TWI770309B - 檢查器、液體供給裝置及保護膜被覆裝置 - Google Patents

Abstract

[課題]檢查在管路流動的液體中有無氣泡。 　　[解決手段]其係被配設在成為液體之流路的管路的檢查器，具備：被配設在該管路之上游側、下游側的兩個超音波振動子，和被電性連接於該兩個超音波振動子的控制部，該控制部具有振幅算出部、判定部和振幅範圍註冊部，振幅算出部係從波形資訊算出該第1超音波之振幅，該波形資訊係藉由在該兩個超音波振動子之另一方觀測在該兩個超音波振動子之一方產生且在該管路流動之液體中傳播的第1超音波而被獲得，在該振幅範圍註冊部註冊有在混入有氣泡之該液體中傳播的超音波之振幅的範圍，該判定部係在該振幅算出部算出之該第1超音波之振幅被註冊在該振幅範圍註冊部之該振幅之範圍內之情況，判定在該液體混入有氣泡。

Description

檢查器、液體供給裝置及保護膜被覆裝置

本發明係關於檢查在管路流動之液體的檢查器、具備該檢查器之液體供給裝置和具備該液體供給裝置的保護膜被覆裝置。

在具備對半導體晶圓或板狀基板等之被加工物進行加工的加工單元的加工裝置中，對該被加工物或該加工單元供給各種液體或液狀混合物。該加工裝置包含具備該液體等之供給源、吐出該液體等之吐出口，和連接該供給源及該吐出口之管路的液體供給裝置(液體供給單元)。在該加工裝置中，為了使該加工裝置適當地運轉，特定溫度及濃度之該液體等以特定之流量及流速在該管路流動。

作為測量在該管路流動之該液體等之流量及流速的測量器，被配置在該管路的超音波流量計為已知(參照專利文獻1及專利文獻2)。該超音波流量計係藉由比較使超音波傳播至成為在該管路內流動之測量對象的該液體等之中，從上游側傳播至下游側之超音波的速度，和從下游側傳播至上游側之超音波的速度，測量該液體之流速，從該流速算出流量。

然而，在該加工裝置使用的該液體等為例如純水、或酸性溶液、鹼溶液、其他溶液等之液體。該液體也包含使漿液(懸濁液)等之固定粒子分散之液狀混合物。

再者，該液體係為了防止例如由於對該被加工物進行雷射加工之時產生的殘餘物等而導致該被加工物之表面受到污染之情形，被塗佈在該表面的液狀樹脂。當液狀樹脂以保護膜被覆裝置被塗佈在被加工物之表面時，在被加工物之表面形成由液狀樹脂所形成的保護膜。使用如此的各種液體之加工裝置為已知(參照專利文獻3及專利文獻4)。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2011-7763號公報 　　[專利文獻2]日本特開2015-206593號公報 　　[專利文獻3]日本特開2003-257905號公報 　　[專利文獻4]日本特開2010-194672號公報

[發明所欲解決之課題]

在該液體供給裝置之該管路流動的該液體有混入氣泡的情形。當在該管路流動的該液體中混入氣泡時，有無法將該液體以特定條件供給至該加工裝置之特定處之情形。再者，當在該液體混入氣泡時，無法以檢查器正確地量測該液體之流速、流量等，無法正確地控制該液體之流速或流量等之情形。

再者，在被塗佈於該被加工物之表面的該液狀樹脂在該管路流動的保護膜被覆裝置中，當在該液狀樹脂混入氣泡時，也在被形成在該被加工物上的保護膜殘留氣泡。當在保護膜存在氣泡時，有雷射光束被照射至該保護膜之氣泡部分，或由於雷射加工產生的殘餘物到達至該氣泡部分之情形。即是，該被加工物之表面無被適當地保護。

因此，在該管路流動的液體混入有氣泡之情況，需要盡快地檢測出該氣泡。

本發明係鑑於如此之問題點而創作出，其目的在於提供可以檢查在管路流動之液體中有無氣泡之檢查器，和具備該檢查器之液體供給裝置，和具備該液體供給裝置之保護膜被覆裝置。 [用以解決課題之手段]

當藉由本發明之一態樣時，提供一種檢查器，其係被配設在成為液體之流路的管路，該檢查器之特徵在於，具備：被配設在該管路之上游側、下游側的兩個超音波振動子，和被電性連接於該兩個超音波振動子的控制部，該控制部具有振幅算出部、判定部和振幅範圍註冊部，振幅算出部係從波形資訊算出該第1超音波之振幅，該波形資訊係藉由在該兩個超音波振動子之另一方觀測在該兩個超音波振動子之一方產生且在該管路流動之液體中傳播的第1超音波而被獲得，在該振幅範圍註冊部註冊有在混入有氣泡之該液體中傳播的超音波之振幅的範圍，該判定部係在該振幅算出部算出之該第1超音波之振幅被註冊在該振幅範圍註冊部之該振幅之範圍內之情況，判定在該液體混入有氣泡。

再者，在本發明之一態樣中，即使該控制部進一步具有傳播時間算出部，和傳播時間範圍註冊部，在該液體溶解或分散有物質，該傳播時間算出部係從波形資訊算出該第1超音波之傳播時間，該波形資訊係藉由在該兩個超音波振動子之該另一方觀測在該兩個超音波振動子之該一方產生且在該管路流動之液體中傳播的該第1超音波，從波形資訊算出該第2超音波之傳播時間，該波形資訊係藉由在該兩個超音波振動子之該一方觀測在該兩個超音波振動子之該另一方產生且在該管路流動之液體中傳播的第2超音波，將該第1超音波之傳播時間和該第2超音波之傳播時間予以平均而算出平均傳播時間，在該傳播時間範圍註冊部，註冊有在物質以非特定濃度的濃度溶解或分散之該液體中傳播的超音波之平均傳播時間之範圍，該判定部在不判定在該液體混入有氣泡，該傳播時間算出部所算出的該平均傳播時間在被註冊於該傳播時間範圍註冊部之該平均傳播時間的範圍內之情況，判定成該液體之濃度非特定濃度亦可。

並且，即使在本發明之一態樣中，進一步具有測量該液體之溫度的液體溫度測量器，該液體溫度測量器測量在該管路流動之液體的溫度，將該液體之溫度傳達至該判定部，該判定部參照該液體之溫度而對判定之內容進行補正亦可。

再者，具備有該管路，和被連接於該管路之一端的該液體之供給源，和從該液體之供給源對該管路之另一端供給該液體之泵浦，和被設置在該管路之與本發明之一態樣有關之檢查器的液體供給裝置也係本發明之一態樣。並且，一種保護膜被覆裝置也係本發明之一態樣，其係在晶圓之表面被覆液狀樹脂而形成保護膜，該保護膜被覆裝置之特徵在於，具備：保持晶圓之能夠旋轉的挾盤載置台，和對被保持於該挾盤載置台之晶圓之表面供給該液狀樹脂之與本發明之一態樣有關的液體供給裝置。 [發明效果]

與本發明之一態樣有關之檢查器被配設在流動成為檢查對象之液體的管路，該檢查器具有被配設在該管路之上游側及下游側的兩個超音波振動子，和被電性連接於該兩個超音波振動子的控制部。在該檢查器中，以一方之超音波振動子使超音波振產生，使另一方之超音波振動子觀測在管路流動之液體中傳播的該超音波，振幅算出部算出被觀測到之該超音波之振幅。

當在該管路流動之液體混入氣泡時，在該液體中傳播之超音波之傳達路徑相應地減少，被觀測到之超音波的振幅下降。與本發明之一態樣有關之檢查器之控制器所具備的振幅範圍註冊部，註冊有在混入有氣泡之該液體中傳播的超音波之振幅的範圍。而且，該控制部具有的判定部在該振幅算出部所算出之該超音波之振幅在被註冊於該振幅範圍註冊部之該振幅的範圍內之情況，判定成在該液體混入有氣泡。

因此，例如，當將與本發明之一態樣有關之檢查器組裝於液體供給裝置時，可以檢測出在該液體供給裝置之管路中混入氣泡。

因此，當藉由本發明之一態樣時，提供可以檢查在管路流動之液體中有無氣泡之檢查器，和具備該檢查器之液體供給裝置，和具備該液體供給裝置之保護膜被覆裝置。

參照附件圖面，針對與本發明之一態樣有關之實施型態予以說明。與本實施型態有關之檢查器例如在對半導體晶圓等之被加工物進行加工之加工裝置中，被組裝於對加工單元或該被加工物供給各種液體的液體供給裝置。該液體供給裝置具備成為該液體之送液路的管路，該檢查器被配設在該管路。該檢查器可以檢查在該管路中流動之液體中有無氣泡混入。

該液體係例如純水、酸性溶液、鹼溶液、其他之溶液等。該液體也包含使漿液(懸濁液)等之固定粒子分散之液狀混合物。或是，該液體係後述的水溶性之液狀樹脂。鹼溶液係例如氫氧化鉀、氫氧化鈉、氫氧化四甲銨、碳酸鉀、碳酸氫鈉或碳酸氫鉀中之任一者或複數溶解的溶液。

接著，針對具備用以對特定處供給液體之管路，和該檢查器的液體供給裝置之一例，使用圖1予以說明。圖1為示意性表示液體供給裝置2之圖示。該液體供給裝置2具備該管路12、被連接於該管路12之一端的該液體的供給源14，和從該液體之供給源14對該管路12之另一端供給該液體之泵浦16。該液體供給裝置2具有對以加工裝置被加工之晶圓10供給被收容於該液體之供給源14之液體8的功能。

被設置在該管路12之該另一端的液體吐出部6被配設在保持該晶圓10等之被加工物的挾盤載置台4之上方。該液體吐出部6具有對被保持於該挾盤載置台4之晶圓10等，吐出通過該管路12而從該液體之供給源14被供給的液體8之功能。該液體吐出部6係對該晶圓10等之表面供給例如水溶性之液狀樹脂作為液體8。

當將在表面形成有複數裝置之晶圓10分割成每個該裝置時，可以形成複數裝置晶片。於分割該晶圓10時，對該晶圓10之特定加工預定位置照射該晶圓10具有吸收性之波長的雷射光束，藉由剝蝕加工在晶圓10形成加工溝。當對晶圓10進行剝蝕加工時，雖然產生被稱為殘餘物之加工屑而飛散至該晶圓10之表面，但是當在該晶圓10之表面附著殘餘物時，要除去並不容易。

於是，在實施剝蝕加工之前事先對該晶圓10之表面供給該水溶性之液狀樹脂，在該晶圓10之表面形成保護膜。如此一來，因在剝蝕加工產生的剩餘物附著於該保護膜上，故在該晶圓10不直接附著剩餘物。之後，當以包含水的洗淨液洗淨該晶圓10之表面時，因殘餘物連同該保護膜一起被沖洗，各在該晶圓10之表面難殘存殘餘物。即是，該晶圓10之表面藉由該保護膜避免受到殘餘物的影響。

在流動該液狀樹脂等之液體8的該管路12中，有在該液體8中混入氣泡之情形。混入有氣泡之液體8被供給至該晶圓10而形成保護膜時，在該保護膜也殘留氣泡。當雷射光束被照射至保護膜之氣泡部分，或藉由雷射加工產生的殘餘物到達至該氣泡部分時，殘餘物則附著於晶圓10之表面。即是，當在該管路12流動之液體8中混入氣泡時，無法以該保護膜適當地保護該晶圓10之表面。

再者，在管路12流動該液狀樹脂以外之液體之情況，也有在該管路12流動之液體8中混入氣泡的情形。當在該液體8中混入有氣泡時，有無法以流量計等正確地量測該液體8之流速、流量等，無法正確地控制該液體8之流速或流量等之情形。再者，當在物質溶解或分散之液體8混入氣泡時，有無法高精度測量在該管路12流動之該液體8之濃度的情形。

於是，在該管路12配設與本實施型態有關之檢查器18。該檢查器18具有檢查在該管路12內流動的液體8，在該液體8混入有氣泡之時，檢測出該氣泡之混入的功能。以下，針對該檢查器18予以詳細敘述。

該檢查器18具備被配設在液體8流動的該管路12之上游側、下游側的兩個超音波振動子22a、22b，和被電性連接於該兩個超音波振動子22a、22b之控制部24。圖2為示意性表示被配設在管路12之檢查器18的剖面圖。圖2示意性地表示該控制部24之構成例。

兩個該超音波振動子22a、22b可以產生超音波而使該超音波傳播至在管路12流動之液體8中。再者，該超音波振動子22a、22b可以觀測傳播至該超音波振動子22a、22b之超音波。

例如，當在該兩個超音波振動子22a、22b之一方產生超音波時，該超音波傳播至在管路12流動的液體8。可以該兩個超音波振動子22a、22b之另一方觀測傳播至該液體中之超音波。同樣地，當在該兩個超音波振動子22a、22b之該另一方產生超音波時，可以以該兩個超音波振動子22a、22b之該一方觀測該超音波。

該檢查器18進一步具有被電性連接於該兩個超音波振動子22a、22b之控制部24。該控制部24控制根據檢查器18的超音波之測量。該控制部24具有被電性連接於該兩個該超音波振動子22a、22b之切換部26。該切換部26具有切換使產生超音波之超音波振動子22a、22b，和觀測該超音波之超音波振動子22a、22b的功能。

該切換部26被電性連接於電源28，將該電源28連接於兩個超音波振動子22a、22b之一方而使該超音波振動子產生超音波。再者，該切換部26被電性連接於放大器30，將兩個超音波振動子22a、22b之另一方連接於該放大器30。到達至該超音波振動子之另一方的該超音波，被轉換成包含波形資訊的電訊號，該電訊號被送至該放大器30。該電訊號包含例如該超音波被轉換成電壓值的波形資訊。

該放大器30被電性連接於該檢查器18之算出部32，放大包含該波形資訊的電訊號而送至該算出部32。該算出部32具備振幅算出部34、判定部36、振幅範圍註冊部38、傳播時間算出部40、傳播時間範圍註冊部42、被連接於測量該液體8之溫度的液體溫度測量器44的液體溫度算出部46。包含以該放大器30被放大的波形資訊的電訊號被傳達至算出部32之該振幅算出部34，和該傳播時間算出部40。

該傳播時間算出部40係從波形資訊算出該超音波之傳播時間作為第1傳播時間，該波形資訊係藉由在該兩個超音波振動子之另一方觀測在該兩個超音波振動子之一方產生且在該管路12流動之液體8中傳播的超音波(第1超音波)而被獲得。並且，該傳播時間算出部40係從波形資訊算出該超音波之傳播時間作為第2傳播時間，該波形資訊係藉由在該兩個超音波振動子之該一方觀測在該兩個超音波振動子之該另一方產生且在該管路12流動之液體8中傳播的超音波(第2超音波)而被獲得。

圖3(A)係示意性地表示以兩個超音波振動子22a、22b觀測的超音波之波形的之一例的圖示。圖3(A)係示意性地表示在上游側之超音波振動子產生，且以下游側之超音波振動子觀測的超音波之波形48之一例。再者，圖3(A)係示意性地表示在下游側之超音波振動子產生，且以上游側之超音波振動子觀測的超音波之波形50之一例。

該兩個超音波振動子22a、22b包含壓電元件，到達至該超音波振動子22a、22b之超音波藉由該壓電元件被轉換成反映超音波之振幅的電壓之電訊號。例如，該圖示之橫軸表示超音波之傳播時間，該圖示之縱軸表示超音波之振幅(強度)的觀測電壓值。

因在管路12流動之液體8從上游側朝下游側以特定流速流動，故在管路12流動之液體8中傳播之超音波之速度受到該液體8之流動的影響。例如，從上游側傳播至下游側之超音波之傳播速度，較在靜止之該液體8中傳播之超音波之傳播速度快，從下游側傳播至上游側之超音波之傳播速度較在靜止之該液體8中傳播之超音波之傳播速度慢。

因此，第1傳播時間52較第2傳播時間54小。在管路12流動之液體8之流速越快，在該液體8中傳播之超音波之傳播時間之差越大。該傳播時間算出部40係將所算出的該第1傳播時間52、該第2傳播時間54之平均，作為平均傳播時間56而予以算出。該傳播時間算出部40被連接於該判定部36，將所算出的該平均傳播時間56傳達至該判定部36。

在管路12流動物質溶解或分散之液體8之情況，因在該液體8中傳播之超音波之傳播速度藉由該液體8之濃度變化，故藉由監視在液體8中傳播之超音波之傳播時間，可以檢測出該液體8之濃度異常的產生。在傳播時間範圍註冊部42，註冊有在物質以非特定濃度的濃度溶解或分散之該液體8中傳播之超音波之傳播時間之範圍，例如註冊有該平均傳播時間56之範圍。

該傳播時間範圍註冊部42，註冊有在物質以非特定濃度的濃度溶解或分散之該液體8中傳播之超音波之傳播時間之範圍，例如註冊有該平均傳播時間36之範圍。在該平均傳播時間56在被註冊於該傳播時間範圍註冊部42之該傳播時間的範圍之情況，該判定部36可以判定該液體8之濃度非特定濃度，該液體8之濃度產生異常。

另外，被註冊於該傳播時間範圍註冊部42之超音波之傳播時間的範圍不限定於該液體8之濃度為異常之情況的該超音波之傳播時間的範圍。在該傳播時間註冊部42，例如註冊該液體8之濃度為正常之情況的超音波之傳播時間的範圍，該傳播時間範圍註冊部42即使將該超音波之傳播時間的範圍傳達至該判定部36亦可。在此情況下，該判定部36在該平均傳播時間56偏離該傳播時間之範圍之情況，判定該液體8之濃度非特定濃度且在該液體8產生異常。

再者，被註冊於該傳播時間範圍註冊部42之超音波之傳播時間的範圍，即使非該平均傳播時間56，而係註冊第1傳播時間52或第2傳播時間54之正常時間或異常時之範圍亦可。因藉由使該液體8流至管路12之泵浦16，決定該液體8之流速，故在藉由該泵浦16之運轉狀態，判明該液體8之流速之情況，將該液體8之該流速列入考慮而可以檢測出該液體8之異常的產生。

另外，在該液體8中傳播之超音波之傳播速度亦藉由該液體8之溫度而變化，故當在判定時也考慮該液體8之溫度時，可以以高精度檢測該液體之異常。該液體8之溫度藉由該液體溫度測量器44被測量。該液體溫度測量部44例如為溫度計。該液體溫度算出部46使該液體溫度測量器44測量在管路12流動之液體8之溫度，將所獲得的該液體8之溫度傳達至該判定部36。

該液體溫度測量器44被配設在例如該管路12之外表面。在此情況，為了抑制外部環境所致的影響，以隔熱材等覆蓋該液體溫度測量器44為佳。再者，即使該體溫度測量器44被配設在該管路12亦可，即使被配設在例如液體之供給源14或液體吐出部6亦可。

另外，即使該液體8之溫度的測量藉由兩個超音波振動子22a、22b和控制部24利用超音波而予以實施亦可。例如，該控制部24係藉由測量在該管路12流動之液體8中傳播的超音波，算出該超音波之傳播速度，從該傳播速度算出該液體8之溫度。

振幅算出部34係從該波形資訊算出該超音波之振幅，該波形資訊係藉由在該兩個超音波振動子22a、22b之該另一方觀測在該兩個超音波振動子22a、22b之該一方產生且在該管路12流動之液體8中傳播之該超音波而獲得。該振幅算出部34被連接於該判定部36，將所算出的該超音波之振幅傳達至該判定部36。

另外，振幅算出部34係從該波形資訊算出該超音波之振幅，該波形資訊係藉由在該兩個超音波振動子22a、22b之該一方觀測在該兩個超音波振動子22a、22b之該另一方產生且在該管路12流動之液體8中傳播之該超音波而獲得。再者，即使該振幅算出部34算出被觀測到之兩個該超音波之振幅的平均而作為超音波之振幅亦可。

圖3(B)係示意性地表示振幅不同之兩個超音波之波形的圖示。在此，該超音波之振幅設為被觀測到之該超音波之強度(電壓值)之絕對值之最大值。例如，在該圖3(B)中，在上側表示之超音波之波形58的振幅62a大於在下側表示之超音波之波形60的振幅62b。

當在該管路12流動之液體8中混入氣泡20時，因在該液體8中傳播之超音波之傳播路徑變少，故比起在該液體8中無產生氣泡20之情況，以振幅算出部34被算出之該超音波之振幅變小。因此，藉由監視以該振幅算出部34被算出的該超音波之振幅，可以檢測出該液體8中混入氣泡20。

該振幅範圍註冊部38註冊在混入有氣泡20之該液體8中傳播之該超音波之振幅的範圍，將該超音波之振幅的範圍傳達至該判定部36。如此一來，在該液體8混入有氣泡之時，該判定部36可以檢測該氣泡之混入。

另外，被註冊於該振幅範圍註冊部38之超音波之振幅的範圍，不限於在混入有氣泡20之該液體8中傳播之超音波之振幅的範圍。即使在該振幅範圍註冊部38註冊例如在無混入有氣泡20之該液體8中傳播之超音波之振幅的範圍，該振幅範圍註冊部38將該超音波之振幅的範圍傳達至該判定部36亦可。在此情況下，該判定部36在管路12流動之液體8中傳播之超音波之振幅偏離該超音波之振幅的範圍之情況，檢測該液體8混入有氣泡之情形。

該判定部36被連接於該振幅算出部34、該振幅範圍註冊部38、該傳播時間算出部40、該傳播時間範圍註冊部46和該液體溫度算出部46。

在該判定部36，在管路12流動之液體8中傳播的超音波之振幅從該振幅算出部34被傳達，在混入有氣泡20之該液體8中之超音波之振幅的範圍從該振幅範圍註冊部38被傳達。該判定部36判定從該振幅算出部34被傳達的該振幅是否在從該振幅範圍註冊部38被傳達之該範圍內，該振幅為該範圍內之情況，判定在該液體8混入有氣泡。與本實施型態有關之檢查器18如此地可以檢測出在管路12流動之液體8中之氣泡產生。

該判定部36例如被連接於組裝有該液體供給裝置2之加工裝置之控制部或顯示部等，當檢測出液體8中混入氣泡之時，將該混入氣泡通報至該加工裝置之操作員，或是使該加工裝置之運轉停止。因此，可以防止在液體8混入有氣泡之情況下仍將該液體8從該液體吐出部6等被供給之情形。

再者，在該判定部36，從該傳播時間算出部40傳達在管路12流動之液體8中傳達之超音波之平均傳播時間，從該傳播時間範圍註冊部46傳達在物質以非特定濃度的濃度溶解或分散之該液體8中傳播之超音波之傳播時間的範圍。該判定部36判定從該傳播時間算出部40被傳達之該超音波之平均傳播時間56是否為從該傳播時間範圍註冊部46被傳達之該範圍內。而且，在該平均傳播時間56為該範圍內之情況，判定該液體8之濃度為異常。

在該判定部36，從該液體溫度算出部46被傳達該液體8之溫度。因在該液體8中傳播之超音波之傳播速度不僅該液體8之濃度，也藉由溫度而變化，故該判定部36將該液體8之溫度列入考量而判定該液體8之濃度有無異常。

在該液體8中混入有氣泡之情況，有即使觀測在該液體8中傳播之超音波，亦無法正確地檢測該液體8之濃度之異常的情況。在與本實施型態有關之檢查器18中，因在確認在該液體8中無混入有氣泡之情形，並且可以判定該濃度有無異常，可以更提高該濃度異常檢測之精度。

在檢測出該液體8之濃度異常之情況，該判定部36將其主旨傳達至組裝有該液體供給裝置2之該加工裝置之控制部或顯示部，將該濃度之異常通報至該加工裝置之操作員，再者，使該加工裝置之運轉停止。

另外，在該管路12流動之該液體8之種類錯誤之情況，或該液體8劣化之情況等，即使在該液體8產生濃度以外之異常之情況，亦有在該液體8中傳播之超音波之傳播速度出現其影響之情況。該判定部36即使同樣地檢測該濃度以外之異常產生亦可。再者，即使在物質等不溶解或分散的純粹液體8之情況，檢測出超音波之傳播速度而檢測出異物之混入或液體之種類錯誤亦可。

接著，針對組裝配設有與本實施型態有關之檢查器18之液體供給裝置2的加工裝置之例予以說明。該加工裝置係例如藉由雷射光束對例如以半導體等所構成之晶圓進行加工的雷射加工裝置。圖4係示意性地表示雷射加工裝置64作為該液體供給裝置2之加工裝置之一例的斜視圖。

在支持該雷射加工裝置64之各構成要素的裝置基台66之角部，設置有卡匣載置台68。在該卡匣載置台68，載置收容實施雷射加工前之晶圓10的卡匣70。該雷射加工裝置64具備導軌72，和無圖示之搬入搬出裝置，該搬入搬出裝置係沿著該導軌72從該卡匣70搬出該晶圓10。

在該裝置基台66上面，具備保持該晶圓10之挾盤載置台88，和使該挾盤載置台88移動之移動機構，和被配設在該挾盤載置台88之上方的雷射加工單元94。

在該裝置基台66之上面，具備與Y軸方向平行之一對Y軸導軌74，和Y軸滾珠螺桿78，和Y軸脈衝馬達80，在Y軸導軌74以能夠滑動之方式安裝有Y軸移動板76。

在Y軸移動板76之下面側，設置螺帽部(無圖示)，在該螺帽部，螺合與該Y軸導軌74平行之該Y軸滾珠螺桿78。Y軸滾珠螺桿78之一端部連結該Y軸脈衝馬達80。當以該Y軸脈衝馬達80使該Y軸滾珠螺桿78旋轉時，Y軸移動板76沿著Y軸導軌74而在Y軸方向移動。

在Y軸移動板76之上面，具備與X軸方向平行之一對X軸導軌82，和X軸滾珠螺桿86，和X軸脈衝馬達80(無圖示)，在X軸導軌82以能夠滑動之方式安裝有X軸移動板84。

在X軸移動板84之下面側，設置螺帽部(無圖示)，在該螺帽部，螺合與該X軸導軌82平行之該X軸滾珠螺桿86。X軸滾珠螺桿86之一端部連結該X軸脈衝馬達。當以X軸脈衝馬達使X軸滾珠螺桿86旋轉時，支持該挾盤載置台88之X軸移動板84沿著X軸導軌82在X軸方向移動。

被支持於該X軸移動板84知該挾盤載置台88之上面成為保持該晶圓10的保持面。該挾盤載置台88在內部具備一端通往該挾盤載置台88之該保持面，另一端被連接於無圖示之吸引源的吸引路(無圖示)。在該保持面之外周側，設置有把持該晶圓10之夾具90。當在該保持面上載置晶圓10，使該吸引源作動時，在該晶圓10作用負壓，該晶圓10被吸引保持於挾盤載置台88。

該挾盤載置台88例如在X軸方向加工進給，在該Y軸方向分度進給。並且，該挾盤載置台88可以繞與該保持面垂直之軸旋轉，切換被保持於該挾盤載置台88之晶圓10對該雷射加工單元94的移動方向。

在裝置基台66之後部豎立設置支持部92，在該支持部92之前面配設有該雷射加工單元94。該雷射加工單元94具備加工頭96，具有使該晶圓10具有吸收性之波長之雷射光束振盪而從該加工頭96對被保持於該挾盤載置台88之該晶圓10照射該雷射光束之功能。

當一面對晶圓10照射雷射光束一面使該晶圓10在X軸方向移動時，該晶圓10被剝蝕加工，而在該晶圓10之表面形成沿著X軸之加工溝。

在該裝置基台66之該卡匣載置台68之附近，設置有洗淨雷射加工後之晶圓10之表面的洗淨單元100。該洗淨單元100係對被實施雷射加工之晶圓10之表面供給洗淨液，將在該雷射加工中產生的被稱為殘餘物的加工屑連同以接下來說明之水溶性液狀樹脂所形成的保護膜一起除去。

在該洗淨單元100之附近設置有液狀樹脂塗佈單元98。該液狀樹脂塗佈單元98係在實施雷射加工之前的晶圓10之表面塗佈水溶性之液狀樹脂而在該晶圓10之表面形成保護膜的保護膜被覆裝置。該保護膜係被覆該晶圓10之表面，防止藉由雷射加工產生的殘餘物直接附著於該晶圓10之表面。

該液狀樹脂塗佈單元98具備保持該晶圓10之挾盤載置台4，和對被保持在該挾盤載置台4之晶圓之表面供給該水溶性之液狀樹脂的液體供給裝置2。該挾盤載置台4被構成與上述挾盤載置台88相同。

液體供給裝置2被收容在該裝置基台66之內部，具備收容被供給至該液狀樹脂塗佈單元98之水溶性之液狀樹脂的液體供給源14，和被連接於該液體之供給源14及該液狀樹脂塗佈單元98之管路12，和泵浦16(參照圖1)。

該液體供給裝置2進一步具備被配設在該挾盤載置台4之上方的液體吐出部6。該水溶性之液狀樹脂藉由泵浦16之功能通過該管路12從該液體之供給源14被供給至該液體吐出部6，從該液體吐出部6供給至被保持於該挾盤載置台4之晶圓10之表面。

因在該液體供給裝置2之該管路12，設置有與本實施型態有關之檢查器18，故即使在該管路12流通之該水溶性之液狀樹脂中混入有氣泡之情況，亦可以檢測出該混入。因此，可以防止在該晶圓10之表面混入有氣泡之該水溶性之液狀樹脂被供給之情形。

再者，該裝置基台66即使具備對該洗淨單元100供給純水等之洗淨液之其他液體供給裝置亦可。該其他液體供給裝置例如即使與被連接於該液狀樹脂塗佈單元98之該液體供給裝置2相同具備與本實施型態有關之檢查器18亦可。

在此，針對在該液狀樹脂塗佈單元98被實施之該液狀樹脂之塗佈，使用圖5(A)予以說明。圖5(A)係示意性表示根據液狀樹脂塗佈單元98之液狀樹脂之塗佈的剖面圖。

如圖5(A)所示般，在該晶圓10之背面10b，黏貼例如在以金屬等所形成之環狀框架10d之開口部被拉伸的膠帶10c。該晶圓10在該環狀框架10d，和該膠帶10c成為一體之框架單元之狀態下被收容在該卡匣70，從該卡匣70被搬出而被加工。

從該卡匣70搬出該晶圓10之後，使該晶圓10之背面10b側朝下方，在該液狀塗佈單元98之該挾盤載置台4之上隔著該膠帶10c載置該晶圓10。使該挾盤載置台4之吸引源作動而吸引該晶圓10，並且使該挾盤載置台4之夾具把持該框架10d，依此使該挾盤載置台4把持該晶圓。如此一來，該晶圓10之表面10a露出至上方。

接著，在該晶圓10之上方配設液體吐出部6，使該挾盤載置台4繞與該晶圓10之表面10a垂直之軸旋轉，從該液體吐出部6吐出水溶性之液狀樹脂作為液體8。如此一來，在該晶圓10a之表面塗佈該水溶性之液狀樹脂而形成保護膜。

接著，針對雷射加工裝置64之雷射加工單元94之雷射加工，使用圖5(B)予以說明。圖5(B)係示意性地表示根據雷射加工單元94之晶圓10之雷射加工的剖面圖。形成有保護膜之晶圓10被搬運至雷射加工單元94之下方之挾盤載置台88(參照圖4)，藉由該挾盤載置台88被保持。

如圖5(B)所示般，在該晶圓10之表面，設置有複數裝置10e，包含該裝置10e之上面的該晶圓10之表面10a被以該水溶性之液狀樹脂所形成之保護膜102覆蓋。鄰接的兩個該裝置10e間之區域被稱為切割道，在該晶圓10從加工頭96沿著該切割道從加工頭96照射雷射光束。如此一來，晶圓10沿著該切割道被剝蝕加工，在晶圓10形成沿著該切割道之加工溝104。

當藉由該液體供給裝置2，在該表面10a塗佈液體8，在該表面10a形成有保護膜102時，即使該晶圓10被剝蝕加工而被稱為殘餘物10f之加工屑飛散，該殘餘物10f亦不會直接附著於該表面10a。尤其，因具備與本實施型態有關之檢查器18之液體供給裝置2可以對該表面10a供給無混入有氣泡之液狀樹脂，故即使在所形成的保護膜102亦不殘存該氣泡。因此，該表面10a藉由該保護膜102適當地被保護以免於受到該殘餘物10f之影響。

該晶圓10之雷射加工完成後，當將該晶圓10搬入至洗淨單元100而洗淨該晶圓10時，因該殘餘物10f連同該保護膜102一起被沖洗，故在該晶圓10之表面10a不會殘留該殘餘物10f。

有在加工裝置等所具備的管路12，設置用以測量在該管路12流動之液體8之流量等的超音波流量計之情形。因與本實施型態有關之檢查器18係由兩個超音波振動子22a、22b，和控制部24所構成，故亦可以兼具該超音波流量計之功能。因此，藉由將與本實施型態有關之檢查器18取代該超音波流量計而配設在該管路12，可以節省用以安裝該檢查器18之空間，再者，可以節省該檢查器18之導入費用。

另外，本發明並不限定於上述實施型態之記載，能夠做各種變更而加以實施。本發明之一態樣雖然為被配設在加工裝置所具備之液體供給裝置之管路的檢查器，但是配設該檢查器之液體供給裝置及具備該液體供給裝置之加工裝置也係本發明之一態樣。並且，供給水溶性之液狀樹脂而形成保護膜之保護膜被覆裝置也係本發明之一態樣。

在上述實施型態中，雖然針對在雷射加工裝置64所具備的液體供給裝置2之管路12配設該檢查器18之情況予以說明，但是配設該檢查器18之加工裝置不限於雷射加工裝置。例如，對晶圓10等之被加工物進行研削加工之研削裝置，或對被加工物進行切削加工之切削裝置也具備流動被供給至被加工物或加工單元之各種液體的管路。因此，該檢查器亦可以配設在研削裝置或切削裝置所具備的管路。

其他，與上述實施型態有關之構造、方法等只要不脫離本發明之目的的範圍，可以做適當變更而加以實施。

2‧‧‧液體供給裝置4、88‧‧‧挾盤載置台6‧‧‧液體吐出部8‧‧‧液體10‧‧‧晶圓10a‧‧‧表面10b‧‧‧背面10c‧‧‧膠帶10d‧‧‧框架10e‧‧‧裝置10f‧‧‧殘餘物12‧‧‧管路14‧‧‧流體之供給源16‧‧‧泵浦18‧‧‧檢查器20‧‧‧氣泡22a、22b‧‧‧超音波振動子24‧‧‧控制部26‧‧‧切換部28‧‧‧電源30‧‧‧放大器32‧‧‧算出部34‧‧‧振幅算出部36‧‧‧判定部38‧‧‧振幅範圍註冊部40‧‧‧傳播時間算出部42‧‧‧傳播時間範圍註冊部44‧‧‧液體溫度測量器46‧‧‧液體溫度算出部48、50、58、60‧‧‧超音波之波形52‧‧‧第1傳播時間54‧‧‧第2傳播時間56‧‧‧平均傳播時間62a、62b‧‧‧超音波之振幅64‧‧‧雷射加工裝置66‧‧‧裝置基台68‧‧‧卡匣載置台70‧‧‧卡匣72‧‧‧導軌74‧‧‧Y軸導軌76‧‧‧Y軸移動板78‧‧‧Y軸軌導80‧‧‧Y軸脈衝馬達82‧‧‧X軸導軌84‧‧‧X軸移動板86‧‧‧X軸滾珠螺桿90‧‧‧夾具92‧‧‧支持部94‧‧‧雷射加工單元96‧‧‧加工頭98‧‧‧液狀樹脂塗佈單元100‧‧‧洗淨單元102‧‧‧保護膜104‧‧‧加工溝

圖1為示意性表示液體供給裝置之圖示。 　　圖2為示意性表示被配設在管路之檢查器的圖示。 　　圖3(A)為示意性地表示以超音波振動子觀測到的超音波之波形之一例的圖示，圖3(B)為示意性地表示振幅不同之兩個超音波之波形的圖示。 　　圖4為示意性地表示具備液體供給裝置之加工裝置之一例的斜視圖。 　　圖5(A)為示意性地表示根據液狀樹脂塗佈單元的液狀樹脂之塗佈，圖5(B)為示意性地表示根據雷射加工單元的晶圓之雷射加工的剖面圖。

8‧‧‧液體

12‧‧‧管路

18‧‧‧檢查器

20‧‧‧氣泡

22a、22b‧‧‧超音波振動子

24‧‧‧控制部

26‧‧‧切換部

28‧‧‧電源

30‧‧‧放大器

32‧‧‧算出部

34‧‧‧振幅算出部

36‧‧‧判定部

38‧‧‧振幅範圍註冊部

40‧‧‧傳播時間算出部

42‧‧‧傳播時間範圍註冊部

44‧‧‧液體溫度測量器

46‧‧‧液體溫度算出部

Claims (5)

1. 一種檢查器，其係被配設在成為液體之流路的管路，該檢查器之特徵在於，具備：被配設在該管路之上游側、下游側的兩個超音波振動子，和被電性連接於該兩個超音波振動子的控制部，該控制部具有振幅算出部、判定部、振幅範圍註冊部、傳播時間算出部和傳播時間範圍註冊部，在該液體溶解或分散有物質，振幅算出部係從藉由對在該兩個超音波振動子之一方產生且在該管路流動之液體中傳播的第1超音波，在該兩個超音波振動子之另一方進行觀測而獲得的波形資訊，算出該第1超音波之振幅，該傳播時間算出部係從藉由對在該兩個超音波振動子之該一方產生且在該管路流動之液體中傳播的該第1超音波，在該兩個超音波振動子之該另一方進行觀測而獲得的波形資訊，算出該第1超音波之傳播時間，從藉由對在該兩個超音波振動子之該另一方產生且在該管路流動之液體中傳播的第2超音波，在該兩個超音波振動子之該一方進行觀測而獲得的波形資訊，算出該第2超音波之傳播時間，將該第1超音波之傳播時間和該第2超音波之傳播時間 予以平均而算出平均傳播時間，在該振幅範圍註冊部註冊有在混入有氣泡之該液體中傳播的超音波之振幅的範圍，在該傳播時間範圍註冊部，註冊有在物質以非特定濃度的濃度溶解或分散之該液體中傳播的超音波之平均傳播時間之範圍，該判定部係在該振幅算出部算出之該第1超音波之振幅被註冊在該振幅範圍註冊部之該振幅之範圍內之情況，判定在該液體混入有氣泡，該判定部在不判定在該液體混入有氣泡，該傳播時間算出部所算出的該平均傳播時間在被註冊於該傳播時間範圍註冊部之該平均傳播時間的範圍內之情況，判定成該液體之濃度非特定濃度。
2. 如請求項1所記載之檢查器，其中進一步具有測量該液體之溫度的液體溫度測量器，該液體溫度測量器係測量在該管路流動之液體的溫度，將該液體之溫度傳達至該判定部，該判定部係參照該液體之溫度而對判定之內容進行補正。
3. 一種檢查器，其係被配設在成為液體之流路的管路，該檢查器之特徵在於，具備：被配設在該管路之上游側、下游側的兩個超音 波振動子，和被電性連接於該兩個超音波振動子的控制部，進一步具有測量該液體之溫度的液體溫度測量器，該控制部具有振幅算出部、判定部和振幅範圍註冊部，振幅算出部係從藉由對在該兩個超音波振動子之一方產生且在該管路流動之液體中傳播的第1超音波，在該兩個超音波振動子之另一方進行觀測而獲得的波形資訊，算出該第1超音波之振幅，在該振幅範圍註冊部註冊有在混入有氣泡之該液體中傳播的超音波之振幅的範圍，該判定部係在該振幅算出部算出之該第1超音波之振幅被註冊在該振幅範圍註冊部之該振幅之範圍內之情況，判定在該液體混入有氣泡，該液體溫度測量器係測量在該管路流動之液體的溫度，將該液體之溫度傳達至該判定部，該判定部係參照該液體之溫度而對判定之內容進行補正。
4. 一種液體供給裝置，其特徵在於，具備：該管路，和被連接於該管路之一端的該液體之供給源，和從該液體之供給源對該管路之另一端供給該液體之泵浦，和被設置在該管路的如請求項1至3中之任一項所記載的檢查器。
5. 一種保護膜被覆裝置，其係在晶圓之表面被覆液狀樹脂而形成保護膜，該保護膜被覆裝置之特徵在於，具備：保持晶圓之能夠旋轉的挾盤載置台，和對被保持於該挾盤載置台之晶圓之表面供給該液狀樹脂的請求項4所記載的液體供給裝置。

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