TWI771149B - 指紋感測裝置 - Google Patents
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Abstract
一種指紋感測裝置,包括第一基板、感光結構、第二基板、透鏡層、填充層及第一遮光層。感光結構設置於第一基板的感測區上。第二基板設置於第一基板的對向。透鏡層設置於第二基板上。透鏡層具有多個第一凸部及第一凹部,其中第一凹部設置於多個第一凸部之間且與多個第一凸部相連。填充層設置於透鏡層與感光結構之間。填充層的折射率大於透鏡層的折射率。第一遮光層設置於第二基板與透鏡層之間。第一遮光層的實體重疊於透鏡層的多個第一凸部。第一遮光層的開口重疊於透鏡層的第一凹部。
Description
本發明是有關於一種感測裝置,且特別是有關於一種指紋感測裝置。
指紋感測裝置包括光學式指紋感測裝置。光學式指紋感測的原理如下。手指的指紋是由多條不規則的波峰與波谷所組成。當手指按壓指紋感測裝置時,波峰接觸指紋感測裝置,而波谷不接觸指紋感測裝置。波峰會直接將光束反射至影像擷取元件,進而形成亮區。同時間,照射至波谷的光束會在波谷內進行多次反射,之後才傳遞至影像擷取元件,進而形成暗區。藉此,對應指紋之波峰與波谷的光束會在影像擷取元件的光接收面上形成明暗交錯的條紋圖案,進而取得指紋影像。利用演算法計算對應指紋影像的資訊,便可進行使用者身份的辨識。然而,影像擷取元件的多個感測結構易收到雜散光,使得取像品質不佳,影響使用者的身份辨識。
本發明提供一種指紋感測裝置,性能佳。
本發明的指紋感測裝置,包括第一基板、感光結構、第二基板、透鏡層、填充層及第一遮光層。第一基板具有感測區。感光結構設置於第一基板的感測區上。第二基板設置於第一基板的對向。透鏡層設置於第二基板上,且位於第一基板與第二基板之間。透鏡層具有多個第一凸部及第一凹部。第一凹部設置於多個第一凸部之間且與多個第一凸部相連。填充層設置於透鏡層與感光結構之間。填充層的折射率大於透鏡層的折射率。第一遮光層設置於第二基板與透鏡層之間。第一遮光層的實體重疊於透鏡層的多個第一凸部,且第一遮光層的開口重疊於透鏡層的第一凹部。
在本發明的一實施例中,上述的透鏡層接觸於填充層。
在本發明的一實施例中,上述的填充層具有第一凸部,填入透鏡層的第一凹部。
在本發明的一實施例中,上述的填充層更具有多個第一凹部,且透鏡層的多個第一凸部分別填入填充層的多個第一凹部。
在本發明的一實施例中,上述的指紋感測裝置更包括第二遮光層,設置於第一基板上,且位於填充層與感光結構的感光層之間。填充層的第一凸部重疊於第一遮光層的開口及第二遮光層的開口。
在本發明的一實施例中,上述的第一基板更具有感測區外的顯示區,指紋感測裝置更包括至少一自發光畫素結構,設置於第一基板的顯示區上。填充層更設置於第二基板與至少一自發光畫素結構之間。
在本發明的一實施例中,上述的指紋感測裝置更包括多個彩色濾光圖案,設置於第二基板上,且位於至少一自發光畫素結構上方。填充層設置於多個彩色濾光圖案與至少一自發光畫素結構之間。
在本發明的一實施例中,上述的指紋感測裝置更包括防僞圖案,設置於第二基板上,且位於感光結構上方。防僞圖案之至少一部分的材質與多個彩色濾光圖案之至少一部分的材質相同。
在本發明的一實施例中,上述的指紋感測裝置更包括第三遮光層,設置於第二基板上,且具有重疊於至少一自發光畫素結構的至少一開口。透鏡層更設置於第三遮光層與填充層之間。透鏡層更具有多個第二凸部與至少一第二凹部,其中至少一第二凹部設置於多個第二凸部之間且與多個第二凸部相連。第三遮光層的實體重疊於透鏡層的多個第二凸部,且第三遮光層的至少一開口重疊於透鏡層的至少一第二凹部。
在本發明的一實施例中,上述的填充層更設置於透鏡層與至少一自發光畫素結構之間,填充層更具有多個第二凹部及至少一第二凸部,透鏡層的多個第二凸部分別填入填充層的多個第二凹部,且填充層的至少一第二凸部填入透鏡層的至少一第二凹部。
在本發明的一實施例中,上述的填充層的至少一第二凸部重疊於至少一自發光畫素結構及第三遮光層的至少一開口。
現將詳細地參考本發明的示範性實施例,示範性實施例的實例說明於附圖中。只要有可能,相同元件符號在圖式和描述中用來表示相同或相似部分。
應當理解,當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在另一元件“上”或“連接到”另一元件時,其可以直接在另一元件上或與另一元件連接,或者中間元件可以也存在。相反,當元件被稱為“直接在另一元件上”或“直接連接到”另一元件時,不存在中間元件。如本文所使用的,“連接”可以指物理及/或電性連接。再者,“電性連接”或“耦合”可以是二元件間存在其它元件。
本文使用的“約”、“近似”、或“實質上”包括所述值和在本領域普通技術人員確定的特定值的可接受的偏差範圍內的平均值,考慮到所討論的測量和與測量相關的誤差的特定數量(即,測量系統的限制)。例如,“約”可以表示在所述值的一個或多個標準偏差內,或±30%、±20%、±10%、±5%內。再者,本文使用的“約”、“近似”或“實質上”可依光學性質、蝕刻性質或其它性質,來選擇較可接受的偏差範圍或標準偏差,而可不用一個標準偏差適用全部性質。
除非另有定義,本文使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有與本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的相同的含義。將進一步理解的是,諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的含義,並且將不被解釋為理想化的或過度正式的意義,除非本文中明確地這樣定義。
圖1為本發明一實施例之指紋感測裝置10的剖面示意圖。
請參照圖1,指紋感測裝置10包括第一基板110,具有感測區110b。感測區110b可包括多個感測像素區110b-1。在本實施例中,第一基板110還具有感測區110b外的顯示區110a。顯示區110a可包括多個顯示畫素區110a-1。舉例而言,在本實施例中,第一基板110的材質可為玻璃、石英、有機聚合物、或是不透光/反射材料(例如:晶圓、陶瓷、或其它可適用的材料)、或是其它可適用的材料。
在本實施例中,指紋感測裝置10還包括驅動電路層120,設置於第一基板110上。在本實施例中,驅動電路層120可包括多個感測電路(未繪示)及多個畫素電路(未繪示)。舉例而言,在本實施例中,每一感測電路可包括一讀出電晶體(未繪示)、一讀出線(未繪示)及一閘極線(未繪示),其中讀出電晶體具有第一端、第二端及控制端,讀出線電性連接至讀出電晶體的第一端,且閘極線電性連接至讀出電晶體的控制端;每一畫素驅動電路可包括一顯示電晶體、一資料線及一閘極線,其中顯示電晶體具有第一端、第二端及控制端,資料線電性連接至顯示電晶體的第一端,且閘極線電性連接至顯示電晶體的控制端;但本發明不以此為限。
指紋感測裝置10還包括多個感光結構140,設置於第一基板110的感測區110b上。舉例而言,在本實施例中,多個感光結構140分別設置於多個感測像素區110b-1,每一感光結構140包括感測像素電極(未繪示)、設置於感測像素電極上的一感光層142及設置於感光層142上的感測共用電極(未繪示),其中每一感光結構140的感測像素電極電性連接至對應之一感測電路的讀出電晶體的第二端,但本發明不以此為限。
在本實施例中,指紋感測裝置10還包括多個自發光畫素結構130。在本實施例中,每一自發光畫素結構130包括一畫素電極、一自發光層及一顯示共用電極,畫素電極與顯示共用電極之間的電流或電壓適於使自發光層發光,每一畫素電極電性連接至對應之一畫素電路的顯示電晶體的第二端。舉例而言,在本實施例中,自發光畫素結構130可以是有機電致發光結構。然而,本發明不限於此,在其它實施例中,自發光畫素結構130也可以是微型發光二極體(μLED)元件,或其它種類的自發光元件。
在本實施例中,指紋感測裝置10的多個自發光畫素結構130可選擇性包括第一自發光畫素結構130R、第二自發光畫素結構130G及第三自發光畫素結構130B,分別用以發出第一色光、第二色光及第三色光。在本實施例中,第一色光、第二色光及第三色光可分別是紅光、綠光及藍光,但本發明不以此為限。
在本實施例中,指紋感測裝置10還可選擇性地包括第二遮光層150。第二遮光層150設置於第一基板110的感測區110b上。感光結構140的感光層142位於第二遮光層150與第一基板110之間。第二遮光層150具有實體152及開口154。第二遮光層150的開口154重疊於感光結構140的感光圖案142。舉例而言,在本實施例中,第二遮光層150的材質可以是黑化的金屬,但本發明不以此為限。
指紋感測裝置10還包括第二基板210,設置於第一基板110的對向。第二基板210為透光基板。舉例而言,在本實施例中,第二基板210的材質可為玻璃、石英、有機聚合物、或是其它可適用的材料。
指紋感測裝置10還包括第一遮光層220,設置於第二基板210上,且位於第一基板110的感測區110b上方。第一遮光層220具有實體222及開口224。第一遮光層220的開口224重疊於感光結構140的感光圖案142。舉例而言,在本實施例中,第一遮光層220的材質可以是黑化金屬,但本發明不以此為限。
在本實施例中,第二基板210的外表面210a供一物體(例如:手指指紋;未繪示)觸碰,第一遮光層220及第二遮光層150設置於第一基板110與第二基板210之間且沿著第二基板210指向第一基板110的方向z依序排列,第一遮光層220的開口224面積大於第二遮光層150的開口154面積,第一遮光層220的多個開口224分別對齊於第二遮光層150的多個開口154,以構成多個光通道P。第一遮光層220及第二遮光層150可組成一光準直器。由第一遮光層220的開口224及第二遮光層150的開口154構成的光通道P可供被物體(例如:手指指紋)反射的光線通過,以使被物體反射的光線準確傳遞至對應的感光結構140;第一遮光層220的實體222及第二遮光層150的實體152則用以阻擋雜散光,進而提升指紋感測裝置10的取像品質。
指紋感測裝置10還包括透鏡層230,設置於第二基板210上,且位於第一基板110與第二基板210之間。第一遮光層220設置於第二基板210與透鏡層230之間。透鏡層230具有第一凸部232及第一凹部234。第一凹部234設置於第一凸部232之間且與第一凸部232相連。第一遮光層220的實體222重疊於透鏡層230的第一凸部232。第一遮光層220的開口224重疊於透鏡層230的第一凹部234。
指紋感測裝置10還包括填充層300,至少設置於透鏡層230與感光結構140之間。填充層300的折射率大於透鏡層230的折射率。舉例而言,在本實施例中,填充層300的折射率可為1.7,透鏡層230的折射率可為1.5,但本發明不以此為限。
在本實施例中,填充層300更設置於第二基板210與自發光畫素結構130之間。具體而言,在本實施例中,第二基板210、第一遮光層220及透鏡層230可組成一上基板US,第一基板110、驅動電路層120、自發光畫素結構130、感光結構140及第二遮光層150可組成一下基板DS;於指紋感測裝置10的製造過程中,填充層300可被對組的上基板US及下基板DS擠壓,上基板US的透鏡層230接觸於填充層300,而填充層300填滿上基板US與下基板DS之間的空隙;但本發明不以此為限。
在本實施例中,填充層300具有第一凸部304,填入透鏡層230的第一凹部234。填充層300的第一凸部304與透鏡層230的第一凹部234相接觸且互補。填充層300更具有第一凹部302,且透鏡層230的第一凸部232分別填入填充層300的第一凹部302。填充層300的第一凹部302與透鏡層230的第一凸部232相接觸且互補。
在本實施例中,第二遮光層150位於填充層300與感光結構140的感光層142之間。透鏡層230的第一凹部234重疊於第一遮光層220的開口224及第二遮光層150的開口154。填充層300的第一凸部304重疊於第一遮光層220的開口224及第二遮光層150的開口154。第一遮光層220的實體222及第二遮光層150的實體152遮蔽透鏡層230的第一凸部232。第一遮光層220的實體222及第二遮光層150的實體152遮蔽填充層300的第一凹部302。
值得一提的是,由於填充層300的折射率大於透鏡層230的折射率,因此,由透鏡層230之第一凹部234入射填充層300之第一凸部304的光線在通過透鏡層230與填充層300之間的界面時,會被向內偏折,進而集中在感光結構140的感光層142上。藉此,指紋感測裝置10的取像品質可提升。
在此必須說明的是,下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容,其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例,下述實施例不再重述。
圖2為本發明一實施例之指紋感測裝置10A的剖面示意圖。
圖2的指紋感測裝置10A與圖1的指紋感測裝置10類似,兩者的差異在於:圖2的自發光畫素結構130W與圖1的自發光畫素結構130不同,且圖2的指紋感測裝置10A還包括多個彩色濾光圖案240及防僞圖案250。
請參照圖2,具體而言,在本實施例中,分別設置於多個顯示畫素區110a-1的多個自發光畫素結構130W可均發出白光。指紋感測裝置10A更包括多個彩色濾光圖案240,設置於第二基板210上,且分別位於多個自發光畫素結構130W的上方。填充層300設置於多個彩色濾光圖案240與多個自發光畫素結構130W之間。多個彩色濾光圖案240包括第一彩色濾光圖案240R、第二彩色濾光圖案240G及第三彩色濾光圖案240B。多個自發光畫素結構130W所發出多個白光可分別通過第一彩色濾光圖案240R、第二彩色濾光圖案240G及第三彩色濾光圖案240B,以分別形成不同顏色的第一色光、第二色光及第三色光。在本實施例中,第一彩色濾光圖案240R、第二彩色濾光圖案240G及第三彩色濾光圖案240B例如分別是紅色濾光圖案、綠色濾光圖案及藍色濾光圖案,而第一色光、第二色光及第三色光例如分別是紅光、綠光及藍光,但本發明不以此為限。
圖3為本發明一實施例之防僞圖案250的上視示意圖。
請參照圖2及圖3,指紋感測裝置10A更包括防僞圖案250,設置於第二基板210上且位於感光結構140上方。防僞圖案250之至少一部分的材質與多個彩色濾光圖案240之至少一部分的材質相同。舉例而言,在本實施例中,防僞圖案250包括第一防僞區塊250R(繪示於圖3)、第二防僞區塊250G(繪示於圖3)及第三防僞區塊250B(繪示於圖3),多個感測像素區110b-1的一部分重疊於第一防僞區塊250R、第二防僞區塊250G及第三防僞區塊250B,且第一防僞區塊250R、第二防僞區塊250G及第三防僞區塊250B的材質可分別與第一彩色濾光圖案240R、第二彩色濾光圖案240G及第三彩色濾光圖案240B的材質相同。換言之,在本實施例中,於製作顯示用的彩色濾光圖案240時,可一併製作防僞用的防僞圖案250,但本發明不以此為限。
圖4為本發明一實施例之指紋感測裝置10B的剖面示意圖。
圖4的指紋感測裝置10B與圖2的指紋感測裝置10A類似,兩者的差異在於:圖4的自發光畫素結構130包括分別設置於多個顯示畫素區110a-1的第一自發光畫素結構130R、第二自發光畫素結構130G及第三自發光畫素結構130B,其中第一自發光畫素結構130R、第二自發光畫素結構130G及第三自發光畫素結構130B分別對應第一彩色濾光圖案240R、第二彩色濾光圖案240G及第三彩色濾光圖案240B設置。此外,指紋感測裝置10B還包括第三遮光層260。
請參照圖4,具體而言,在本實施例中,第三遮光層260設置於第二基板210上,第三遮光層260具有實體262及開口264,第三遮光層260的開口264重疊於自發光畫素結構130的畫素電極(未繪示),第三遮光層260的實體262重疊於多個顯示畫素區110a-1的界線。在本實施例中,設置於自發光畫素結構130上方的第三遮光層260與設置於感光結構140上方的第一遮光層220可屬於同一膜層,兩者的材質相同,但本發明不以此為限。
圖5為本發明一實施例之指紋感測裝置10C的剖面示意圖。
圖5的指紋感測裝置10C與圖4的指紋感測裝置10B類似,兩者的差異在於:圖5的自發光畫素結構130W與圖4的自發光畫素結構130不同;圖5的透鏡層230與圖4的透鏡層230不同。
請參照圖5,在本實施例中,分別設置於多個顯示畫素區110a-1的多個自發光畫素結構130W均發出白光。在本實施例中,透鏡層230還設置於第三遮光層260與填充層300之間,透鏡層230更具有第二凸部236與第二凹部238,第二凹部238設置於第二凸部236之間且與第二凸部236相連。第三遮光層260的實體262重疊於透鏡層230的第二凸部236,且第三遮光層260的開口264重疊於透鏡層230的第二凹部238。填充層300更設置於透鏡層230與自發光畫素結構130W之間。填充層300更具有第二凹部306及第二凸部308。透鏡層230的第二凸部236分別填入填充層300的第二凹部306。填充層300的第二凸部308填入透鏡層230的第二凹部238。
值得注意的是,填充層300的第二凸部308重疊於自發光畫素結構130及第三遮光層260的開口264。由於填充層300的折射率大於透鏡層230的折射率,因此,自發光畫素結構130發出的光線在通過透鏡層230與填充層300之間的界面時,會被向內偏折,進而往正視方向集中。藉此,指紋感測裝置10的顯示區110a的正視亮度可提升。
10、10A、10B、10C:指紋感測裝置
110:第一基板
110a:顯示區
110a-1:顯示畫素區
110b:感測區
110b-1:感測像素區
120:驅動電路層
130、130W:自發光畫素結構
130R:第一自發光畫素結構
130G:第二自發光畫素結構
130B:第三自發光畫素結構
140:感光結構
142:感光層
150:第二遮光層
152:實體
154:開口
210:第二基板
210a:外表面
220:第一遮光層
222:實體
224:開口
230:透鏡層
232:第一凸部
234:第一凹部
236:第二凸部
238:第二凹部
240:彩色濾光圖案
240R:第一彩色濾光圖案
240G:第二彩色濾光圖案
240B:第三彩色濾光圖案
250:防僞圖案
250R:第一防僞區塊
250G:第二防僞區塊
250B:第三防僞區塊
260:第三遮光層
262:實體
264:開口
300:填充層
302:第一凹部
304:第一凸部
306:第二凹部
308:第二凸部
DS:下基板
P:光通道
US:上基板
z:方向
圖1為本發明一實施例之指紋感測裝置10的剖面示意圖。
圖2為本發明一實施例之指紋感測裝置10A的剖面示意圖。
圖3為本發明一實施例之防僞圖案250的上視示意圖。
圖4為本發明一實施例之指紋感測裝置10B的剖面示意圖。
圖5為本發明一實施例之指紋感測裝置10C的剖面示意圖。
10:指紋感測裝置
110:第一基板
110a:顯示區
110a-1:顯示畫素區
110b:感測區
110b-1:感測像素區
120:驅動電路層
130:自發光畫素結構
130R:第一自發光畫素結構
130G:第二自發光畫素結構
130B:第三自發光畫素結構
140:感光結構
142:感光層
150:第二遮光層
152:實體
154:開口
210:第二基板
210a:外表面
220:第一遮光層
222:實體
224:開口
230:透鏡層
232:第一凸部
234:第一凹部
300:填充層
302:第一凹部
304:第一凸部
DS:下基板
P:光通道
US:上基板
z:方向
Claims (11)
- 一種指紋感測裝置,包括: 一第一基板,具有一感測區; 一感光結構,設置於該第一基板的該感測區上; 一第二基板,設置於該第一基板的對向; 一透鏡層,設置於該第二基板上,且位於該第一基板與該第二基板之間,其中該透鏡層具有多個第一凸部及一第一凹部,該第一凹部設置於該些第一凸部之間且與該些第一凸部相連; 一填充層,設置於該透鏡層與該感光結構之間,其中該填充層的折射率大於該透鏡層的折射率;以及 一第一遮光層,設置於該第二基板與該透鏡層之間,其中該第一遮光層的實體重疊於該透鏡層的該些第一凸部,且該第一遮光層的一開口重疊於該透鏡層的該第一凹部。
- 如請求項1所述的指紋感測裝置,其中該透鏡層接觸於該填充層。
- 如請求項1所述的指紋感測裝置,其中該填充層具有一第一凸部,填入該透鏡層的該第一凹部。
- 如請求項3所述的指紋感測裝置,其中該填充層更具有多個第一凹部,且該透鏡層的該些第一凸部分別填入該填充層的該些第一凹部。
- 如請求項3所述的指紋感測裝置,更包括: 一第二遮光層,設置於該第一基板上,且位於該填充層與該感光結構的一感光層之間,其中該填充層的該第一凸部重疊於該第一遮光層的該開口及該第二遮光層的一開口。
- 如請求項1所述的指紋感測裝置,其中該第一基板更具有該感測區外的一顯示區,該指紋感測裝置更包括: 至少一自發光畫素結構,設置於該第一基板的該顯示區上,其中該填充層更設置於該第二基板與該至少一自發光畫素結構之間。
- 如請求項6所述的指紋感測裝置,更包括: 多個彩色濾光圖案,設置於該第二基板上,且位於該至少一自發光畫素結構上方,其中該填充層設置於該些彩色濾光圖案與該至少一自發光畫素結構之間。
- 如請求項7所述的指紋感測裝置,更包括: 一防僞圖案,設置於該第二基板上,且位於該感光結構上方,其中該防僞圖案之至少一部分的材質與該些彩色濾光圖案之至少一部分的材質相同。
- 如請求項6所述的指紋感測裝置,更包括: 一第三遮光層,設置於該第二基板上,且具有重疊於該至少一自發光畫素結構的至少一開口; 其中,該透鏡層更設置於該第三遮光層與該填充層之間,該透鏡層更具有多個第二凸部與至少一第二凹部,該至少一第二凹部設置於該些第二凸部之間且與該些第二凸部相連; 該第三遮光層的實體重疊於該透鏡層的該些第二凸部,且該第三遮光層的該至少一開口重疊於該透鏡層的該至少一第二凹部。
- 如請求項9所述的指紋感測裝置,其中該填充層更設置於該透鏡層與該至少一自發光畫素結構之間,該填充層更具有多個第二凹部及至少一第二凸部,該透鏡層的該些第二凸部分別填入該填充層的該些第二凹部,且該填充層的該至少一第二凸部填入該透鏡層的該至少一第二凹部。
- 如請求項10所述的指紋感測裝置,其中該填充層的該至少一第二凸部重疊於該至少一自發光畫素結構及該第三遮光層的該至少一開口。
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