TWI796060B - 晶圓吸附手臂 - Google Patents

Abstract

本發明係一種晶圓吸附手臂，其包含一本體，本體包含有一連接部、一吸附部及一流道部，連接部位於頂面的一端部且貫穿有一吸氣孔，吸附部位於頂面的另一端部，且吸附部形成有複數吸附道及複數吸附孔，各吸附道的一端相連接，各吸附道的另一端朝向外側延伸，每一吸附孔貫穿每一吸附道，流道部位於底面且凹設有至少一引流道，引流道的一端與各吸附孔相連通，引流道的另一端與吸氣孔相連通；一底蓋，其固設於本體的底面且覆蓋引流道；當本發明進行抽氣動作並吸附晶圓時，因為各吸附道之長度相同，故可達到平均吸力避免晶圓產生形變之功效。

Description

晶圓吸附手臂

本發明係涉及一種晶圓移動手臂，尤指一種利用吸附方式使得晶圓可定位於其上之晶圓吸附手臂。

現有技術的晶圓搬運裝置，尤指採用吸附技術之吸附手臂(FORK)，其包含一爪形片體及複數吸孔，爪形片體的一端突出有二支臂，各支壁形成有複數吸孔及複數流道，每一流道的一端連通吸孔，另一端連通於外部抽氣裝置，藉由抽氣裝置進行抽氣動作，使得吸附手臂可利用其吸孔將晶圓吸附於其上，達到搬運晶圓之功效。

然而，當前述結構之吸附手臂在吸附具有簍空的晶圓時，因為晶圓結構較為脆弱，容易因為吸力集中於左、右二側而造成吸力不平均，導致晶圓產生形變使得良率下降；因此，現有技術的吸附手臂，其整體構造存在有如前述的問題及缺點，實有待加以改良。

有鑒於現有技術的不足，本發明提供一種晶圓吸附手臂，其藉由將吸附部的一端相連接，另一端朝向外側延伸，達到具有平均吸力之目的。

為達上述之發明目的，本發明所採用的技術手段為設計一種晶圓吸附手臂，其包含： 一本體，其具有一頂面及一底面，該頂面及該底面為上、下相對的二側面，該本體包含有一連接部、一吸附部及一流道部，該連接部位於該頂面的一端部且貫穿有一吸氣孔，該吸附部位於該頂面的另一端部，且該吸附部形成有複數吸附道、複數吸附孔及一吸附台；各該吸附道的一端相連接，各該吸附道的另一端朝向外側延伸，各該吸附道為彎曲之流道且各該吸附道之長度相同，各該吸附道相連接的一端凸設有複數抵頂塊，各抵頂塊呈環繞間隔排列，且各抵頂塊之間間隔形成一十字溝槽狀；每一該吸附孔貫穿每一該吸附道；該吸附台凸設於該本體的該頂面，各該吸附道內凹於該吸附台；該流道部位於該底面且凹設有複數引流道，各該引流道的一端與各該吸附孔相連通，各該引流道的另一端與該吸氣孔相連通，各該引流道包含有複數寬流道及複數窄流道，每一該寬流道的一端與該吸氣孔相連通，每一該窄流道的一端與每一該吸附孔相連通，每一該窄流道的另一端與各該寬流道的另一端相連通，每一該窄流道為彎曲之流道，每一該窄流道之長度相同，複數左右相對的每一該窄流道彎曲的方向與所對應的每一該吸附道彎曲的方向相反，每一該窄流道之長度小於每一該吸附道之長度，且各該窄流道及各該吸附道呈發散狀；一底蓋，其固設於該本體的該底面且覆蓋該引流道。

進一步而言，所述之晶圓吸附手臂，其中該吸氣孔的內徑自該頂面朝向該底面的方向漸增。

進一步而言，所述之晶圓吸附手臂，其中該吸附部進一步包含有複數對位槽，各該對位槽為弧形長槽，且各該對位槽分別內凹且間隔排列於該吸附台與該連接部之間。

本發明的優點在於，當吸附部吸附晶圓時，因為各吸附道的一端相連接，另一端呈發散狀，故可達到平均吸力之功效，且吸附台及抵頂塊的設置可用以抵頂晶圓避免晶圓中央的部位因受到吸力的影響而下凹產生形變；而各吸附道之長度相同，故更可達到平均吸力之功效；由於各窄流道的長度小於各吸附道的長度，因此當氣體自吸附道經由吸附孔流至窄流道的過程中，可產生壓力差使氣體快速流過進而避免湍流現象的產生。

10:本體

11:連接部

111:吸氣孔

12:吸附部

121:吸附台

122:對位槽

123:吸附道

124:吸附孔

125:抵頂塊

126:集結區

13:流道部

131:引流道

132:寬流道

133:窄流道

134:匯流區

20:底蓋

30:連接頭

40:晶圓

圖1係本發明之立體外觀圖。

圖2係本發明之分解圖。

圖3係本發明之另一角度分解圖。

圖4係本發明之局部上視圖。

圖5係本發明之局部下視圖。

圖6係本發明之局部剖面圖。

圖7係本發明之另一局部剖面圖。

圖8係本發明之使用示意圖。

以下配合圖式以及本發明之較佳實施例，進一步闡述本發明為達成預定發明目的所採取的技術手段。

請參閱圖1及圖2所示，本發明之晶圓吸附手臂，其包含一本體10及一底蓋20。

請參閱圖2、圖3及圖7所示，本體10為一長條形片體，其具有一頂面及一底面，頂面及底面為上、下相對的二側面，本體10包含有一連接部11、一吸附部12及一流道部13，連接部11位於頂面的一端部且貫穿有一吸氣孔111，吸氣孔111的內徑自頂面朝向底面的方向漸增，形成一漸擴狀之孔洞，但不以此為限。

請參閱圖2、圖4及圖6所示，吸附部12位於頂面的另一端部，且吸附部12形成有一吸附台121、複數對位槽122、複數吸附道123、複數吸附孔124及複數抵頂塊125，吸附台121凸設於本體10的頂面，各對位槽122為弧形長槽，分別內凹於本體10的頂面且間隔排列於吸附台121與連接部11之間，各吸附道123內凹於吸附台121且各吸附道123的一端相連接形成一集結區126，各吸附道123的另一端朝向外側延伸，具體而言，各吸附道123形成發散狀，且每一吸附道123為彎曲之流道，每一吸附孔124貫穿每一吸附道123鄰近於外側位置，在本實施例中，每一吸附道123之長度相同，前述之長度所指為自每一吸附道123的內側端面至集結區126的中心點所形成的連線的長度，且連線為沿著吸附道123的中央位置延伸所形成之假想線段，但不以此為限，吸附道123之形式可依使用者需求作改變；各抵頂塊125凸設於集結區126，在本實施例中，抵頂塊125的數量為四個且分別為扇形狀之塊體，彼此間隔環繞排列組成一圓形之型態，且各抵頂塊125之間的間隔構成十字溝槽狀，但不以此為限，抵頂塊125之形式可依使用者需求作改變。

請參閱圖3、圖5及圖6，流道部13位於本體10的底面且凹設有至少一引流道131，引流道131的一端與吸附孔124相連通，引流道131的另一端與吸氣孔111相連通，在本實施例中，引流道131的數量為複數個，包含有複數寬流道132及複數窄流道133，寬流道132的寬度大於窄流道133的寬度，各寬流道132的一端與吸附孔124相連通，每一窄流道133的一端與每一吸附孔124相連 通，每一窄流道133的另一端相連接形成一匯流區134，各窄流道133形成發散狀，且每一窄流道133為彎曲之流道，複數左右相對的每一窄流道133彎曲的方向與所對應的每一吸附道123(指上、下連通同一吸附孔124)彎曲的方向相反，前述所指彎曲的方向相反為自上方視之，吸附道123與窄流道133分別朝向相反的方向彎曲，每一窄流道133之長度相同，前述之長度所指為自每一窄流道133的內側端面至匯流區134的中心點所形成連線之長度，且連線為沿著窄流道133的中央位置延伸所形成之假想線段，每一窄流道133之長度小於每一吸附道123之長度，各寬流道132的另一端與匯流區134相連接，但不以此為限，流道部13之形式可依使用者需求作改變。

請參閱圖3所示，底蓋20為一片體，其固設於本體10的底面且覆蓋各引流道131，使得各引流道131封閉形成一內部空間。

本發明使用時，請參閱圖3及圖8所示，可藉由連接部11連接於一機械手臂(圖式中未示)使用，再以一連接頭30設置於吸氣孔111，連接頭30與吸氣管路(圖式中未示)連接，當本發明的吸附部12移動至一晶圓40的一側面時，吸氣管路進行吸氣動作將外部氣體經由吸附道123自吸附孔124吸入，再流經窄流道133及寬流道132並從吸氣孔111進入到吸氣管路中，使得晶圓40被吸附貼靠於吸附台121上，而因為各吸附道123呈發散狀且長度相同，故可達到平均吸力之功效，吸附台121及抵頂塊125的設置可用以抵頂晶圓40避免晶圓40中央的部位因受到吸力的影響而下凹產生形變。

前述過程中，由於各對位槽122設置的位置分別對應於不同尺寸之晶圓40，因此當晶圓40定位於吸附台121上時，晶圓40的邊緣會切齊於對位槽122，除了可便於使用者快速辨別晶圓40之尺寸外，亦可用以判斷吸附晶圓40之位置是否置中而無偏離中心位置。

前述過程中，由於各窄流道133的長度小於各吸附道123的長度，因此當氣體自吸附道123經由吸附孔124流至窄流道133的過程中，可產生壓力差使氣體快速流過進而避免湍流現象的產生。

前述過程中，由於吸氣孔111為漸擴孔，因此當氣體自寬流道132進入到吸氣孔111中時，由於吸氣孔111的內徑漸縮，可產生提升流速之功效，以增進氣體的流動效率。

以上所述僅是本創作之較佳實施例而已，並非對本創作做任何形式上的限制，雖然本創作已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本創作，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本創作技術方案的範圍內，當可利用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾作為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本創作技術方案的內容，依據本創作的技術實質對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本創作技術方案的範圍內。

10:本體

11:連接部

111:吸氣孔

12:吸附部

121:吸附台

122:對位槽

123:吸附道

124:吸附孔

125:抵頂塊

Claims (3)

1. 一種晶圓吸附手臂，其包含：一本體，其具有一頂面及一底面，該頂面及該底面為上、下相對的二側面，該本體包含有一連接部、一吸附部及一流道部，該連接部位於該頂面的一端部且貫穿有一吸氣孔，該吸附部位於該頂面的另一端部，且該吸附部形成有複數吸附道、複數吸附孔及一吸附台；各該吸附道的一端相連接，各該吸附道的另一端朝向外側延伸，各該吸附道為彎曲之流道且各該吸附道之長度相同，各該吸附道相連接的一端凸設有複數抵頂塊，各抵頂塊呈環繞間隔排列，且各抵頂塊之間間隔形成一十字溝槽狀；每一該吸附孔貫穿每一該吸附道；該吸附台凸設於該本體的該頂面，各該吸附道內凹於該吸附台；該流道部位於該底面且凹設有複數引流道，各該引流道的一端與各該吸附孔相連通，各該引流道的另一端與該吸氣孔相連通，各該引流道包含有複數寬流道及複數窄流道，每一該寬流道的一端與該吸氣孔相連通，每一該窄流道的一端與每一該吸附孔相連通，每一該窄流道的另一端與各該寬流道的另一端相連通，每一該窄流道為彎曲之流道，每一該窄流道之長度相同，複數左右相對的每一該窄流道彎曲的方向與所對應的每一該吸附道彎曲的方向相反，每一該窄流道之長度小於每一該吸附道之長度，且各該窄流道及各該吸附道呈發散狀；一底蓋，其固設於該本體的該底面且覆蓋該引流道。
2. 如請求項1所述之晶圓吸附手臂，其中該吸氣孔的內徑自該頂面朝向該底面的方向漸增。
3. 如請求項1或2所述之晶圓吸附手臂，其中該吸附部進一步包含有複數對位槽，各該對位槽為弧形長槽，且各該對位槽分別內凹且間隔排列於該吸附台與該連接部之間。

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