TWI771179B - 用於光感測及顯示驅動之控制電路及控制方法 - Google Patents

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Abstract

係提供一種用於光感測及顯示驅動之控制電路及控制方法。控制方法包括以下步驟。設置第一二極體、第二二極體及發光二極體。將第二二極體之第一端連接於第一二極體之第一端。將發光二極體之第一端連接於接地端，且將發光二極體之第二端連接於第二二極體之第二端。施加第一電壓於第一二極體之第二端。經由第一電阻施加第二電壓於第一二極體之第一端。經由第二電阻施加第三電壓於第二二極體之第二端。調整第一電壓、第二電壓及第三電壓之電壓值，致使第一二極體選擇性的操作於逆向偏壓狀態，或致使發光二極體選擇性的操作於順向偏壓狀態。

Description

用於光感測及顯示驅動之控制電路及控制方法
本揭示係有關於一種控制電路與控制方法，且特別有關於一種可用於同時執行光學感測功能及像素單元顯示/驅動功能之控制電路與控制方法。
隨著光學及半導體技術之演進，各種型態的光學感測技術已廣泛使用於電子裝置中；例如手機或筆記型電腦配置光學感測元件以應用於指紋辨識。另一方面，因應於不同尺寸之平面顯示器之快速發展，對應而生的顯示器像素單元之顯示技術/驅動技術也大量使用於電子裝置中。
在電子組件中，可使用感光二極體(photo diode)以執行光學感測功能；另一方面，可使用發光二極體(light emitting diode)以執行像素單元之顯示/驅動功能。而隨著使用者之需求日增，電子組件需兼具光學感測與像素單元顯示/驅動之功能，並需具備在同一時間內同時執行上述兩者功能的處理能力。然而，對於高度整合性且體積微小的電子組件而言，為了滿足同時能執行 光學感測功能與像素單元之顯示/驅動功能的設計規格，可能導致電子組件的電路架構複雜化而提高成本。
針對於上述之技術問題，本技術領域的相關產業之技術人員係致力於如何以簡單的電路架構與最少的電路元件以同時執行光學感測功能及像素單元之顯示/驅動功能。
本揭示係有關於一種控制電路與控制方法，可用於同時執行光學感測功能與顯示器像素單元之顯示/驅動功能，並具備靈活調整顯示/驅動參數(例如調整像素單元亮度)以及提升光學感測靈敏度之能力。
根據本揭示之一方面，提出一種控制電路。控制電路包括第一二極體、第二二極體及發光二極體。第一二極體係為感光二極體，第一二極體之第一端經由第一電阻接收第二電壓，第一二極體之第二端接收第一電壓。第二二極體之第一端電性連接於第一二極體之第一端，第二二極體之第二端經由第二電阻接收第三電壓。發光二極體之第一端電性連接於接地端，且發光二極體之第二端電性連接於第二二極體之第二端。因應於第一電壓、第二電壓及第三電壓之電壓值，第一二極體選擇性的操作於逆向偏壓狀態或發光二極體選擇性的操作於順向偏壓狀態，若第一二極體操作於逆向偏壓狀態時接收入射光並據以產生感測電流，若發光二極體操作於順向偏壓狀態時產生出射光。
根據本揭示之另一方面，提出一種控制方法。控制方法包括以下步驟。設置第一二極體，係為感光二極體。設置第二二極體，將第二二極體之第一端電性連接於第一二極體之第一端。設置發光二極體，將發光二極體之第一端電性連接於接地端，且將發光二極體之第二端電性連接於第二二極體之第二端。施加第一電壓於第一二極體之第二端。經由第一電阻施加第二電壓於第一二極體之第一端。經由第二電阻施加第三電壓於第二二極體之第二端。調整第一電壓、第二電壓及第三電壓之電壓值，致使第一二極體選擇性的操作於逆向偏壓狀態，或致使發光二極體選擇性的操作於順向偏壓狀態。若第一二極體操作於逆向偏壓狀態時接收入射光並據以產生感測電流，若發光二極體操作於順向偏壓狀態時產生出射光。
為了對本揭示之上述及其他方面有更佳的瞭解，下文特舉實施例，並配合所附圖式詳細說明如下：
110,120,130,140,910:控制電路
1110,1120,1130,1140:控制電路
1410,1430:控制電路
300,1200,1500:控制電路陣列
D10,D10B:第一二極體
D20,D20B:第二二極體
D30,D30B:發光二極體
M10_1,M10_2,M10_3,M10_4:第一電晶體
G10_1,G10_2:第一閘極線
VG10_1,VG10_2:第一閘極電壓
M20_1,M20_3:第二電晶體
G20_1,G20_2:第二閘極線
VG20_1,VG20_2:第二閘極電壓
12,22,32:第一端
12B,22B,32B:第一端
14,24,34:第二端
14B,24B,34B:第二端
Vdata1,Vdata2:第一電壓
Vscan1,Vscan2:第二電壓
VS1,VS2:第三電壓
Vdata+,Vdata-:電壓值
Vscan+,Vscan-:電壓值
VS+,VS-:電壓值
RL:第一電阻
RS:第二電阻
N1,N2:節點
VN1,VN2:節點電壓
CS:第一電容
GND:接地端
I10:感測電流
t1,t2,t3,t4:時間點
TEN1,TEN2,TEN3:致能時間
data1,data2:資料線
scan1,scan2:掃瞄線
S1,S2:訊號線
P1,P2,P3,P4:像素單元
400:顯示器
1702:基板
1704:第一金屬層
1706:矽複合層
1708:鈍化保護層
1708B:鈍化保護層的第一部份
1710:透明層
1710B:透明層的第一部份
1712:第二金屬層
1712B:第二金屬層的第一部份
1712A:第二金屬層的第二部份
1720:通孔
S110~S180:步驟
S210~S280:步驟
S150,S152,S154,S160,S162,S164:步驟
S250,S252,S254,S260,S262,S264:步驟
第1圖繪示本揭示一實施例之用於光感測及顯示驅動之控制電路之電路圖。
第2圖繪示第1圖之控制電路操作於感測模式時之各操作電壓的時序圖。
第3圖繪示包括第1圖之控制電路之控制電路陣列之電路圖。
第4圖繪示第3圖之控制電路陣列對應的顯示器之像素單元 的示意圖。
第5圖繪示第3圖之控制電路陣列之各操作電壓的時序圖。
第6圖繪示第1圖之控制電路操作於顯示模式時之各操作電壓的時序圖。
7A、7B、7C圖繪示第3圖之控制電路陣列對應的顯示器之像素單元操作於顯示模式及/或感測模式的示意圖。
第8A、8B、8C圖繪示第3圖之控制電路陣列操作於顯示模式及/或感測模式之各操作電壓的時序圖。
第9圖繪示本揭示另一實施例之控制電路之電路圖。
第10A、10B圖繪示第9圖之控制電路操作於顯示模式或感測模式之各操作電壓的時序圖。
第11圖繪示本揭示又一實施例之控制電路之電路圖。
第12圖繪示包括第11圖之控制電路之控制電路陣列之電路圖。
第13圖繪示第12圖之控制電路陣列對應的顯示器之像素單元的示意圖。
第14圖繪示本揭示再一實施例之控制電路之電路圖。
第15圖繪示包括第14圖之控制電路之控制電路陣列之電路圖。
第16圖繪示第15圖之控制電路陣列對應的顯示器之像素單元的示意圖。
第17A~17J圖及第18A、18B圖繪示用於製造第1圖之第一二 極體與第二二極體之製程的示意圖。
第19A~19D圖繪示本揭示一實施例之用於光感測及顯示驅動之控制方法的流程圖。
第20A~20D圖繪示本揭示另一實施例之用於光感測及顯示驅動之控制方法的流程圖。
第1圖繪示本揭示一實施例之用於光感測及顯示驅動之控制電路110之電路圖。請參見第1圖，控制電路110包括第一二極體D10、第二二極體D20及發光二極體D30。第一二極體D10、第二二極體D20及發光二極體D30各自具有第一端及第二端。在本實施例中，第一二極體D10之第一端12為陽極端(anode)且第二端14為陰極端(cathode)，第二二極體D20之第一端22為陽極端且第二端24為陰極端；並且，發光二極體D30之第一端32為陽極端且第二端34為陰極端。
在本實施例中，第一二極體D10之第一端12(陽極端)電性連接於第二二極體D20之第一端22(陽極端)，換言之，第一二極體D10與第二二極體D20係以背對背(back-to-back)方式串聯連接而形成三極體(triode)。第一二極體D10之第一端12與第二二極體D20之第一端22的連接點為節點N1。在本實施例中，第一二極體D10係為感光二極體(photo-diode)。本實施例的控制電路110至少具有三個操作電壓：第一電壓Vdata1、第二電壓Vscan1及第三電壓VS1。第一二極體D10之第二端14(陰極端)被施加第一 電壓Vdata1，第一二極體D10之第一端12(陽極端)經由第一電阻RL而被施加第二電壓Vscan1。第一電壓Vdata1與第二電壓Vscan1可被調整為適當的電壓值，以使第一二極體D10操作於順向偏壓(forward-bias)狀態或逆向偏壓(reverse-bias)狀態。當第一二極體D10操作於逆向偏壓狀態時，第一二極體D10可接收並感測入射光，且根據入射光的強度產生感測電流I10。感測電流I10之電流大小正相關於入射光的強度。
另一方面，第二二極體D20之第二端24(陰極端)電性連接於發光二極體D30之第二端34(陰極端)。第二二極體D20之第二端24與發光二極體D30之第二端34的連接點為節點N2。並且，發光二極體D30之第一端32(陽極端)電性連接於接地端GND。在本實施例中，發光二極體D30例如為次毫米發光二極體(mini LED)、微發光二極體(micro LED)、有機發光二極體(OLED)，等等。發光二極體D30之第二端34(陰極端)經由第二電阻RS而被施加第三電壓VS1。第一電壓Vdata1與第三電壓VS1可被調整為適當的電壓值，以使發光二極體D30操作於順向偏壓狀態或逆向偏壓狀態；當發光二極體D30操作於順向偏壓狀態時可產生出射光。此外，可設置第一電容CS並聯連接於發光二極體D30。第一電容CS可作為旁路(bypass)電容以濾除小訊號雜訊。
控制電路110可操作於感測模式(sensing mode)或顯示模式(display mode)。在感測模式中，第一二極體D10操作於逆向偏壓狀態，其接收並感測入射光且對應產生感應電流I10。 在顯示模式中，發光二極體D30操作於順向偏壓狀態以產生出射光，此時控制電路110可具有點亮顯示器像素單元(發光二極體D30作為像素單元)或提供額外光源的功能。控制電路110亦可同時操作於感測模式與顯示模式，以同時執行光學感測功能及顯示器像素單元之顯示/驅動功能。在一種應用示例中，當控制電路110同時操作於感測模式與顯示模式時，發光二極體D30可提供額外光源以照亮使用者之手指指紋，同時第一二極體D10可對於手指指紋進行感測，據此，控制電路110可利於執行指紋辨識功能。
第2圖繪示第1圖之控制電路110操作於感測模式時之各操作電壓的時序圖。請同時參見第1圖及第2圖，控制電路110例如在介於時間點t1與時間點t2之間操作於感測模式，在感測模式時的各操作電壓(第一電壓Vdata1、第二電壓Vscan1、第三電壓VS1)的調整設定如下：係將第一電壓Vdata1提升為較高的電壓值Vdata+，第二電壓Vscan1則保持於較低的電壓值，以使得第一電壓Vdata1高於第二電壓Vscan1。更詳細而言，係滿足式(1)的電壓高低關係：第一電壓Vdata1高於節點電壓VN1減去第一二極體D10之臨界電壓Vth,10。據此，第一二極體D10可操作於逆向偏壓狀態。
Vdata1>(VN1-Vth,10) (1)
並且，在本實施例中，當控制電路110操作於感測模式時發光二極體D30並不提供出射光。因此，係將第三電壓VS1 提升為較高的電壓值VS+，以致使第三電壓VS1高於接地端GND的電壓(0V)。更詳細而言，係滿足式(2)的電壓高低關係：節點電壓VN2高於發光二極體D30之臨界電壓Vth,30之負值。據此，發光二極體D30亦操作於逆向偏壓狀態。
(-Vth,30)<VN2 (2)
第1圖、第2圖說明對應於顯示器之單一像素單元之單一的控制電路110的運作方式。以下係說明多個控制電路組成的控制電路陣列的運作方式，控制電路陣列可對應控制相鄰設置的多個像素單元。第3圖繪示包括第1圖之控制電路110之控制電路陣列300之電路圖，請參見第3圖，控制電路陣列300除了包括控制電路110，更可包括其他的控制元件，例如：其他的控制電路120、130及140。控制電路110、120、130及140彼此相鄰設置，且分別對應連接於兩條資料線data1及data2、兩條掃瞄線scan1及scan2與兩條訊號線S1及S2。設置於控制電路陣列300的第一列位置的控制電路110、120各自的第一二極體D10共同連接於第一條資料線data1，並經由資料線data1被施加第一電壓Vdata1。類似的，設置於控制電路陣列300的第二列位置的控制電路130、140各自的第一二極體D10共同連接於第二條資料線data2，並經由資料線data2被施加另一個第一電壓Vdata2。
此外，設置於控制電路陣列300的第一行位置的控制電路110、130各自的節點N1經由第一電阻RL共同連接於第一條掃瞄線scan1，並經由掃瞄線scan1被施加第二電壓Vscan1；且控制電路110、130各自的節點N2經由第二電阻RS共同連接於第一條訊號線S1，並經由訊號線S1被施加第三電壓VS1。類似的，設置於控制電路陣列300的第二行位置的控制電路120、140各自的節點N1經由第一電阻RL共同連接於第二條掃瞄線scan2，並經由掃瞄線scan2被施加另一個第二電壓Vscan2；且控制電路120、140各自的節點N2經由第二電阻RS共同連接於第二條訊號線S2，並經由訊號線S2被施加另一個第三電壓VS2。由上，控制電路陣列300的控制電路110~140至少具有以下多個操作電壓：經由資料線data1、data2接收的第一電壓Vdata1、Vdata2，經由掃瞄線scan1、scan2接收的第二電壓Vscan1、Vscan2以及經由訊號線S1、S2接收的第三電壓VS1、VS2。
控制電路陣列300的操作方式請同時參見第3、4及5圖，其中，第4圖繪示第3圖之控制電路陣列300對應的顯示器400之像素單元的示意圖，第5圖繪示第3圖之控制電路陣列300之各操作電壓的時序圖。第4圖僅示例性的繪示顯示器400的其中四個像素單元P1、P2、P3及P4，其中像素單元P1、P2對應於顯示器400的第一列位置，像素單元P3、P4對應於顯示器400的第二列位置；並且，像素單元P1、P3對應於顯示器400的第一行位置，像素單元P2、P4對應於顯示器400的第二行位置。控制電路110、120、 130及140分別對應控制像素單元P1、P2、P3及P4。在一種示例的操作中，對於控制電路110、120而言，係將第一電壓Vdata1提升為較高的電壓值Vdata+並且各自的第三電壓VS1、VS2亦提升為較高的電壓值VS+。據此，以使得控制電路110、120的第一電壓Vdata1高於第二電壓Vscan1、Vscan2，且第三電壓VS1、VS2亦高於第二電壓Vscan1、Vscan2，並且第三電壓VS1、VS2大於零(0V，即接地端GND的電壓值)。因而，控制電路110、120各自的第一二極體D10、第二二極體D20及發光二極體D30皆操作於逆向偏壓狀態，致使控制電路110、120皆操作於感測模式。據此，控制電路110、120對應的第一列位置的像素單元P1、P2可對於入射光進行接收及感測。
在本實施例中，控制電路110的第一二極體D10接收入射光並相應產生感測電流I10；第一二極體D10的感測電流I10遠大於第二二極體D20與發光二極體D30在逆向偏壓狀態的暗態漏電流。因而，控制電路110所連接的掃瞄線scan1上流通的電流幾乎完全相等於第一二極體D10產生的感測電流I10。據此，量測掃瞄線scan1上流通的電流即相當於直接量測第一二極體D10的感測電流I10，可據以推算第一二極體D10接收的入射光的強度。掃瞄線scan1原連接於提供第二電壓Vscan1的電壓源(圖中未顯示)；在一種示例中，可將掃瞄線scan1暫時切換連接於電流量測電路(圖中未顯示)以量測掃瞄線scan1上流通的電流。同樣的，控制電路120的第一二極體D10亦接收入射光並相應產生感測電流I10， 則可將第二條掃瞄線scan2暫時切換連接於電流量測電路以量測掃瞄線scan2上流通的電流(相當於直接量測控制電路120的第一二極體D10的感測電流I10)。
對於控制電路130、140而言，係將各自的第三電壓VS1、VS2提升為較高的電壓值VS+。然而，第一電壓Vdata2則仍保持於為較低的電壓值，使得控制電路130的第一電壓Vdata2大致相等於第二電壓Vscan1，控制電路140的第一電壓Vdata2大致相等於第二電壓Vscan2。據此，控制電路130的第一電晶體D10的跨壓為零(0V)因而其偏壓電流或漏電流係為0V偏壓的電流值，此電流值遠小於相鄰的第一列位置的控制電路110的第一電晶體D10的感測電流I10，因而控制電路130的第一電晶體D10的漏電流或偏壓電流不致影響掃瞄線scan1上的電流量測。同樣的，控制電路140的第一電晶體D10的電流亦為0V偏壓的偏壓電流或漏電流，其不致影響掃瞄線scan2上的電流量測(相鄰的第一列位置的控制電路120的第一電晶體D10的感測電流I10的電流量測)。換言之，如第4圖所示，當顯示器400的第一列位置的像素單元P1、P2感測入射光，而經由掃瞄線scan1、scan2量測對應產生的感應電流時，第二列位置的像素單元P3、P4不致於干擾掃瞄線scan1、scan2上的電流量測。
係說明控制電路110或控制電路陣列300於感測模式的操作方式。另一方面，控制電路110亦可操作於顯示模式以提供出射光。第6圖繪示第1圖之控制電路100操作於顯示模式時之 各操作電壓的時序圖，請同時參見第1圖與第6圖，為了使控制電路110操作於顯示模式(顯示模式例如介於時間點t3與時間點t4之間)，係將控制電路110的第一電壓Vdata1降低為較低的電壓值Vdata-，將第二電壓Vscan1提升為較高的電壓值Vscan+，並將第三電壓VS1降低為較低的電壓值VS-；以使得第三電壓VS1低於第一電壓Vdata1，且第一電壓Vdata1低於零(0V)。更詳細而言，係使得節點電壓VN1、VN2及發光二極體D30的順向偏壓之跨壓VB,30滿足式(3)、式(4)、式(5)的電壓高低關係：VN1=Vdata1+Vth,10 (3)
VN2=Vdata1+Vth,10-Vth,20 (4)
VB,30=(-VN2)=-(Vdata1+Vth,10-Vth,20) (5)
據此，控制電路110的第一二極體D10、第二二極體D20及發光二極體D30皆操作於順向偏壓狀態，且根據式(5)以調整第一電壓Vdata1來改變發光二極體D30的順向偏壓的跨壓VB,30，進而調整發光二極體D30的發光強度(發光二極體D30的出射光的強度)。此外，發光二極體D30的發光強度亦正相關於發光二極體D30被開啟或致能(即：操作於順向偏壓狀態)的致能時間TEN1的長度。因此，亦可藉由脈衝寬度調變(PWM)以調整發光二極體D30的致能時間TEN1的長度來調整發光二極體D30的發光強度。
以下接著說明第3圖的控制電路陣列300操作於顯示模式(或同時操作於感測模式及顯示模式)的實施方式。7A、7B、7C圖繪示第3圖之控制電路陣列對應的顯示器像素單元操作於顯示模式及/或感測模式的示意圖。第8A、8B、8C圖繪示第3圖之控制電路陣列操作於顯示模式及/或感測模式之各操作電壓的時序圖。首先，同時參見第3、7A、8A圖，在本實施例中，僅有控制電路110對應的像素單元P1操作於顯示模式而提供出射光，而其他的控制電路120、130、140對應的像素單元P2、P3、P4則不提供出射光。為了使控制電路110操作於顯示模式，係將控制電路110的第一電壓Vdata1降低為較低的電壓值Vdata-，將第二電壓Vscan1提升為較高的電壓值Vscan+，並將第三電壓VS1降低為較低的電壓值VS-，而能夠滿足式(6)及式(7)的電壓高低關係：Vscan1>Vdata1>VS1 (6)
0>Vdata1>VS1 (7)
據此，控制電路110的發光二極體D30可操作於順向偏壓狀態而產生出射光。另一方面，相鄰的其他控制電路120、130、140的發光二極體D30皆操作於逆向偏壓狀態。以控制電路120為例，如第8A圖所示，係將控制電路120的第一電壓Vdata1、第二電壓Vscan2及第三電壓VS2分別提升為較高的電壓值Vdata+、Vscan+及VS+以滿足式(8)及式(9)： Vscan2>Vdata1>0 (8)
VS2>0 (9)
由於控制電路120的第三電壓VS2提升至較高的電壓值VS+，使得節點N2的電壓高於接地端GND的電壓，致使控制電路120的發光二極體D30操作於逆向偏壓狀態而不產生出射光。
在另一種態樣的示例中，同時參見第3、7B、8B圖，顯示器400的第一列位置的像素單元P1、P2皆操作於顯示模式而提供出射光，顯示器400的第二列位置的像素單元P3、P4則不操作於顯示模式。對於控制電路110、120兩者而言，係將第一電壓Vdata1降低為較低的電壓值Vdata-，將第二電壓Vscan1、Vscan2提升為較高的電壓值Vscan+，並將第三電壓VS1、VS2降低為較低的電壓值VS-。據此，控制電路110、120各自的發光二極體D30皆操作於順向偏壓狀態。根據式(5)，控制電路110、120的第一電壓Vdata1相關於發光二極體D30的順向偏壓的跨壓VB,30，因而相關於發光二極體D30的發光強度。由於控制電路110、120連接於同一條資料線data1而被施加相同的第一電壓Vdata1，因此控制電路110、120各自的發光二極體D30大致上具有相同的發光強度。更進一步而言，若分別調整控制電路110、120各自的發光二極體D30被開啟或致能(即：操作於順向偏壓狀態)的致能時間TEN1、TEN2的長度，則控制電路110、120各自的發光二極體D30亦可具有不 同的發光強度。例如，增加控制電路120的發光二極體D30的致能時間TEN2的長度，使控制電路120的發光二極體D30的發光強度大於控制電路110的發光二極體D30。換言之，亦能夠對於同一列位置的像素單元P1、P2的發光強度各別進行調整。
在另一種態樣的示例中，同時參見第3、7C、8C圖，控制電路110對應的像素單元P1亦可同時操作於感測模式及顯示模式。因應於感測模式，控制電路110的第一二極體D10操作於逆向偏壓狀態以提供感測電流I10，且第二二極體D20亦操作於逆向偏壓狀態以降低第二二極體D20的偏壓電流(或暗態電流、漏電流)，使得第二二極體D20的偏壓電流不致於影響第一二極體D10的感測電流I10的量測。同時，因應於顯示模式，控制電路110的發光二極體D30操作於順向偏壓狀態以提供出射光。
在各操作電壓的調整設定上，係將控制電路110的第一電壓Vdata1與第三電壓VS1分別降低至較低的電壓值Vdata-與Vs-，且將第二電壓Vscan1降低至更低的電壓值Vscan-(以使得第二電壓Vscan1低於第一電壓Vdata1與第三電壓VS1)。據此，可調降節點電壓VN2使發光二極體D30的跨壓VB,30大於臨界電壓Vth,30而操作於順向偏壓狀態。並且，由於第二電壓Vscan1低於第一電壓Vdata1與第三電壓VS1，第一二極體D10與第二二極體D20皆操作於逆向偏壓狀態。
對於與控制電路110同一列位置的另一控制電路130而言，由於控制電路130與控制電路110共同連接於同一條掃 瞄線scan1，控制電路130可能會干擾掃瞄線scan1上對於控制電路110的第一二極體D10的感測電流I10的量測，因此必須降低控制電路130的第一二極體D10可能具有的漏電流。如第8C圖所示，可將控制電路130的第一電壓Vdata2降低至更低的電壓值Vdata-(其中，Vdata-=Vscan-)以使得第一電壓Vdata2大致相等於第二電壓Vscan1，此時控制電路130的第一二極體D10的跨壓為零(0V)因而具有0V跨壓之漏電流；此漏電流遠小於控制電路110的第一二極體D10的感測電流I10而不至影響感測電流I10的量測。
第9圖繪示本揭示另一實施例之控制電路910之電路圖。請參見第9圖，本實施例之控制電路910類似於第1圖之控制電路110，差異處在於：本實施例之第一二極體D10B之第一端12B為陰極端且第二端14B為陽極端，第二二極體D20B之第一端22B為陰極端且第二端24B為陽極端，並且，發光二極體D30B之第一端32B為陰極端且第二端34B為陽極端。
在本實施例中，第一二極體D10B之第一端12B(陰極端)電性連接於第二二極體D20B之第一端22B(陰極端)，第一二極體D10B與第二二極體D20B以面對面(face-to-face)形式連接而形成三極體。並且，發光二極體D30B之第一端32B(陰極端)電性連接於接地端GND。
第10A、10B圖繪示第9圖之控制電路910操作於感測模式或顯示模式之各操作電壓的時序圖。首先，同時參見第9圖及第10A圖，控制電路910操作於感測模式時，係將第一電壓 Vdata1降低為較低的電壓值Vdata-，並將第三電壓VS1降低為較低的電壓值VS-，第二電壓Vscan1則保持於較高的電壓值，以使得第一二極體D10B及發光二極體D30B皆操作於逆向偏壓狀態。
另一方面，同時參見第9圖及第10B圖，控制電路910操作於顯示模式時，係將第一電壓Vdata1提升為較高的電壓值Vdata+，並將第三電壓VS1提升為更高的電壓值VS+，且第二電壓Vscan1降低為較低的電壓值Vscan-。據此，可使得第三電壓VS1高於第一電壓Vdata1，且第一電壓Vdata1高於第二電壓Vscan1，因而第一二極體D10B與發光二極體D30B都操作於順向偏壓狀態。發光二極體D30B的發光強度正相關於第一電壓Vdata1的電壓值Vdata+以及於發光二極體D30B被致能或開啟(操作於順向偏壓狀態)的致能時間TEN3的長度。
第11圖繪示本揭示又一實施例之控制電路1110之電路圖。請參見第11圖，本實施例之控制電路1110類似於第1圖之控制電路110，差異處在於：本實施例之控制電路1110更包括第一電晶體M10_1，第一電晶體M10_1例如為薄膜電晶體(TFT)。第一電晶體M10_1以串聯方式連接於發光二極體D30與接地端GND之間。第一電晶體M10_1之第一閘極線G10_1可接收第一閘極電壓VG10_1；因應於第一閘極電壓VG10_1可開啟或關閉第一電晶體M10_1，進而能夠控制發光二極體D30的電流大小，據以控制發光二極體D30的發光強度。
第12圖繪示包括第11圖之控制電路1110之控制電 路陣列1200之電路圖。第13圖繪示第12圖之控制電路陣列1200對應的顯示器之像素單元的示意圖。請同時參見第12、13圖，控制電路1110之第一電晶體M10_1與控制電路1120之第一電晶體M10_2共同連接於第一閘極線G10_1以接收第一閘極電壓VG10_1。第一閘極電壓VG10_1可同時控制第一電晶體M10_1、M10_2的開啟或關閉，進而同時控制控制電路1110、1120各自的發光二極體D30的電流大小。換言之，可藉由第一閘極電壓VG10_1同時控制第一列位置的像素單元P1、P2是否被點亮。並且，經由資料線data1所施加的第一電壓Vdata1可同時控制像素單元P1、P2的亮度(灰階值)。類似的，可經由第二條第一閘極線G10_2施加另一個第一閘極電壓VG10_2以控制第二列位置的像素單元P3、P4是否被點亮，並且經由第二條資料線data2所施加的第一電壓Vdata2控制像素單元P3、P4的亮度(灰階值)。
在另一種示例中，亦可藉由調整訊號線S1、S2所施加的第三電壓VS1、VS2以分別控制像素單元P1、P2是否開啟以及亮度強弱。例如，將第一條訊號線S1的第三電壓VS1設定為大於零(0V)的正電壓值，則可關閉控制電路1110的發光二極體D30，使得像素P1不被點亮。據此，可配合第三電壓VS1(或VS2)以針對同一列位置中的單一的像素單元P1(或P2)進行控制。
第14圖繪示本揭示再一實施例之控制電路1410之電路圖。請參見第14圖，本實施例之控制電路1410類似於第1圖之控制電路110，差異處在於：本實施例之控制電路1410更包括 第二電晶體M20_1，第二電晶體M20_1亦可例如為薄膜電晶體。第二電晶體M20_1設置於第一二極體D10與提供第一電壓Vdata1的電壓源(圖中未顯示)之間。第二電晶體M20_1之第二閘極線G20_1可接收第二閘極電壓VG20_1以控制第二電晶體M20_1的開啟或關閉，進而控制流經第一二極體D10的電流I10(例如漏電流或偏壓電流)。
第15圖繪示包括第14圖之控制電路1410之控制電路陣列1500之電路圖，第16圖繪示第15圖之控制電路陣列1500對應的顯示器像素單元的示意圖。請同時參見第15、16圖(第15圖僅繪示出同一行位置的兩個控制電路1410、1430)，對於另一個控制電路1430而言，第二電晶體M20_3經由另一條第二閘極線G20_2接收第二閘極電壓VG20_2。若僅需致使像素單元P3操作於感測模式，則調整第二閘極電壓VG20_2以開啟第二電晶體M20_3並使得控制電路1430的第一二極體D10的電流流通。此時，可經由掃瞄線scan1量測控制電路1430的第一二極體D10的感測電流I10。
為了降低相鄰的控制電路1410的第一二極體D10的電流對於掃瞄線scan1之電流量測(量測控制電路1430的第一二極體D10的感測電流I10)的干擾，可調整控制電路1410的第二閘極電壓VG20_1以關閉第二電晶體M20_1進而使控制電路1410之第一二極體D10的電流為零。即，藉由第二閘極電壓VG20_1的控制，以致使控制電路1410的第一二極體D10幾乎不具有漏電流而 不致干擾掃瞄線scan1之電流量測，因而控制電路1430在感測模式中的光敏感度(入射光的感測靈敏度)能大幅提高。
對於第1圖的控制電路110的第一二極體D10與第二二極體D20，或是第9圖的控制電路910的第一二極體D10B與第二二極體D20B而言，上述兩個二極體可在同一套製程中同時製造形成生成。第17A~17J圖及第18A、18B圖繪示用於製造第1圖之第一二極體D10與第二二極體D20之製程的示意圖。首先，如第17A圖所示，提供一基板(substrate)1702，基板1702可例如為玻璃基板。而後，在基板1702上形成第一金屬層(Metal-1，M1)1704。第一金屬層1704可例如為銅(Cu)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、鋁(Al)或氧化鈦(TiO)。在一種示例中，可經由熱蒸鍍工序或金屬濺鍍工序在基板1702上表面形成第一金屬層1704。在另一種示例中，亦可優選使用金屬濺鍍工序形成具有鉬-鋁-氧化鈦之複合結構的第一金屬層1704。
而後，如第17B圖所示，以乾蝕刻或濕蝕刻工序對於第一金屬層1704進行蝕刻，以移除部份的第一金屬層1704。而後，如第17C圖所示，在第一金屬層1704上以化學氣相沉積(CVD)工序成形成矽複合層(a-Si)1706。矽複合層1706具有多層結構，其具有不同的鍍膜參數以及參雜濃度，例如：具有氧(O2)及磷化氫(PH3)的參雜。而後，如第17D圖所示，以乾蝕刻或濕蝕刻工序對於矽複合層1706進行蝕刻，以移除部份的矽複合層1706，以暴露出第一金屬層1704的第一部分的上表面。而後，如第17E圖所 示，在第一金屬層1704被暴露的第一部份的上表面以及矽複合層1706上形成鈍化保護層(Passivation layer，PV)1708，並且蝕刻部份的鈍化保護層1708以暴露出矽複合層1706的第一部份的上表面。
而後，如第17F圖所示，在矽複合層1706及鈍化保護層層1708上形成一透明層1710。透明層1710例如為銦錫氧化物(Indium Tin Oxides，ITO)的透明材料，其可作為透明電極的功能；並允許入射光穿透而照射透明層1710下方的矽複合層1706，以利於感光二極體的光學感測。而後，如第17G圖所示，蝕刻部份的透明層1710以暴露出鈍化保護層1708的第一部份1708B。並且，在鈍化保護層1708的第一部份1708B的另一側保留透明層1710而不蝕刻(保留成為透明層的第一部份1710B)。而後，如第17H圖所示，在鈍化保護層1708及透明層1710上形成第二金屬層(Metal-2，M2)1712。第二金屬層1712的材質可相同或類似於第一金屬層1704。
而後，分為兩個步驟而同步執行。在第一個步驟中，如第17I圖所示，蝕刻部份的第二金屬層1712以暴露出透明層1710的上表面，並保留第二金屬層1712的第一部份1712B。第二金屬層1712之第一部份1712B位於鈍化保護層1708之第一部份1708B的一側。此時，可形成具有光學感測功能的第一二極體D10(即，感光二極體)。同時參照第18A圖(其繪示第17I圖之上視 圖)，透明層1710具有凹陷、開口或通孔(through-hole)1720利於入射光的接收。
另一方面，可同步執行第二個步驟：如第17J圖所示，僅蝕刻第二金屬層1712的少部份而僅暴露出鈍化保護層1708的第一部份1708B。其中，該第二金屬層1712之大部分未被蝕刻而保留下來第一部份1712B及第二部份1712A。第二金屬層1712未被蝕刻的第一部份1712B位於鈍化保護層1708的第一部份1708B的一側，第二金屬層1712未被蝕刻的第二部份1712A則可覆蓋大部分的透明層1710。此時，可形成不具有感光功能的第二二極體D20。第18B圖為第17J圖之最終製造形成的第二二極體D20的上視圖，如第18B圖所示，第二金屬層1712的未被蝕刻的第二部份1712A幾乎覆蓋第二二極體D20的最上層表面。
如第17I圖所示的最終完成的第一二極體D10及第17J圖所示的最終完成的第二二極體D20，兩者皆為金屬-矽-金屬(MSM)的複合結構。MSM結構係為垂直複合結構，其製程簡單，並且在彎折的狀況下仍不致影響電性特性，而利於製作可彎折式(flexible)裝置。此外，第一二極體D10與第二二極體D20的MSM結構之電流大小係正相關於MSM結構之面積；因而較大面積的MSM結構可提供較大電流而適合做為驅動元件，利於驅動發光二極體D30以控制像素單元的亮度。
第19A~19D圖繪示本揭示一實施例之用於光感測及顯示驅動之控制方法的流程圖，本實施例之控制方法可配合於 第1圖的控制電路110、第11圖的控制電路1110及第14圖的控制電路1410而實施。
請先同時參見第1圖及第19A圖，首先，在步驟S110，設置第一二極體D10，其為感光二極體。並設置第二二極體D20，將其第一端22電性連接於第一二極體D10之第一端12。且設置發光二極體D30，將其第一端32電性連接於接地端GND，並將其第二端34電性連接於第二二極體D20之第二端24。在本實施例中，第一二極體D10之第一端12為陽極端且第二端14為陰極端，第二二極體D20之第一端22為陽極端且第二端24為陰極端，發光二極體D30之第一端32為陽極端且第二端34為陰極端。根據上述的連接方式，第一二極體D10之陽極端連接於第二二極體D20之陽極端以背對背方式串聯連接而形成三極體。
而後，在步驟S120，施加第一電壓Vdata1於第一二極體D10之第二端14。而後，在步驟S130，經由第一電阻RL施加第二電壓Vscan1於第一二極體D10之第一端22。而後，在步驟S140，經由第二電阻RS施加第三電壓VS1於第二二極體D20之第二端24。經由步驟S120~S140，可施加多個操作電壓於控制電路110。據此，可根據第一電壓Vdata1調整第一二極體D10之陰極的電壓值，根據第二電壓Vscan1調整第一二極體D10之陽極的電壓值以及第二二極體D20之陽極的電壓值，並且根據第三電壓VS1調整發光二極體D30之陰極的電壓值。
而後，可選擇性的執行步驟S150及/或執行步驟S160。若執行步驟S150，係調整第一電壓Vdata1、第二電壓Vscan1及第三電壓VS1之電壓值以致使第一二極體D10操作於逆向偏壓狀態，以使得第一二極體D10能夠接收一入射光並據以產生一感測電流I10。另一方面，若執行步驟S160，則調整第一電壓Vdata1、第二電壓Vscan1及第三電壓VS1之電壓值以致使發光二極體D30操作於順向偏壓狀態，以使得發光二極體D30能夠產生一出射光。
請參見第19C圖，步驟S150可進一步包括步驟S152、S154。首先，在步驟S152，調整第一電壓Vdata1為較高的電壓值Vdata+而高於第二電壓Vscan1的電壓值。此時，第一二極體D10操作於逆向偏壓狀態。而後，在步驟S154，調整第三電壓VS1為較高的電壓值VS+而高於第二電壓Vscan1的電壓值，並且使得第三電壓VS1的電壓值VS+高於零(0V)。此時，發光二極體D30亦操作於逆向偏壓狀態。
請參見第19D圖所示，步驟S160可進一步包括步驟S162、S164。首先，在步驟S162，調整第一電壓Vdata1為較低的電壓值Vdata-而低於第二電壓Vscan1的電壓值減去第一二極體D10之臨界電壓Vth,10。此時，第一二極體D10操作於順向偏壓狀態。而後，在步驟S164，調整第三電壓VS1為較低的電壓值VS1-而低於第二電壓Vscan1的電壓值減去第二二極體D20之臨界電壓Vth,20，並且使得第三電壓VS1的電壓值VS1-低於發光二極 體D30之臨界電壓Vth,30之負值。此時，發光二極體D30亦操作於順向偏壓狀態。
而後，參見第19B圖，在步驟S170，設置第一電晶體M10_1而連接於發光二極體D30之第一端32與接地端GND之間。施加第一閘極電壓VG10_1於第一電晶體M10_1，並根據第一電晶體M10_1之第一閘極電壓VG10_1控制發光二極體D30的電流大小。
而後，在步驟S180，設置第二電晶體M20_1而連接於第一二極體D10之第二端14，施加第二閘極電壓VG20_1於第二電晶體M20_1。並根據第二電晶體M20_1之第二閘極電壓VG20_1控制第一二極體D10的漏電流或偏壓電流。
第20A~20D圖繪示本揭示另一實施例之用於光感測及顯示驅動之控制方法的流程圖，本實施例之控制方法可配合於第9圖的控制電路910而實施。本實施例之控制方法類似於第19A至19D圖所示之控制方法，差異處在於：在本實施例之步驟S210係將控制電路910之第二二極體D20B之陰極端(第一端22B)電性連接於第一二極體D10B之陰極端(第一端12B)，以使得第一二極體D10B與第二二極體D20B以面對面方式連接而形成三極體。並且，將發光二極體D30B之陰極端(第一端32B)電性連接於接地端GND，將發光二極體D30B之陽極端(第二端34B)電性連接於第二二極體D20B之陽極端(第二端24B)。
此外，本實施例之步驟S220、S230、S340、S270、S280完全相同於第19A、19B圖之對應步驟，於此不再重述。
而本實施例之步驟S250、S260類似於19A之步驟S150、S160，差異處僅在於：如第20C圖所示，步驟S250進一步包括的步驟S252之中，調整第一電壓Vdatat1為較低的電壓值Vdata-而低於第二電壓Vscan1的電壓值。此時，第一二極體D10B操作於逆向偏壓狀態。而後，於另一個步驟S254中，調整第三電壓VS1為較低的電壓值VS-而低於第二電壓Vscan1的電壓值，並且使得第三電壓VS1的電壓值VS-低於零(0V)。此時，發光二極體D30B操作於逆向偏壓狀態。
再者，步驟S260進一步包括的步驟S262中，調整第一電壓Vdata1為較高的電壓值Vdata+而高於第二電壓Vscan1的電壓值加上第一二極體D10之臨界電壓Vth,10。此時第一二極體D10B操作於順向偏壓狀態。而後，於另一個步驟S164B中，調整第三電壓VS1為較高的電壓值VS1+而高於第二電壓Vscan1的電壓值加上第二二極體D20之臨界電壓Vth,20，並且使得第三電壓VS1的電壓值VS1+高於發光二極體D30之臨界電壓Vth,30。此時發光二極體D30B操作於順向偏壓狀態。
根據上文說明之各實施例之控制電路與控制方法，本揭示之技術方案利用第一二極體D10與第二二極體D20連接形成的三極體並配合施加的第一電壓Vdata1、第二電壓Vscan1、第三電壓VS1以致使第一二極體D10選擇性的操作於逆向偏壓狀態而操作於感測模式以執行光感測功能，並可致使發光二極體D30選擇性的操作於順向偏壓狀態而操作於顯示模式以執行顯示驅動功 能。亦可使控制電路同時操作於感測模式及顯示模式以應用於指紋辨識，例如發光二極體D30提供出射光以照亮使用者之指紋，且第一二極體D10對於使用者之指紋進行感測。並且，可藉由調整第一電壓Vdata1、第二電壓Vscan1、第三電壓VS1以控制發光二極體D30的發光強度；亦可藉由第一電晶體M10_1輔助控制發光二極體D30的發光強度或開啟/關閉。再者，可藉由第二電晶體M20_1以降低對應於相鄰像素單元之控制電路的第一二極體D10的漏電流或偏壓電流，以提升目前執行光感測之控制電路的電流感測靈敏度。
綜上所述，雖然本揭示已以實施例揭示如上，然其並非用以限定本揭示。本揭示所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭示之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本揭示之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
110:控制電路
D10:第一二極體
D20:第二二極體
D30:發光二極體
12,22,32:第一端
14,24,34:第二端
Vdata1:第一電壓
Vscan1:第二電壓
VS1:第三電壓
RL:第一電阻
RS:第二電阻
N1,N2:節點
VN1,VN2:節點電壓
CS:第一電容
GND:接地端
I10:感測電流

Claims (20)

  1. 一種用於光感測及顯示驅動之控制電路，包括：一第一二極體，係為一感光二極體，該第一二極體之第一端經由一第一電阻接收一第二電壓，該第一二極體之第二端接收一第一電壓；一第二二極體，該第二二極體之第一端電性連接於該第一二極體之第一端，該第二二極體之第二端經由一第二電阻接收一第三電壓；以及一發光二極體，該發光二極體之第一端電性連接於一接地端，且該發光二極體之第二端電性連接於該第二二極體之第二端，其中，因應於該第一電壓、該第二電壓及該第三電壓之電壓值，該第一二極體選擇性的操作於逆向偏壓狀態或該發光二極體選擇性的操作於順向偏壓狀態，當操作於一感測模式時，該第一二極體操作於逆向偏壓狀態以接收一入射光並據以產生一感測電流，以執行一光感測功能，當操作於一顯示模式時，該發光二極體操作於順向偏壓狀態以產生一出射光，以執行一顯示驅動功能。
  2. 如請求項1所述之控制電路，其中該第一二極體之第一端為陽極端且第二端為陰極端，該第二二極體之第一端為陽極端且第二端為陰極端，該發光二極體之第一端為陽極端且第二端為陰極端。
  3. 如請求項2所述之控制電路，其中當操作於該感測模式時，該第一電壓的電壓值高於該第二電壓的電壓值，該第三電壓的電壓值高於該第二電壓的電壓值，且該第三電壓的電壓值高於零(0V)，該第一二極體、該第二二極體及該發光二極體皆操作於逆向偏壓狀態，且該第一二極體產生的該感測電流的電流大小相關於該入射光之強度。
  4. 如請求項2所述之控制電路，其中當操作於該顯示模式時，該第一電壓的電壓值低於該第二電壓的電壓值減去該第一二極體之臨界電壓，該第三電壓的電壓值低於該第二電壓的電壓值減去該第二二極體之臨界電壓，且該第三電壓的電壓值低於該發光二極體之臨界電壓之負值，該第一二極體、該第二二極體及該發光二極體皆操作於順向偏壓狀態，且該發光二極體產生的該出射光的強度相關於該第一電壓的電壓值及該發光二極體之致能時間的長度。
  5. 如請求項1所述之控制電路，其中該第一二極體之第一端為陰極端且第二端為陽極端，該第二二極體之第一端為陰極端且第二端為陽極端，該發光二極體之第一端為陰極端且第二端為陽極端。
  6. 如請求項5所述之控制電路，其中： 當操作於該感測模式時，因應於該第一電壓、該第二電壓及該第三電壓之電壓值，該第一二極體、該第二二極體及該發光二極體皆操作於逆向偏壓狀態；以及當操作於該顯示模式時，因應於該第一電壓、該第二電壓及該第三電壓之電壓值，該第一二極體、該第二二極體及該發光二極體皆操作於順向偏壓狀態。
  7. 如請求項1所述之控制電路，更包括：一第一電晶體，係電性連接於該發光二極體之第一端與該接地端之間，該第一電晶體接收一第一閘極電壓，該第一閘極電壓控制該發光二極體的電流大小。
  8. 如請求項1所述之控制電路，更包括：一第二電晶體，係電性連接於該第一二極體之第二端，該第二電晶體接收一第二閘極電壓，該第二閘極電壓控制該第一二極體的漏電流或偏壓電流。
  9. 如請求項1所述之控制電路，該控制電路屬於一控制電路陣列，該控制電路陣列包括至少一資料線、至少一掃瞄線及至少一訊號線，其中該第一二極體之第一端經由該至少一掃瞄線接收該第二電壓，該第一二極體之第二端經由該至少一資料線接收該第一電壓，該第二二極體之第二端經由該至少一訊號線接收該第三電壓，且該至少一資料線、該至少一掃瞄線及該至 少一訊號線連接於該控制電路陣列的其他複數個控制元件，該控制電路及該些控制元件對應控制相鄰設置的複數個像素單元。
  10. 一種用於光感測及顯示驅動之控制方法，包括：設置一第一二極體，該第一二極體係為一感光二極體；設置一第二二極體，將該第二二極體之第一端電性連接於該第一二極體之第一端；設置一發光二極體，將該發光二極體之第一端電性連接於一接地端，且將該發光二極體之第二端電性連接於該第二二極體之第二端；施加一第一電壓於該第一二極體之第二端；經由一第一電阻施加一第二電壓於該第一二極體之第一端；經由一第二電阻施加一第三電壓於該第二二極體之第二端；以及調整該第一電壓、該第二電壓及該第三電壓之電壓值，致使該第一二極體選擇性的操作於逆向偏壓狀態，或致使該發光二極體選擇性的操作於順向偏壓狀態，其中，當操作於一感測模式時，該第一二極體操作於逆向偏壓狀態以接收一入射光並據以產生一感測電流，以執行一光感測功能，當操作於一顯示模式時，該發光二極體操作於順向偏壓狀態以產生一出射光，以執行一顯示驅動功能。
  11. 如請求項10所述之控制方法，其中該第一二極體之第一端為陽極端且第二端為陰極端，該第二二極體之第一端為陽極端且第二端為陰極端，該發光二極體之第一端為陽極端且第二端為陰極端。
  12. 如請求項11所述之控制方法，其中調整該第一電壓、該第二電壓及該第三電壓之電壓值致使該第一二極體操作於逆向偏壓狀態之步驟包括：調整該第一電壓的電壓值為高於該第二電壓的電壓值；調整該第三電壓的電壓值為高於該第二電壓的電壓值；以及調整該第三電壓的電壓值為高於零(0V)，其中該第一二極體、該第二二極體及該發光二極體皆操作於逆向偏壓狀態而操作於該感測模式，且該第一二極體產生的該感測電流的電流大小相關於該入射光之強度。
  13. 如請求項11所述之控制方法，其中調整該第一電壓、該第二電壓及該第三電壓之電壓值致使該發光二極體操作於順向偏壓狀態之步驟包括：調整該第一電壓的電壓值為低於該第二電壓的電壓值減去該第一二極體之臨界電壓；調整該第三電壓的電壓值為低於該第二電壓的電壓值減去該第二二極體之臨界電壓；以及調整該第三電壓的電壓值為低於該發光二極體之臨界電壓之負值， 其中該第一二極體、該第二二極體及該發光二極體皆操作於順向偏壓狀態而操作於該顯示模式，且該發光二極體產生的該出射光的強度相關於該第一電壓的電壓值及該發光二極體之致能時間的長度。
  14. 如請求項10所述之控制方法，其中該第一二極體之第一端為陰極端且第二端為陽極端，該第二二極體之第一端為陰極端且第二端為陽極端，該發光二極體之第一端為陰極端且第二端為陽極端。
  15. 如請求項14所述之控制方法，其中：當操作於該感測模式時，調整該第一電壓、該第二電壓及該第三電壓之電壓值致使該第一二極體、該第二二極體及該發光二極體皆操作於逆向偏壓狀態；以及當操作於該顯示模式時，調整該第一電壓、該第二電壓及該第三電壓之電壓值致使該第一二極體、該第二二極體及該發光二極體皆操作於順向偏壓狀態。
  16. 如請求項10所述之控制方法，更包括：設置一第一電晶體，將該第一電晶體電性連接於該發光二極體之第一端與該接地端之間；施加一第一閘極電壓於該第一電晶體；以及根據該第一閘極電壓控制該發光二極體的電流大小。
  17. 如請求項10所述之控制方法，更包括：設置一第二電晶體，將該第二電晶體電性連接於該第一二極體之第二端；施加一第二閘極電壓於該第二電晶體；以及根據該第二閘極電壓控制該第一二極體的漏電流或偏壓電流。
  18. 一種形成用於光感測及顯示驅動之半導體裝置之製造方法，該製造方法包括：提供一基板；經由熱蒸鍍工序或金屬濺鍍工序於該基板上形成一第一金屬層；蝕刻該第一金屬層，並經由化學氣相沉積工序於該第一金屬層上形成一矽複合層；蝕刻部份的該矽複合層以暴露出該第一金屬層之一第一部份的上表面；於該第一金屬層之被暴露的該第一部份上以及該矽複合層上形成一鈍化保護層；蝕刻部份的該鈍化保護層以暴露出部份的該矽複合層之上表面；於該矽複合層及該鈍化保護層上形成一透明層；蝕刻部份的該透明層以暴露出該鈍化保護層之一第一部份；於該鈍化保護層之被暴露的該第一部份的一側保留該透明層； 於該鈍化保護層及該透明層上形成一第二金屬層；以及選擇性的蝕刻該第二金屬層；其中，蝕刻該第二金屬層以暴露出該透明層，當該半導體裝置操作於一感測模式以執行一光感測功能時，該矽複合層經由該透明層接收一入射光，或者，部份的該第二金屬層覆蓋該透明層，當該半導體裝置操作於一顯示模式時，執行一顯示驅動功能。
  19. 如請求項18所述之製造方法，其中選擇性的蝕刻該第二金屬層之步驟包括：蝕刻部份的該第二金屬層以暴露出該透明層的上表面；以及保留該第二金屬層之一第一部份，該第二金屬層之該第一部份位於該鈍化保護層之該第一部份的一側，其中，該透明層具有一通孔以執行該光感測功能。
  20. 如請求項18所述之製造方法，其中選擇性的蝕刻該第二金屬層之步驟包括：蝕刻部份的該第二金屬層以暴露出該鈍化保護層之該第一部份；以及保留該第二金屬層之一第一部份及一第二部份，其中，該第二金屬層之該第一部份位於該鈍化保護層之該第一部份的一側，並且該第二金屬層之該第二部份覆蓋該透明層。
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