的偵測。

為了達成暗視野視域，通常使用包含暗視野聚光器、浸油及油浸物鏡的一特定套組來增加解析力。然而，將自動顯微鏡連接到傳統的暗視野視域仍有困難。由於繞射限制，只有在高放大倍率下才會出現最佳的暗視野視域，如此一來會將視野範圍侷限在小面積並導致視野亮度不平均。另一方面，當與TIRF顯微鏡一起使用時，TIRF的成像取決於耦接至樣本(例如細胞表面)的螢光團之激發，當有未結合的螢光團數量超過有結合的螢光團時，背景雜訊會過強而無法清晰成像。漸逝電磁場從介面呈指數性地衰減，並由此穿透到樣本介質中僅100 nm的深度，從而產生在縱軸方向上的受限影像。

有鑑於此，相關領域亟需一種用來在顯微鏡下增強視野亮度並創造更大暗視野視域的改良可操作裝置。

為了給讀者提供基本的理解，以下提供本揭示內容的簡要發明內容。此發明內容不是本揭示內容的廣泛概述，同時非用來識別本發明的關鍵/必需元件或勾勒本發明的範圍。其唯一目的是以簡化的概念形式呈現本揭示內容的一些概念，以作為呈現於後文中更詳細描述的序言。

如本文具體實施及廣泛描述，本揭示內容的一個態樣是關於一種用於在顯微鏡下對一樣本玻片執行全內反射散射(TIRS)量測的裝置。前述裝置包含第一反射板，具有第一開口；第二反射板，具有第二級至少一第三開口，且第二反射板設置在第一反射板之上方，從而在兩者之間定義一狹縫，用以容置該樣本玻片，其中第一反射板的第一開口設置在第二反射板的第二開口的正下方；至少一光源設置在第二反射板的第三開口所形成之空間內，並設以發射光進入該狹縫中，以照明容置於其中的樣本玻片；以及第一遮光層設置在第三開口的上方，從而覆蓋光源並防止發射的光洩漏。在該裝置中，狹縫容置的樣本玻片具有被設置在光源正下方的一邊緣，且光在狹縫及樣本玻片內反射，從而達成對樣本玻片的TIRS量測。

在一些優選實施方式中，光源是發光二極體的形式。

根據本揭示內容的部分實施方式，裝置更包含相對於第一遮光層設置的第二遮光層，其中該第二遮光層覆蓋至少一部份的狹縫。

根據本揭示內容部分實施方式，第一及第二遮光層各為獨立地塗覆有遮光漆層的遮光織品或遮光膠帶的形式。

根據本揭示內容非必要實施方式，裝置更包含設置在第一及第二反射板之間的黏附元件，用以將兩者固定在一起。

在一些操作實施例中，黏附元件可以是貼紙、黏扣帶、磁鐵或吸盤之任一種。

根據本揭示內容非必要實施方式，第一反射板或第二反射板具有一突起結構，係從其表面形成以與彼此連接。

本揭示內容另一態樣則關於一種在顯微鏡下通過本揭示內容之裝置對一樣本玻片執行全內反射散射(TIRS)量測的方法，所述方法包含(a)將本揭示內容之裝置放置於顯微鏡下；(b)將樣本玻片插入由裝置的第一反射板與第二反射板之間所形成的狹縫中；以及(c)打開光源以照明該狹縫與樣本玻片，藉此達成對該樣本玻片的TIRS量測。

根據本揭示內容部分實施方式，在步驟(b)，插入狹縫的樣本玻片不完全佔據狹縫內部的全部空間。

在一些實施方式中，光源是發光二極體的形式。

黏附元件的實例為貼紙、黏扣帶、磁鐵或吸盤。

在參閱下文實施方式後，本發明所屬技術領域中具有通常知識者當可輕易瞭解本發明之基本精神及其他發明目的，以及本發明所採用之技術手段與實施態樣。

為了使本揭示內容的敘述更加詳盡與完備，下文針對了本發明的實施態樣與具體實施例提出了說明性的描述；但這並非實施或運用本發明具體實施例的唯一形式。實施方式中涵蓋了多個具體實施例的特徵以及用以建構與操作這些具體實施例的方法步驟與其順序。然而，亦可利用其他具體實施例來達成相同或均等的功能與步驟順序。

1. 定義

為了便於說明，此處統整性地說明本說明書、實施例以及後附的申請專利範圍中所記載的特定術語。除非本文另有定義，本文所有的技術及科學術語與本發明所屬技術領域具有通常知識者習知的術語的意思相同。

除非上下文另有明確說明，本文所使用的單數形式「一 (a, an)」以及「該 (the)」均包含複數形式。

本文使用的「全內反射散射(total internal reflection scattering，TIRS)」一詞是指一種光學現象，其中光線從漸逝波被足夠靠近具有不同折射率的兩種材料之間的邊界或介質之顯微微粒散射，其中當光波從較高折射率之材料到具有較低折射率的另一材料之邊界上以足夠傾斜之角度入射時，此時發生一全內反射(total internal reflection，TIR)。被許多微粒散射的光的隨機干擾導致可藉由顯微鏡判讀的散斑場。根據本揭示內容之實施方式，所謂的TIRS是透過本發明裝置及方法在一樣本玻片中執行。

本文使用的術語「在...的上方」(above)、「之上」(on)以及「在...的下方」(underneath)是各自描述如圖式所繪示的一元件或一特徵與另一元件或特徵的空間關係。具體地，「之上」一詞是指一元件物理性與另一元件接觸或被該元件所支撐，然而本文使用的「在...的上方」之詞語是指一元件設置在另一元件上的一延伸距離或空間中，且不與該元件有物理性接觸。在本揭示內容的一實施方式中，一反射板是設置在另一反射板「的上方」，藉以在兩者之間創造一個狹縫。另一方面，「在...的下方」一詞則用來指稱一元件直接放置或直接位於另一元件底下，無論有無物理接觸。根據本揭示內容實施方式，一反射板的一開口是設置在另一反射板另一開口的正下方，從而允許通過該些開口查看放在狹縫中的樣本玻片。

2. 具體實施方式

本揭示內容至少部分基於發現當將一玻璃顯微鏡載片裝載到本揭示內容的新穎裝置並以可見光照明時，可以在該玻片內達成一全內反射，且此玻片的暗視野的亮度可被顯著地增強。據此，本揭示內容提供一種新穎的裝置，用於在顯微鏡下對一樣本執行全內反射散射(total internal reflection scattering，TIRS)量測，優選是在暗視野顯微鏡下執行TIRS。本揭示內容還揭示一種用於通過該裝置執行TIRS量測的方法。

本揭示內容旨在提供可用於顯微鏡下的樣本玻片之一新穎裝置，以便對該樣本玻片執行TIRS量測。

2.1本揭示內容裝置及其操作方法

具體參考第1A至第1C圖，其中第1A圖是根據本揭示內容一實施方式之例示性裝置100的爆炸視圖；第1B圖是第1A圖之裝置100經組裝後的透視圖；以及第1C圖是沿著第1B圖線1C-1C'的裝置100剖面圖。裝置100其結構本身包含第一反射板110、第二反射板120、光源130以及第一遮光層140，其中第一反射板110具有第一開口1101，而該第二反射板120具有第二開口1201及第三開口1202。

為建構裝置100，第二反射板120放在第一反射板110之上，且第二反射板120的第二開口1201位在第一反射板110之第一開口1101的正上方，從而在第一反射板110與第二反射板120之間定義出一狹縫115，用以在其中容置一樣本玻片10(例如，其上含有樣本的顯微鏡玻片)。光源130則做為照明容置在狹縫115內樣本玻片10之目的。具體地，以至少一發光二極體(light-emitting diodes，LEDs)製作的光源130設置在由第二反射板120的第三開口1202所形成的空間中，LEDs朝下，從而將光發射至狹縫115(第1C圖)。應當理解的是光源130的數量及位置可根據實際需求加以變化，不受限於第1A圖至第1C圖，其中光源130是實質上設置在裝置100的一側。舉例來說，在一替代性布局中，四個光源可分別圍繞在裝置100的四邊設置。各種形式與顏色的LEDs都可作為本揭示內容裝置100的光源130，包含但不限於，如第1A至1C圖裡舉例的貼片型白光發光二極體(surface mounted white light-emitting diodes，SMD LEDs)。為了執行TIRS量測，將樣本玻片10插入狹縫115中，部分的樣本玻片10設置在由第一開口1101與第二開口1201形成的空間中，從而允許使用者在顯微鏡下透過該些開口來觀察檢視部分樣本玻片10(第1B圖及第1C圖)。當插入狹縫115中，樣本玻片10不佔據狹縫115的全部空間。優選地，樣本玻片10是以光源130懸在樣本玻片10的一短邊的方式插入狹縫115中；更佳的是樣本玻片10的其中一個邊緣設置在光源130的正下方(第1C圖)。最終，第一遮光層140設置在第三開口1202的頂部以覆蓋光源130並防止發射光從裝置100洩漏。透過前述配置，當打開光源130時，所發射的光會在狹縫115及樣本玻片10中反射，較佳是在樣本玻片10中放置的樣本以金奈米顆粒標記，從而達成對樣本玻片10的TIRS量測。

可由任何具有反射特性的固體材料(例如金屬)或是塗覆有反射漆層的固體材料(例如帶有微玻璃珠的丙烯酸(acrylic)塗料)來製作第一及第二反射板(110及120)。在具體實驗例中，第一及第二反射板(110及120)是分別由塗覆銀漆的丙烯酸板材製成。至於遮光層140，可由任何不透明或能夠吸收光的材料製成。適合用於製作遮光層的例示性材料可以是遮光布或是遮光膠帶，其塗覆有一遮光漆層以阻擋任何入射光。

2.2本揭示內容裝置的替選設計

本揭示內容替選實施方式描述於第2圖，除了描述於第1A至1C圖之裝置100的組件之外，此實施方式的裝置200更包含第二遮光層250以及一黏附元件260。裝置200的大部分組件與元件都與裝置100內的一樣，如此相同的組件與部件則由共同的編號要素表示。舉例來說，第1A-1C圖的第一及第二反射板分別為110及120，而第2圖的則是210及220；第1A-1C圖的第一、第二及第三開口分別是1101、1201以及1202，而第2圖的則是2101、2201及2202，其他以此類推。

在本實施方式中，第二遮光層250是相對於第一遮光層240設置並覆蓋至少一部份的狹縫215，較佳是遮蓋狹縫215的兩末端。更優選地，第二遮光層250圍繞第一及第二反射板(210，220)的周圍並覆蓋狹縫215一端的外圍區域(第2圖)。可以與前述用於製備第一遮光層140相同的材料來製作第一及第二遮光層(240，250)。

黏附元件260則設置在第一及第二反射板(210、220)之間以將兩個反射板(210、220)固定在一起。適合作為本揭示內容黏附元件260的實施例包含貼紙、黏扣帶、磁鐵、吸盤及其類似物。黏附元件260的數量與形式可根據實際需求變化，舉例來說，總共可用1、2、3 、4、5、6、7、8、9或10個黏附元件260來將第一與第二反射板(210、220)固定在一起。應當理解的是第2圖繪示的黏附元件260是以四個磁鐵260a、260b、260c以及260d來舉例說明，該些磁鐵共同作用以將兩個反射板(210、220)固持在一起，其中兩個磁鐵設置在第一反射板210的上表面，另外兩個設置在第二反射板220的下表面。

參考第3圖，係為根據本揭示內容第二替選實施方式的裝置300，其用於對一顯微鏡下的樣本玻片執行TIRS量測。本實施方式的裝置300的組件基本上無異於第1A至1C圖繪示的裝置100，除了第一反射板310與第二反射板320之外。

裝置300的大部分組件與部件都與在裝置100的組件與部件相同，如此相同的組件與部件則由共同的編號要素表示；舉例來說，第1A圖至第1C圖的第一反射板為110，而第3圖標為310；第1A圖的第二反射板為120，而第3圖則是320，且以此類推。

在本實施方式中，第一反射板及第二反射板(310，320)與那些在裝置100的差別是第一反射板310及第二反射板320各自更包含一個突起結構，用來與另一反射板耦接。如第3圖繪示，第一反射板310具有一突起結構370形成在其表面上，並且附著在第二反射板320靠近第三開口3202處，從而在第一與第二反射板(310、320)之間創造一個距離或空間(亦即，狹縫315)用以後續將樣本玻片30容置於其中；此外突起結構370也可防止光從狹縫315洩漏。應當理解的是，第3圖繪示的突起結構370是例示成與第一反射板310一體成形成單一組件，但不限於此。一反射板的突起結構370的其他替選實施例可以是能夠與形成在另一反射板(例如此實施方式的第二反射板320)上的卯眼對接的一榫頭，以便將兩個反射板耦接在一起。

第4圖是根據本揭示內容第三替選實施方式繪示的裝置400。本實施方式的裝置400的組件基本上無異於第1A至1C圖繪示的裝置100，除了第三開口(4202a、4202b)、光源(430a、430b)以及第一遮光層(440a、440b)的數量。裝置400的大部分組件與元件都與裝置100內的一樣，如此相同的組件與部件則由共同的編號要素表示。舉例來說，第1A-1C圖的第一及第二反射板分別為110及120，而第4圖的則是410及420；第1A-1C圖的第一及第二開口分別是1101及1201，而第4圖的則是4101及4201，其他以此類推。

本實施方式第二反射板420具有一個第二開口4201以及兩個第三開口(4202a、4202b)，其分別設置在第二反射板420的相對兩邊。各第三開口(4202a、4202b)可裝載光源(430a或430b)於其中，像是裝載發光二極體(LED)陣列。各LED陣列是設置朝下以將光發射入狹縫415中。與裝置100的配置相同，樣本玻片40插入槽孔415時，各光源(430a或430b)是懸空在樣本玻片40的邊緣；更佳地，樣本玻片40是以其兩邊緣位在光源(430a、430b)的正下方的方式設置。最後，兩個第一遮光層(440a、440b)則分別設置在第三開口(4202a、4202b)的頂部以覆蓋光源(430a、430b)並防止光從裝置400洩漏。

鑑於上述，本揭示內容裝置的優點在於具有設置在由第二反射板的第三開口形成之空間內的光源，用於對形成於第一與第二反射板其中的狹縫發射光。如此一來，發射的光則可在狹縫及樣本玻片中反射，從而對該樣本玻片達成全內反射散射(TIRS)量測。藉由上述特徵，本揭示內容裝置可作為一樣本玻片的平台用來支援在暗視野下的樣本玻片，從而增強顯微鏡影像的亮度及解析度。

實施例

材料與方法

本揭示內容裝置的構建

兩個丙烯酸(亞克力)板材分別以雷射切割出如第1A圖繪示的圖型，第一板刻出一開口(即第一開口)，而第二板則切割出兩個開口(即，第二開口與第三開口)。第一及第二板透過磁條固定在一起並在其中形成一狹縫。接著將一顯微玻片容置在該狹縫中。接著，則以銀色遮光膠帶完全覆蓋包覆兩個切割好的板材。將六個貼片型白光發光二極體(SMD LEDs)放置在由第二板的第三開孔所形成的空間中，接著以銀色遮光膠帶覆蓋。

本揭示內容裝置的照明檢測

兩批粒徑分別為約40 nm及60 nm的金奈米顆粒(BBI solution, UK)連續稀釋並個別加至24孔微孔盤的微孔中，該些微孔盤預先塗覆一層聚二甲基矽氧烷(polydimethylsiloxane，PDMS)。以光密度(O.D.)，亦即1、0.5、0.25、0.125、0.0625以及 0.03125 O.D.來分別表示金奈米顆粒的濃度。將24-孔微孔盤放置在已經插入本揭示內容裝置之狹縫中的樣本玻片之上，並在倒立顯微鏡(Zeiss Axiovert 200M)下檢視。

細胞攝取金奈米顆粒的影像分析

從美國典型培養物保藏中心 (American Type Culture Collection，ATCC)取得小鼠巨噬細胞細胞株RAW264.7，並以補充有5% FBS、100 U/毫升之青黴素以及100微克/毫升之鏈黴素的DMEM培養基培養於溫度為37°C，包含5% CO ₂的潮濕環境之細胞培養箱中。為了TIRS量測，將1毫升的DMEM培養基(內有RAW264.7 細胞)加至樣本玻片(細胞數量為約1 × 10 ⁶細胞)上，並繼續培養24小時，接著與1毫升的金奈米顆粒共培養又一小時。樣本玻片設置在本揭示內容裝置中並在倒立顯微鏡(Zeiss Axiovert 200M)下觀察。

實驗例1：藉助於本揭示內容裝置對樣本全內反射散射(TIRS)的量測

根據前述「材料與方法」章節描述的方法來構建本揭示內容裝置。在進行TIRS量測之前，根據「材料與方法」章節描述的方法，分別製備各濃度之裸金奈米顆粒(僅有金奈米顆粒)的樣本玻片以及RAW264.7細胞株與金奈米顆粒共培養的樣本玻片。

為了檢測本發明裝置，激發不同濃度的裸金奈米顆粒並在一倒立顯微鏡下檢查以確認在樣本玻片中是否存在TIRS。結果發現，因為亮度改善，可以以高解析度成功地拍攝裸金奈米顆粒的奈米尺度散射影像。

此外，為了評估本揭示內容裝置對於金奈米顆粒與細胞之間的交互作用之影響，金奈米顆粒與RAW264.7細胞株共培養並隊從其散射的光進行分析。結果發現，從顯微鏡玻片的表面形成散射光，從而在暗視野下增加細胞內部結構的清晰度。更甚，無需更換物鏡，即可在顯微鏡下沿著Z軸連續性地調整細胞樣本的焦距。當金奈米顆粒與細胞同時在同一個共焦距平面上呈現清晰時，這表示金奈米顆粒成功地被巨噬細胞攝入。反之，當金奈米顆粒與細胞沒有在同一個焦距平面時(但是與背景在同一個焦距平面時)，則表示金奈米顆粒沒有被細胞攝入。

據此，本揭示內容提供一種新穎的裝置，可藉由在樣本玻片中執行全內反射散射(TIRS)而創造亮視野，從而增強暗視野的可視面積。因此，本揭示內容提供一種適用於各種類型顯微鏡的無聚光鏡(condenser-free)照明器。

應當理解的是，前述對實施方式的描述僅是以實施例的方式給出，且本領域所屬技術領域中具有通常知識者可進行各種修改。以上說明書、實施例及實驗結果提供本發明之例示性實施方式之結構與用途的完整描述。雖然上文實施方式中揭露了本發明的各種具體實施例，然其並非用以限定本發明，本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不悖離本發明之原理與精神的情形下，當可對其進行各種更動與修飾，因此本發明之保護範圍當以附隨申請專利範圍所界定者為準。

10、20、30、40:樣本玻片 100、200、300、400:裝置 1C-1C':線 110、210、310、410:第一反射板 1101、2101、3101、4101:第一開口 115、215、315、415:狹縫 120、220、320、420:第二反射板 1201、2201、3201、4201:第二開口 1202、2202、3202、4202a、4202b:第三開口 130、230、330、430a、430b:光源 140、240、340、440a、440b:第一遮光層 250:第二遮光層 260:黏附元件 260a、260b、260c、260d: 磁鐵 370:突起結構

為讓本發明的上述與其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：

第1A圖是根據本揭示內容一實施方式的例示性裝置100之爆炸視圖；第1B圖是根據第1A圖之裝置100經組裝後的透視圖；以及第1C圖是第1B圖之裝置100的剖面圖；

第2圖是根據本揭示內容第一替選實施方式之裝置200的剖面圖；

第3圖是根據本揭示內容第二替選實施方式之裝置300的剖面圖；以及

第4圖是根據本揭示內容第三替選實施方式之裝置400的剖面圖。

根據慣常的作業方式，圖中各種元件與特徵並未依比例繪製，其繪製方式是為了以最佳的方式呈現本發明相關的具體特徵與元件。此外，在不同的圖式間，以相同或相似的元件符號來指稱相似的元件/部件。

10:樣本玻片

100:裝置

110:第一反射板

1101:第一開口

115:狹縫

120:第二反射板

1201:第二開口

1202:第三開口

130:光源

140:第一遮光層

Claims

一種用於在一顯微鏡下對一樣本玻片執行一全內反射散射(total internal reflection scattering，TIRS)量測之裝置，包含：一第一反射板，具有一第一開口；一第二反射板，具有一第二開口以及至少一第三開口並設置在該第一反射板的上方，從而在兩者之間定義用以容置該樣本玻片的一狹縫，其中該第一反射板的第一開口係設置在該第二反射板之第二開口正下方；一光源，設置於由該第二反射板之第三開口所形成之空間中，且設以對該狹縫發射一光以照明容置於該狹縫中的該樣本玻片；以及一第一遮光層，設置在該第三開口之頂部，從而覆蓋該光源並防止該發射光洩漏；其中，容置於該狹縫內的該樣本玻片具有被設置在該光源正下方的一邊緣，並懸空於該樣本玻片的該邊緣，且該發射光在該狹縫及該樣本玻片內反射，從而達成對該樣本玻片的TIRS量測。
如請求項1所述之裝置，其中該光源係為一發光二極體之形式。
如請求項1所述之裝置，更包含相對於該第一遮光層設置之一第二遮光層，其中該第二遮光層覆蓋該至少一部分狹縫。
如請求項3所述之裝置，其中該第一遮光層與該第二遮光層各為獨立塗覆有一遮光漆層的一遮光織品或一遮光膠帶的形式。
如請求項1所述之裝置，更包含設置在該第一反射板與該第二反射板之間的一黏附元件，其用於將該第一反射板與該第二反射板固定在一起。
如請求項5所述之裝置，其中該黏附元件為一貼紙、一黏扣帶、一磁鐵及一吸盤之任何一者。
如請求項1所述之裝置，其中該第一反射板或該第二反射板具有從其表面形成之一突起結構，用於連接彼此。
一種用於在一顯微鏡下透過如請求項1所述之裝置對一樣本玻片執行一全內反射散射(TIRS)量測之方法，包含：(a)將如請求項1所述之裝置放置於該顯微鏡下；(b)將該樣本玻片插入如請求項1所述之裝置之該第一反射板與該第二反射板之間形成的該狹縫中，其中插入該狹縫的該樣本玻片的一邊緣位於如請求項1所述之裝置之該光源正下方，且該光源懸空於該樣本玻片的該邊緣；(c)打開該光源以照明該狹縫及該樣本玻片，藉以達成對該樣本玻片的全內反射散射量測。
如請求項8所述之方法，其中，在步驟(b)，插入該狹縫的該樣本玻片不完全佔據該狹縫內部的全部空間。
如請求項8所述之方法，其中該光源為一發光二極體的形式。
如請求項8所述之方法，其中該裝置更包含設置在該第一反射板與該第二反射板之間的一黏附元件，其用於將該第一反射板與該第二反射板固定在一起。
如請求項11所述之方法，其中該黏附元件為一貼紙、一黏扣帶、一磁鐵及一吸盤之任何一者。