TWI774138B - 用於低壓及高壓應用的接觸密封件配置 - Google Patents

用於低壓及高壓應用的接觸密封件配置 Download PDF

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阿爾諾 米蘭
麥可 A 賴佩斯蒂
布魯斯 A 哈維
布蘭登 Ｈ 班納
藍道 Ｊ 馬奇那堤
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美商西屋電器公司
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Abstract

本發明係關於一種用來安裝至泵之泵軸且隨其旋轉的轉輪總成，其包括：待固定至泵軸的支撐元件；設置於支撐元件上且藉由耦合至支撐元件之支撐護罩安裝至支撐元件的密封件面環；及設置在界定於支撐元件之頂部部分中之向上且徑向向外面對缺口中的外部O型環。該外部O型環於支撐元件之頂部與密封件面環的底部之間形成靜態密封接頭。

Description

用於低壓及高壓應用的接觸密封件配置
本發明所揭示的概念係關於用於泵的密封件配置，且更特定言之，係關於提供使用於與核反應器相關之泵的密封件配置。
商業加壓水反應器通常在用於低及中間壓力範圍之反應器冷卻劑泵的馬達與液壓區段之間使用面摩擦機械面密封件。該等密封件係經設計以允許自主系統之受控及穩定體積的洩漏同時經歷最小的磨損。通過密封件的洩漏係取決於面幾何形狀及機械設計以及密封流體的熱力學狀態。核反應器設備操作人員企圖維持每分鐘0.05加侖之通過反應器冷卻劑泵低壓密封件(亦稱為2號密封件)的最大體積洩漏速率。此洩漏量對於提供密封件面的適當潤滑而言足夠大；然而，其足夠小而於設備的流量平衡中可忽略。
通過密封件的體積洩漏速率及密封件界面組件的磨損主要係經由密封件之組件的製得尺寸、於相鄰組件之界面處的接觸摩擦力、及由密封流體之操作溫度及壓力產生之機械及熱彈性變形來確定。由於設備操作人員希望維持通過反應器冷卻劑泵密封件之穩定的洩漏速率，因此需將密封件的設計最佳化，使得製造公差、接觸摩擦力、及機械和熱彈性變形對密封件洩漏速率產生最小的可能影響，同時維持低磨損速率。
本發明揭示概念的具體例為改良習知密封件配置。作為本揭示概念的一態樣，提供一種用來安裝至泵之泵軸且隨其旋轉的轉輪總成。該轉輪總成包括：經結構化以固定至泵軸的支撐元件；設置於支撐元件上且藉由耦合至支撐元件之支撐護罩安裝至支撐元件的密封件面環；及設置在界定於支撐元件之頂部部分中之向上且徑向向外面對缺口中的外部O型環，外部O型環於支撐元件之頂部與密封件面環的底部之間形成靜態密封接頭。
密封件面環可由陶瓷材料形成。密封件面環可包括形成於其徑向向外部分中的肩部，支撐護罩可包括形成於其徑向向內部分中的突出部，及肩部及突出部可徑向重疊。密封件面環可經由若干個傳動銷相對於支撐元件固定，使得在泵軸、支撐元件及密封件面環之間沒有相對旋轉。
轉輪總成可進一步包括用來將支撐元件固定至泵軸的若干個抗旋轉銷。
作為本發明之另一態樣，提供一種供泵使用的密封配置，該泵具有其之一端為終止於密封件外殼的泵外殼及泵軸。該密封配置包括：經結構化以安裝至泵軸用來隨其旋轉的下方環形轉輪總成，該轉輪總成包括：經結構化以固定至泵軸的支撐元件，設置於支撐元件上且藉由耦合至支撐元件之支撐護罩安裝至支撐元件的密封件面環，及設置在界定於支撐元件之頂部部分中之向上且徑向向外面對缺口中的外部O型環，外部O型環於支撐元件之頂部與密封件面環的底部之間形成靜態密封接頭。密封配置進一步包括經結構化以固定安裝於密封件外殼內的上方環形密封件總成，該密封件總成包括：經設置用來利用密封件面環密封之上方環形環密封面元件，該密封面元件安裝於經結構化以經由若干個抗旋轉銷耦合至密封件外殼的上方環形支撐元件，而防止總成相對於密封件外殼之旋轉移動但容許密封件總成沿泵軸朝向及遠離轉輪總成的平移移動。
密封件面環可由陶瓷材料形成。密封件面環可包括形成於其徑向向外部分中的肩部，支撐護罩可包括形成於其徑向向內部分中的突出部，及肩部及突出部可徑向重疊。密封件面環可經由若干個傳動銷相對於支撐元件固定，使得在泵軸、支撐元件及密封件面環之間沒有相對旋轉。
作為本發明之又再一態樣，提供一種泵。該泵包括：泵外殼，其之一端終止於密封件外殼；泵軸，其於泵外殼內中心延伸且經密封及可旋轉地安裝於密封件外殼內；及密封配置，其環繞泵軸提供且位於泵外殼內。密封配置包括安裝至泵軸用於隨其旋轉的下方環形轉輪總成。該轉輪總成包括：固定至泵軸的支撐元件，設置於支撐元件上且藉由耦合至支撐元件之支撐護罩安裝至支撐元件的密封件面環，及設置在界定於支撐元件之頂部部分中之向上且徑向向外面對缺口中的外部O型環。該外部O型環於支撐元件之頂部與密封件面環的底部之間形成靜態密封接頭。該密封配置進一步包括固定安裝於密封件外殼內的上方環形密封件總成。該密封件總成包括經設置用來利用密封件面環密封之上方環形環密封面元件，該密封面元件安裝於經由若干個抗旋轉銷耦合至密封件外殼的上方環形支撐元件，而防止總成相對於密封件外殼之旋轉移動但容許密封件總成沿泵軸朝向及遠離轉輪總成的平移移動。
密封件面環可由陶瓷材料形成。密封件面環可包括形成於其徑向向外部分中的肩部，支撐護罩可包括形成於其徑向向內部分中的突出部，及肩部及突出部可徑向重疊。密封件面環可經由若干個傳動銷相對於支撐元件固定，使得在泵軸、支撐元件及密封件面環之間沒有相對旋轉。
泵軸之第一端可連接至葉輪及相對的第二端可連接至電馬達，及葉輪可設置於泵外殼之內部中。
支撐元件可經由若干個抗旋轉銷固定至泵軸。
泵可進一步包括經設置以使密封件總成朝轉輪總成偏向，及因此使密封面元件與密封件面環接觸的偏向元件。
在參照附圖考慮以下說明及隨附申請專利範圍時當可更加明白本發明之此等及其他目的、特徵、及特性，以及操作方法及結構之相關元件之功能及部件之組合及製造經濟，其皆形成本說明書之部分，其中類似的元件符號指示各種圖中之對應部件。然而，應明確瞭解圖式僅係用於說明及描述之目的，而不意欲作為本發明之限制的定義。
本發明現將參照展示本發明之實例的附圖更完整地說明於下文。然而，本發明可以許多不同形式具體化且不應將其詮釋為受限於文中陳述的實例。反而，此等實例係經提供使得本揭示內容將徹底且完整，且對熟悉技藝人士將完整傳達本發明之範疇。全文中類似的元件符號係指類似的元件。
如文中所使用，除非前後文清楚地另作指示，否則單數形式的「一」、「一個」、及「該」包括複數的指示物。如文中所使用，兩個或更多個部件或組件「耦合」的陳述將意指該等部件係直接或間接地(即通過一或多個中間部件或組件)一起結合或操作，只要發生連結即可。如文中所使用，「直接耦合」意指兩個元件係彼此直接接觸。如文中所使用，「固定地耦合」或「固定」意指兩個組件耦合以作為一體移動，同時相對於彼此維持恆定的定向。
文中使用的方向片語，諸如，比方說，且不限於，頂部、底部、左、右、上、下、前、後、及其衍生者，係關於圖式中顯示之元件的定向，且除非其中明確引述，否則不對申請專利範圍造成限制。如文中所使用，術語「數目」將意指一或大於一的整數(即複數個)。
現參照圖式，且特別是圖1，其顯示習知之核反應器冷卻劑系統之複數個冷卻迴路10中之一者的示意圖式。冷卻迴路10包括蒸汽產生器12及串聯連接於具有核反應器核心16之封閉冷卻劑流動迴路中的反應器冷卻劑泵14。蒸汽產生器12包括與產生器之入口及出口充氣室20、22相通的主要管18。蒸汽產生器12之入口充氣室20與反應器核心16之出口流通連接用於沿封閉流動迴路之流動路徑24自其接受熱的冷卻劑。蒸汽產生器12之出口充氣室22沿封閉流動迴路之流動路徑26與反應器冷卻劑泵14之入口抽吸側流通連接。反應器冷卻劑泵14之出口壓力側與反應器核心16之入口流通連接用於沿封閉流動迴路之流動路徑28向其饋送冷的冷卻劑。
簡言之，冷卻劑泵14環繞封閉流動迴路在高壓下泵送冷卻劑。特定言之，自反應器核心16發出之熱的冷卻劑傳送至蒸汽產生器12之入口充氣室20及至與其相通之主要管18。當於主要管18中時，熱的冷卻劑經由習知構件(未圖示)以與供應至蒸汽產生器12之冷饋送水的熱交換關係流動。饋送水經加熱及其部分變為蒸氣以用於驅動渦輪發電機(未圖示)。其溫度已經熱交換降低之冷卻劑隨後經由冷卻劑泵14再循環至反應器核心16。
反應器冷卻劑泵14必須能夠環繞封閉流動迴路在高溫及高壓下移動大體積的反應器冷卻劑。雖然於熱交換之後自蒸汽產生器12流動至泵14之冷卻劑的溫度已經實質冷卻至低於在熱交換之前自反應器核心16流動至蒸汽產生器12之冷卻劑的溫度，但其溫度仍相當高，通常約為550℉。經由泵產生之冷卻劑壓力通常為約2500 psi。
現參照圖2及3，反應器冷卻劑泵14一般包括泵外殼30，其之一端為終止於密封件外殼32。泵14亦包括於泵外殼30內中心延伸且經密封及可旋轉地安裝於密封件外殼32內的泵軸34。雖然未顯示，但泵軸34的底部部分係連接至葉輪，同時其頂部部分係連接至高馬力的感應型電馬達。當馬達旋轉軸34時，位於泵外殼30之內部36中的葉輪使流動通過泵外殼30的冷卻劑在自環境至大約2500 psi覆蓋氣體的壓力下循環。由於密封件外殼32的外部部分經環境氛圍圍繞，因而此經加壓的冷卻劑在軸34上施加方向向上的靜液負荷。
為使泵軸34可於密封件外殼32內自由地旋轉，同時維持於泵外殼內部36與密封件外殼32之外部之間的壓力邊界，環繞泵軸34且於泵外殼30內提供密封配置38。如於圖4之詳圖中更清楚地看見，密封配置38一般包括安裝至泵軸34用來隨其旋轉的下方環形轉輪總成40及固定安裝於密封件外殼32內的上方環形密封件總成42。轉輪總成40包括密封件面環44，其具有形成於其徑向向外部分中的肩部45。密封件面環44係藉由支撐護罩46(其具有形成於其徑向向內部分中的突出部47(其與肩部45徑向重疊)安裝至下方環形轉輪基部或支撐元件48，其繼而再藉由抗旋轉銷50鎖至泵軸34(圖3)。密封件面環44同樣係經由一或多個傳動銷(未圖示)相對於支撐元件48固定，使得在泵軸34、支撐元件48及密封件面環44之間沒有相對旋轉。在本發明之一具體例中，密封件面環44係由陶瓷材料(例如，氮化矽、碳化矽或氧化鋁，其可經熱壓或燒結，且可包括添加劑以改良陶瓷的物理性質)形成，其經設計以提供與和其結合之配合密封面元件的低機械摩擦(論述於下)，同時提供足夠的結構穩定性以密封總成，然而，應瞭解密封件面環44可由任何適當材料形成，而不改變本發明之範疇。
轉輪總成40進一步包括設置在界定於支撐元件48之內表面中之徑向向內面對溝槽53中的內部O型環52，使得內部O型環52與支撐元件48及泵軸34兩者接合，從而於密封配置38的高壓與低壓側之間形成靜態密封接頭。轉輪總成40亦包括設置在界定於支撐元件48之頂部部分中之向上且徑向向外面對缺口55中的外部O型環54。外部O型環54於支撐元件48之頂部與密封件面環44之底部之間於密封配置38的高壓與低壓側之間形成靜態密封接頭。外部O型環54的徑向位置係經選擇使得由在密封件面環44之膜表面上之靜液壓力所產生之力的差異較由在密封件面環44之底表面上之靜液壓力所產生的力大。淨力導致密封件面環44牢固地固持於支撐元件48上。另外，於密封件面環44與支撐元件48之間之外部O型環54的軸向壓縮係經設計以補償大部分的靜液預負荷來使由裝設在軸肩部上所引起之任何波狀起伏解耦合。
支撐護罩46係藉由機械扣件49固定至支撐元件48。支撐護罩46作用於：提供徑向集中至密封件面環44，將密封件面環44固持於支撐元件48上供組裝及起動用，提供外部O型環54的起始壓縮，及提供熱障壁以保護密封件面環44之外部表面免於可能改變密封件幾何形狀及洩漏速率之製程流體的快速溫度變化及隨之而來的熱彈性變形。此外，支撐護罩46係經設計來防止外來材料遷移至密封件面環44之背面及干擾密封件面環44與支撐元件48之間的接觸表面。支撐護罩46係經定尺寸使得，於正常操作期間，於密封件面環44之肩部45與支撐護罩46之突出部47之間存在小的(例如，大約0.004” – 0.005”)軸向間隙。
繼續參照圖3及4，密封件總成42包括安裝於上方環形環基部或支撐元件60中之上方環形環密封面元件56，該支撐元件60繼而再藉由若干個抗旋轉銷62鎖至上方外殼61及因此鎖至密封件外殼32(其栓至上方外殼61)，以防止密封件總成42相對於密封件外殼32之旋轉移動，但容許密封件總成42沿泵軸34朝向及遠離轉輪總成40的平移移動。環繞銷62提供彈簧63，以使密封件總成42朝轉輪總成40偏向，及因此使密封面元件56與密封件面環44接觸。彈簧63提供起始負載以使密封面元件56及密封件面環44之接觸面在加壓之前接觸。應明瞭可使用任何替代的或另外的適當偏向元件來使密封件總成42朝轉輪總成40偏向，而不改變本發明之範疇。
在密封件總成42之平衡直徑處的靜液負載係藉由安置於環繞上方支撐元件60之上方部分之內徑之徑向向內面對環形溝槽72內的動態通道密封件69及O型環70來確保。通道密封件69係經設計來沿圓柱形穿接套筒74密封及滑動的熱塑性帽，該穿接套筒74形成冷卻劑泵14之密封件外殼32的部分，以使密封件總成42調整泵軸運動及壓力變化。O型環70可提供對通道密封件69之預負荷(徑向地)且亦可在通道密封件69失效的情況中用作備份密封件。由通道密封件69提供之密封件不僅防止洩漏，而且亦用來確定座合壓力(seating force)的量值。
密封件面環44之形狀係經選擇以在混亂的條件導致使用密封配置38作為高壓密封件的情況中提供由壓力增加所產生的期望淨力矩。此形狀容許在大的壓力範圍內操作而具有受控的體積洩漏及磨損。密封件面環44具有頂部平坦表面，其具有有限的表面光度範圍以於在低壓下的操作期間提供適當的磨損及潤滑。然而，本發明之替代具體例可經由利用階梯式表面、徑向錐度表面或不均勻的表面紋理替代平坦膜表面或與其組合來實現。設計者可調整密封件面環44之形狀及表面光度以達成適用於特定應用的密封件洩漏速率、壓力-流量關係、或磨損速率。
密封配置38以支撐及設計密封件面來提供對溫度及壓力之環境變化的低摩擦及可調適行為的方式離開。此容許新配置能夠在低壓/混合潤滑條件及高壓/膜支配條件兩者中操作。此外，改良的轉輪總成40經由取代密封件材料及組件而呈現脫離習知配置。習知配置在支撐基部與軸之間使用若干個O型環及通氣孔來在壓力變化的情況中提供總成的旋轉。另外，習知配置使用直接施加於不鏽鋼支撐基部袋上的硬面塗層。塗層係約束於支撐基部袋的界線內，其歸因於兩材料的差別熱膨脹而產生應力。此有界配置由於其在密封件面中產生導致非軸對稱波型態的應力而成問題。除了塗層之可能使得密封件無法操作的可能失效外，此密封件面幾何形狀的改變隨後產生不穩定的密封件洩漏及對匹配碳石墨環的過度磨損。
相對地，文中描述的改良設計提供經工程化的密封件面設計，其容許藉由壓力之受控的偏轉及旋轉以於低壓/混合潤滑條件及於高壓/膜支配條件中提供受控的洩漏密封件。此係經由精確地控制於密封件面上之接觸及力，特定言之於密封件面環44與支撐元件48之間的接觸及力以控制於自低壓過渡至高壓及自高壓過渡至低壓期間於面間的反應點來達成，因此提供密封件面的受控旋轉及因此提供導致穩定效能之期望的壓力分佈。經改良的設計免除以塗層作為密封件界面，且使用陶瓷密封件面環44作為其替代。陶瓷密封件面環44於支撐元件48上自由地徑向移動，從而於溫度自周圍流體或自於密封件表面處產生之熱的變化期間消除任何額外應力或偏轉。此受控的變形確保更佳且更穩定的操作密封件。密封件面環44藉由經設計以防止密封件面環44與外部O型環54分離的支撐護罩46保持於軸向位置，從而於所有條件中提供正的靜液座面(hydrostatic seating)。密封件面未結合至密封件支撐基部，自包含於完整泵密封件總成中之軸肩部或套筒之波形起伏偏轉接著並未轉移至密封件面。
雖然已詳細說明本發明之特定具體例，但熟悉技藝人士當明瞭可依據揭示內容之整體教示來發展彼等細節的各種修改及替代。因此，所揭示之特定配置僅意欲為說明性且不限制本發明之範疇，而本發明之範疇係由隨附申請專利範圍之整個廣度及其任何及所有等效物給出。
在申請專利範圍中，置於括號間的任何元件符號不應解釋為限制申請專利範圍。詞語「包含」或「包括」不排除存在除於請求項中所列出之彼等外的元件或步驟。於列舉若干構件的裝置請求項中，若干個此等構件可藉由硬體之一個及相同的項目具體化。在一元件之前的詞「一」或「一個」不排除存在複數個該等元件。於列舉若干構件的任何裝置請求項中，若干個此等構件可藉由硬體之一個及相同的項目具體化。某些元件於相互不同之附屬請求項中引述的純然事實並不指示此等元件無法組合使用。
10:冷卻迴路 12:蒸汽產生器 14:反應器冷卻劑泵 16:核反應器核心 18:主要管 20:入口充氣室 22:出口充氣室 24:流動路徑 26:流動路徑 28:流動路徑 30:泵外殼 32:密封件外殼 34:泵軸 36:泵外殼30之內部 38:密封配置 40:轉輪總成 42:密封件總成 44:密封件面環 45:肩部 46:支撐護罩 47:突出部 48:支撐元件 49:機械扣件 50:抗旋轉銷 52:O型環 53:溝槽 54:O型環 55:缺口 56:密封面元件 60:支撐元件 61:上方外殼 62:抗旋轉銷 63:彈簧 69:動態通道密封件 70:O型環 72:溝槽 74:穿接套筒
當結合附圖閱讀時，可自以下較佳具體例之說明獲得本發明之完整瞭解，其中：
圖1係習知之核反應器冷卻劑系統之一個冷卻迴路的示意呈現，該系統包括蒸汽產生器及串聯連接於具有反應器核心之封閉冷卻劑流動迴路中的反應器冷卻劑泵；
圖2係根據本發明之一實例具體例之冷卻劑泵之軸密封件配置的軸向圖；
圖3係沿圖2之線3-3之圖2之配置的剖面圖；及
圖4係指示於圖3中之圖3之部分的詳圖。
32:密封件外殼
34:泵軸
38:密封配置
40:轉輪總成
44:密封件面環
45:肩部
46:支撐護罩
47:突出部
48:支撐元件
49:機械扣件
52:O型環
53:溝槽
54:O型環
55:缺口
56:密封面元件
60:支撐元件
61:上方外殼
62:抗旋轉銷
63:彈簧
69:動態通道密封件
70:O型環
72:溝槽
74:穿接套筒

Claims (15)

  1. 一種用來安裝至泵之泵軸且隨其旋轉的轉輪總成，該轉輪總成包括：經結構化以固定至該泵軸的支撐元件；設置於該支撐元件上且藉由耦合至該支撐元件之支撐護罩安裝至該支撐元件的密封件面環；及設置在界定於該支撐元件之頂部部分中之向上且徑向向外面對缺口中的外部O型環，該外部O型環於該支撐元件之頂部與該密封件面環的底部之間形成靜態密封接頭，其中該密封件面環經組態以在該泵之使用期間與一上方環形密封件總成的一上方環形環密封面元件接觸。
  2. 如請求項1之轉輪總成，其中該密封件面環係由陶瓷材料形成。
  3. 如請求項1之轉輪總成，其中該密封件面環包括形成於其徑向向外部分中的肩部，其中該支撐護罩包括形成於其徑向向內部分中的突出部，及其中該肩部及該突出部徑向重疊。
  4. 如請求項1之轉輪總成，其中該密封件面環係經由若干個傳動銷相對於該支撐元件固定，使得在該泵軸、該支撐元件、及該密封件面環之間沒有相對旋轉。
  5. 如請求項1之轉輪總成，其進一步包括用來將該支撐元件固定至該泵軸的若干個抗旋轉銷。
  6. 一種供泵使用的密封配置，該泵具有一端為終止於密封件外殼的泵外殼及泵軸，該密封配置包括： 經結構化以安裝至該泵軸用來隨其旋轉的下方環形轉輪總成，該下方環形轉輪總成包括：經結構化以固定至該泵軸的支撐元件；設置於該支撐元件上且藉由耦合至該支撐元件之支撐護罩安裝至該支撐元件的密封件面環；及設置在界定於該支撐元件之頂部部分中之向上且徑向向外面對缺口中的外部O型環，該外部O型環於該支撐元件之頂部與該密封件面環的底部之間形成靜態密封接頭；經結構化以固定安裝於該密封件外殼內的上方環形密封件總成，該上方環形密封件總成包括：經設置用來與該密封件面環密封之上方環形環密封面元件，該上方環形環密封面元件安裝於經結構化以經由若干個抗旋轉銷耦合至該密封件外殼的上方環形支撐元件內，而防止該上方環形密封件總成相對於該密封件外殼之旋轉移動但容許該上方環形密封件總成沿該泵軸朝向及遠離該下方環形轉輪總成的平移移動；及經設置以使該上方環形密封件總成朝該下方環形轉輪總成偏向，因而使該上方環形環密封面元件與該密封件面環接觸的偏向元件。
  7. 如請求項6之密封配置，其中該密封件面環係由陶瓷材料形成。
  8. 如請求項6之密封配置，其中該密封件面環包括形成於其徑向向外部分中的肩部，其中該支撐護罩包括形成於其徑向向內部分中的突出部，及其中該肩部及該突出部徑向重疊。
  9. 如請求項6之密封配置，其中該密封件面環係經由若干個 傳動銷相對於該支撐元件固定，使得在該泵軸、該支撐元件、及該密封件面環之間沒有相對旋轉。
  10. 一種泵，其包括：泵外殼，其之一端為終止於密封件外殼；泵軸，其於該泵外殼內中心延伸且經密封及可旋轉地安裝於該密封件外殼內；及密封配置，其環繞該泵軸提供且位於該泵外殼內，該密封配置包括：安裝至該泵軸用於隨其旋轉的下方環形轉輪總成，該下方環形轉輪總成包括：固定至該泵軸的支撐元件；設置於該支撐元件上且藉由耦合至該支撐元件之支撐護罩安裝至該支撐元件的密封件面環；及設置在界定於該支撐元件之頂部部分中之向上且徑向向外面對缺口中的外部O型環，該外部O型環於該支撐元件之頂部與該密封件面環的底部之間形成靜態密封接頭；固定安裝於該密封件外殼內的上方環形密封件總成，該上方環形密封件總成包括經設置用來與該密封件面環密封之上方環形環密封面元件，該上方環形環密封面元件安裝於經由若干個抗旋轉銷耦合至該密封件外殼的上方環形支撐元件內，而防止該上方環形密封件總成相對於該密封件外殼之旋轉移動但容許該上方環形密封件總成沿該泵軸朝向及遠離該下方環形轉輪總成的平移移動；及經設置以使該上方環形密封件總成朝該下方環形轉輪總成偏向，因而使該上方環形環密封面元件與該密封件面環接觸的偏向元件。
  11. 如請求項10之泵，其中該密封件面環係由陶瓷材料形成。
  12. 如請求項10之泵，其中該密封件面環包括形成於其徑向向外部分中的肩部，其中該支撐護罩包括形成於其徑向向內部分中的突出部，及其中該肩部及該突出部徑向重疊。
  13. 如請求項10之泵，其中該密封件面環係經由若干個傳動銷相對於該支撐元件固定，使得在該泵軸、該支撐元件、及該密封件面環之間沒有相對旋轉。
  14. 如請求項10之泵，其中該泵軸之第一端係連接至葉輪及相對的第二端係連接至電馬達，及其中該葉輪係設置於該泵外殼之內部中。
  15. 如請求項10之泵，其中該支撐元件係經由第二若干個抗旋轉銷固定至該泵軸。
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