TWI794873B - 晶片檢測裝置之料盤翻轉模組 - Google Patents

Abstract

一種晶片檢測裝置之料盤翻轉模組，包含有：一承台；一升降台；一正料盤暫置台，供一該料盤以承載面朝上的方向置放；一倒料盤暫置台，供一該料盤以承載面朝下的方向置放；一翻轉夾具，具有一翻轉驅動裝置以及二夾臂，該翻轉驅動裝置係驅動該二夾臂相對張開或相對夾緊，且該翻轉驅動裝置係驅動該二夾臂一起翻轉，於該翻轉夾具移近該升降台時，係使一該夾臂位於該升降台的一側且位於該料盤下方；以及一移載夾具，具有至少二夾爪，夾持或釋放一該料盤，並且可在該正料盤暫置台、該倒料盤暫置台以及該承台之間移動。

Description

晶片檢測裝置之料盤翻轉模組

本發明係與晶片檢測裝置有關，特別是指一種晶片檢測裝置之料盤翻轉模組。

目前已知的晶片檢測技術，大多是對晶片的表面取像，並藉由影像處理的方式來與樣品進行比對，藉此來判斷出晶片是否正常，此種技術已甚為習知。然而，有些晶片是上下兩面都需要進行檢測的，此種晶片即需要有翻面的技術來處理晶片，以使頂面檢測後的晶片被翻轉，之後即可對該晶片的背面進行檢測。

我國I718594號專利，即揭露了一種晶片檢測機台及晶片檢測方法，此案中對於翻轉晶片的技術，主要在於使用一個晶片提取機構來提取晶片盤中的多個晶片中的一個，而且還可以使用這個晶片提取機構來翻轉該晶片，再由其晶片掃描機構移動至該晶片盤的上方以及該晶片提取機構所提取的該晶片的上方，對該晶片盤內的晶片以及被該晶片提取機構所提取的晶片進行掃描。

前述的習知技術，在實際使用時有其不便之處，即，當該晶片盤上的所有晶片都需要翻轉來進行掃描時，以該技術而言，就必須以該晶片提取機構來一個個的翻轉並掃描，這實在是非常耗費時間及成本的做法，無法滿足產業要求快速及準確的需求。

本發明之主要目的即在於提出一種晶片檢測裝置之料盤翻轉模組，其可將整個料盤中的晶片一次全部翻轉，以使雙面都需要檢測的晶片能快速的進行檢測。

為了達成上述目的，本發明提出一種晶片檢測裝置之料盤翻轉模組，係安裝於一晶片檢測裝置，用以翻轉相向疊置且相同大小的二料盤，該晶片檢測裝置之料盤翻轉模組包含有：一承台，用以承接一該料盤；一升降台，受一升降驅動裝置所驅動而升降，藉以由該料盤底面頂起或降低該料盤，該升降台在降至下方位置時係與該承台相鄰且其頂面不高於該承台表面，其中，該升降台不完全涵蓋該該料盤之底面；一正料盤暫置台，具有至少一承載區，供一該料盤以承載面朝上的方向置放；一倒料盤暫置台，具有至少一承載區，供一該料盤以承載面朝下的方向置放；一翻轉夾具，具有一翻轉驅動裝置以及二夾臂，該翻轉驅動裝置係驅動該二夾臂相對張開或相對夾緊，且該翻轉驅動裝置係驅動該二夾臂一起翻轉，該翻轉夾具係藉由一移動平台之驅動而移近或移離該升降台，於該翻轉夾具移近該升降台時，係使一該夾臂位於該升降台的一側且位於該料盤下方；以及一移載夾具，具有至少二夾爪，夾持或釋放一該料盤，並且可在該正料盤暫置台、該倒料盤暫置台以及該承台之間移動。

藉由上述技術特徵，本發明可以達成將料盤所承載的複數晶片一次全部翻面的效果，藉此可使雙面都需要檢測的晶片能快速的進行檢測，改善了先前技術中需要一個個翻面檢測的耗時耗成本的問題。

10:晶片檢測裝置之料盤翻轉模組

11:承台

12:鏤空部

14:擋壁

21:升降台

22:升降驅動裝置

31:正料盤暫置台

32:承載區

41:倒料盤暫置台

42:承載區

51:翻轉夾具

52:翻轉驅動裝置

54:旋轉台

56:開閤驅動裝置

58:夾臂

581:退讓空間

59:移動平台

61:移載夾具

62:夾爪

69:三軸移動平台

81:料盤

82:晶片

90:晶片檢測裝置

圖1係本發明第一較佳實施例配合安裝於一晶片檢測裝置之立體圖。

圖2係本發明第一較佳實施例之第一操作動作圖。

圖3係本發明第一較佳實施例之第二操作動作圖。

圖4係本發明第一較佳實施例之第三操作動作圖。

圖5係本發明第一較佳實施例之第四操作動作圖。

圖6係本發明第一較佳實施例之第五操作動作圖。

圖7係本發明第一較佳實施例之第六操作動作圖。

圖8係本發明第一較佳實施例之第七操作動作圖。

圖9係本發明第一較佳實施例之第八操作動作圖。

圖10係本發明第一較佳實施例之第九操作動作圖。

為了詳細說明本發明之技術特點所在，茲舉以下之較佳實施例並配合圖式說明如後，其中：如圖1及圖2所示，本發明一較佳實施例所提出之一種晶片檢測裝置之料盤翻轉模組10，係安裝於一晶片檢測裝置90，用以翻轉相向疊置且相同大小的二料盤81，該晶片檢測裝置之料盤翻轉模組10主要由一承台11、一升降台21、一正料盤暫置台31、一倒料盤暫置台41、一翻轉夾具51以及一移載夾具61所組成，其中：該承台11，在實際實施時可設置為具有一鏤空部12，於本實施例中該鏤空部12係呈矩形。於本實施例中，該承台11是該晶片檢測裝置90本身的檢 測平台(圖中未示)的一部分，該承台11用以承接一該料盤81，或承接相向疊置的該二料盤81。此外，該承台11具有複數擋壁14，於該承台11置放一該料盤81時，該料盤81係抵於該擋壁14的邊緣。

該升降台21，受一升降驅動裝置22所驅動而升降，藉此由該料盤81底面頂起或降低該料盤81，該升降台21在降至下方位置時係位於該鏤空部12內且頂面不高於該承台11的頂面表面，藉此與該承台相鄰，其中，該升降台21之寬度係小於一該料盤81之寬度，這樣一來，該升降台21即不會完全涵蓋該料盤81的底面。於本實施例中，該升降台21呈矩形，而在一該料盤81置於該承台11上時，該料盤81係有一部分位於該升降台21上方，且該料盤81寬於該升降台21的部分係受到該承台11所承載。前述之該鏤空部12及該升降台21呈矩形僅為舉例而已，並非用以限制其形狀，其他種形狀而為製造上之可用選擇者，亦可使用。

該正料盤暫置台31，具有三承載區32，供一該料盤81以承載面朝上的方向置放。而置放在該正料盤暫置台31的一該料盤81，通常於其承載面都具有複數凹槽(圖中未示)來承載並定位複數晶片82。於本實施例中，該三承載區32都呈矩形，而且在深度而言愈小的該承載區32即愈深，且該三承載區32的中心點重疊。該三承載區32呈矩形僅為舉例說明而已，並非用來限制其形狀必須是矩形，也可以是其他的形狀。此外，該正料盤暫置台31可以位於該晶片檢測裝置90上的任何位置，依實際實施之方便性而定。該料盤81上的凹槽係極為習知之技術，且在容置晶片82後其邊界在圖中不易標示，因此容不予以圖號標示之。

該倒料盤暫置台41，具有三承載區42，供一該料盤81以承載面朝下的方向置放。而置放在該倒料盤暫置台41的該料盤81，是與置放於該正料盤暫置台31的該料盤81具有相同數量及位置的凹槽(圖中未示)，在該二料盤81相向疊 置時，該二料盤81的凹槽即會上下相對而可以使各該晶片82均有部分分別容置於各該料盤81的各該凹槽內。於本實施例中，該三承載區42都呈矩形，而且在深度而言愈小的該承載區42即愈深，且該三承載區42的中心點重疊。此外，該倒料盤暫置台41可以位於該晶片檢測裝置90上的任何位置，依實際實施之方便性而定。

該翻轉夾具51，具有一翻轉驅動裝置52、一旋轉台54、一開閤驅動裝置56以及二夾臂58，該旋轉台54連接於該翻轉驅動裝置52而受其驅動來旋轉，且該旋轉台54上還設有一開閤驅動裝置56，該二夾臂58係連接於該開閤驅動裝置56而受其驅動來相對張開或相對夾緊，且該翻轉驅動裝置52係驅動該旋轉台54帶動該二夾臂58一起翻轉，各該夾臂58係具有由末端向根部延伸的一退讓空間581，該退讓空間581的寬度係大於該升降台21之寬度，而可供該升降台21進入或退出，這樣一來，一該夾臂58就能在該升降台21進入該退讓空間581之後，即位於該升降台21之兩側，且該翻轉夾具51係藉由一移動平台59之驅動而移近或移離該升降台21，於該翻轉夾具51移近該升降台21時，係使一該夾臂58位於該升降台21的兩側且位於該料盤81下方，且不干涉該升降台21。該移動平台59係以習知之單軸移動平台為例。

該移載夾具61，具有二夾爪62，可受控制而夾持或釋放一該料盤81，該移載夾具61係藉由一習知的三軸移動平台69之驅動而移動，進而可將被夾持的該料盤81在該正料盤暫置台31、該倒料盤暫置台41以及該承台11之間移動。於本實施例中該二夾爪62在數量上也可以更多，並不以二個為限。

其中，該升降台21升高至頂高位置時，於該升降台21上有二該料盤81相向疊置的情況下，該二夾臂58係以分別位於該二料盤81上方及下方的空 間關係夾持該料盤81，且該升降台21係位於處於下方的一該夾臂58的該退讓空間581內。

以上說明了本實施例的架構，接下來說明本實施例的操作狀態。

如圖2所示，在進行檢測前，係先將載滿複數晶片82的一料盤81置於該正料盤暫置台31的一該承載區32內，並將一空的料盤81面朝下倒置於該倒料盤暫置台41的一該承載區42內，並且使該升降台21降至下方位置。

如圖3至圖5所示，要進行檢測時，以該移載夾具61將該正料盤暫置台31上載滿晶片82的該料盤81移載至該承台11，必要時可以使該料盤81抵於該擋壁14，可以藉由該擋壁14來提供定位或校準位置的效果。之後，該晶片檢測裝置90即可以提取該料盤81來對其所承載的複數晶片82進行檢測，由圖5中可以看到該擋壁14因下降而未見於圖中，而該料盤81已被移入該晶片檢測裝置90中，在檢測完成後即將該料盤81送回至該承台11的位置，而呈圖4所顯示的該料盤81的位置。此時，該料盤81上的複數晶片82僅有頂面做過檢測，底面則尚未檢測，因此，有翻面的需求。

如圖6及圖7所示，要進行翻面前，先藉由該移載夾具61夾取該倒料盤暫置台41上的面朝下的該料盤81，並移動至該承台11上並蓋置於載滿複數晶片82(示於圖2)的該料盤81上，此時，該複數晶片82即也嵌入至該面朝下的該料盤81的複數凹槽中，且該面朝下的料盤81與承載該複數晶片82的該料盤81也相向疊置。

如圖8所示，進行翻面時，先以該升降驅動裝置22驅動該升降台21升至頂高位置。再如圖9所示，再驅動該翻轉夾具51移動使其二夾臂58分別位於相向疊置的該二料盤81的上方及下方，位於下方的該夾臂58的該退讓空間581即 容置該升降台21，藉此位於下方的該夾臂58即不會干涉該升降台21，接著以該開閤驅動裝置56驅動該二夾臂58相夾而將該二料盤81夾持住。再如圖10所示，接著使該升降台21下降，並以該翻轉驅動裝置52驅動該旋轉台54旋轉180度，該二料盤81即完成翻面，而該複數晶片82也即隨之翻面。如圖9所示，再使該升降台21上升至頂高位置而承接該二料盤81，即可驅動該翻轉夾具51的該二夾臂58打開並移離。之後再使該升降台21下降，並以該移載夾具61將該二料盤81中的上方的料盤81移回該倒料盤暫置台41，而呈現圖6的狀態。此時該複數晶片82即完成翻面，而呈原來的底面朝上的狀態，而可供進行檢測。而後續之檢測即如同前述的方式由該晶片檢測裝置90來進行檢測。

由上述說明可知，本發明之晶片檢測裝置之料盤翻轉模組10，可以達成將料盤81所承載的複數晶片82一次全部翻面的效果，藉此可使雙面都需要檢測的晶片82能快速的進行檢測，改善了先前技術中需要一個個翻面檢測的耗時耗成本的問題。此外，本發明藉由該升降台21與該翻轉夾具51之配合，可以在翻面動作上以極為簡單及少量的步驟來一次性的完成一個料盤上的所有晶片的翻面動作。

10:晶片檢測裝置之料盤翻轉模組 11:承台 12:鏤空部 14:擋壁 21:升降台 22:升降驅動裝置 31:正料盤暫置台 32:承載區 41:倒料盤暫置台 42:承載區 51:翻轉夾具 52:翻轉驅動裝置 54:旋轉台 56:開閤驅動裝置 58:夾臂 581:退讓空間 59:移動平台 61:移載夾具 62:夾爪 69:三軸移動平台 90:晶片檢測裝置

Claims (8)

1. 一種晶片檢測裝置之料盤翻轉模組，係安裝於一晶片檢測裝置，用以翻轉相向疊置且相同大小的二料盤，該晶片檢測裝置之料盤翻轉模組包含有： 一承台，用以承接一該料盤； 一升降台，受一升降驅動裝置所驅動而升降，藉以由該料盤底面頂起或降低該料盤，該升降台在降至下方位置時係與該承台相鄰且其頂面不高於該承台表面，其中，該升降台不完全涵蓋該該料盤之底面； 一正料盤暫置台，具有至少一承載區，供一該料盤以承載面朝上的方向置放； 一倒料盤暫置台，具有至少一承載區，供一該料盤以承載面朝下的方向置放； 一翻轉夾具，具有一翻轉驅動裝置以及二夾臂，該翻轉驅動裝置係驅動該二夾臂相對張開或相對夾緊，且該翻轉驅動裝置係驅動該二夾臂一起翻轉，該翻轉夾具係藉由一移動平台之驅動而移近或移離該升降台，於該翻轉夾具移近該升降台時，係使一該夾臂位於該升降台的一側且位於該料盤下方；以及 一移載夾具，具有至少二夾爪，夾持或釋放一該料盤，並且可在該正料盤暫置台、該倒料盤暫置台以及該承台之間移動。
2. 依據請求項1所述之晶片檢測裝置之料盤翻轉模組，其中：該升降台呈矩形，於一該料盤置於該承台上時，該料盤係有一部分位於該升降台上方。
3. 依據請求項1所述之晶片檢測裝置之料盤翻轉模組，其中：該正料盤暫置台與該倒料盤暫置台係具有複數承載區，各該承載區係呈矩形，在深度而言愈小的該承載區即愈深，且各該承載區之中心點重疊。
4. 依據請求項1所述之晶片檢測裝置之料盤翻轉模組，其中：該翻轉夾具係具有一旋轉台，受該翻轉驅動裝置之驅動而旋轉；該二夾臂係設於該旋轉台，與該旋轉台同動而翻轉。
5. 依據請求項4所述之晶片檢測裝置之料盤翻轉模組，其中：該旋轉台上係設有一開閤驅動裝置，該二夾臂係受該開閤驅動裝置之驅動而相對張開或相對夾緊。
6. 依據請求項1所述之晶片檢測裝置之料盤翻轉模組，其中：該移載夾具係藉由一三軸移動平台之驅動而移動。
7. 依據請求項1所述之晶片檢測裝置之料盤翻轉模組，其中：該升降台升高至頂高位置時，於該升降台上有二該料盤相向疊置的情況下，該二夾臂係以分別位於該二料盤上方及下方的空間關係夾持該二料盤，且處於下方的一該夾臂不干涉該該升降台。
8. 依據請求項1所述之晶片檢測裝置之料盤翻轉模組，其中：該承台具有複數擋壁，於該承台置放一該料盤時，該料盤係抵於該擋壁之邊緣。

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