TWI764519B - 一種雷射雷達及其掃描方法 - Google Patents

一種雷射雷達及其掃描方法

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Abstract

一種雷射雷達及其掃描方法，所述雷射雷達包含一雷射產生模組與一掃描模組。所述雷射產生模組用於產生一第一光信號。所述掃描模組用於獲取所述第一光信號並輸出一第二光信號，所述第二光信號的傳輸方向相對於所述第一光信號的傳輸方向具有偏轉角且所述偏轉角可調。所述掃描模組包括一液晶層，所述液晶層適於在外加電壓的作用下調節所述偏轉角，以對目標空間進行掃描。通過本發明提供的方案無需額外設置運動模組既能實現空間掃描，能夠有效改善雷射雷達的穩定性，且成本低、掃描速度快。

Description

一種雷射雷達及其掃描方法
本發明涉及雷射雷達技術領域，具體地涉及一種雷射雷達及其掃描方法。
現有雷射雷達的掃描模組大體分為兩種：一種是通過轉子之類的機械機構同時旋轉光源和探測器，以對目標空間進行掃描，另一種則是通過如振鏡等的微機電系統（Micro-Electro-Mechanical System， MEMS）改變光源發射的雷射光束的出射方向，完成對目標空間的掃描。
無論採用上述何種掃描方式，均依賴運動模組來改變雷射光束的出射方向，而運動模組在運動期間無法避免地會發生抖動，影響雷射雷達的穩定性。為提高穩定性，運動模組只能以較低轉速驅動光源旋轉，導致現有這種機械式的空間掃描的掃描速度慢。另一方面，MEMS還存在成本高的問題。
因此，本發明之目的，即在提供一種實現無運動模組的雷射雷達方案，以提高穩定性並兼顧低成本和較快的掃描速度。
為解決上述技術問題，本發明實施例提供一種雷射雷達，包含一雷射產生模組與一掃描模組。所述雷射產生模組用於產生一第一光信號。所述掃描模組用於獲取所述第一光信號並輸出一第二光信號，所述第二光信號的傳輸方向相對於所述第一光信號的傳輸方向具有偏轉角且所述偏轉角可調。所述掃描模組包括一液晶層，所述液晶層適於在一外加電壓的作用下調節所述偏轉角，以對目標空間進行掃描。
可選的，所述對目標空間進行掃描包括所述第二光信號在一第一掃描平面內對所述目標空間進行掃描。所述雷射雷達還包括一整形器，所述整形器用於獲取所述第二光信號並輸出單道或多道第三光信號，所述單道或多道第三光信號位於一第二掃描平面內。
可選的，所述第二掃描平面與所述第一掃描平面具有不為零的預設夾角。
可選的，所述第一光信號包括單道或多道入射光束，所述第二光信號包括單道或多道偏轉光束，所述偏轉光束與所述入射光束一一對應，所述整形器用於獲取所述單道或多道偏轉光束中的至少部分偏轉光束並輸出單道或多道所述第三光信號。
可選的，所述掃描模組還包括一電壓輸入模組，所述電壓輸入模組與所述液晶層耦接，所述電壓輸入模組適於向至少部分液晶層施加電壓。
可選的，所述第二光信號的傳輸方向相對於所述第一光信號的傳輸方向的偏轉角根據以下一個或多個參數確定：所述液晶層在被施加所述外加電壓前後的折射率、所述至少部分液晶層被施加所述外加電壓前後的折射率的變化、所述第一光信號在臨界面的入射角，及所述第二光信號在所述臨界面的出射角。其中，所述臨界面是所述液晶層內折射率存在差異的區域的一個交界面，所述第一光信號在所述臨界面發生折射並轉變為所述第二光信號。
可選的，所述電壓輸入模組包括一第一電極和一第二電極，所述第一電極和所述第二電極相對地設置於所述液晶層沿一縱向方向的同一側或兩側，所述縱向方向與所述第一光信號的傳輸方向具有不為零的夾角，所述外加電壓為通過所述第一電極和所述第二電極向所述液晶層施加的電壓。
可選的，除面向所述第一電極和第二電極的面外，所述液晶層還包括多個面，所述第一光信號自所述多個面中的任一個射入所述液晶層，且所述第二光信號自所述多個面中的任一個射出。
可選的，所述第一電極和第二電極分別與所述至少部分液晶層相接觸，且所述第一電極和所述第二電極各自與所述至少部分液晶層的接觸面的外輪廓為具有預設幾何形狀的閉合曲線。
可選的，所述第一電極包括多個第一子電極，所述第二電極包括多個第二子電極，所述多個第一子電極和多個第二子電極兩兩相對的設置於所述液晶層沿所述縱向方向的同一側或兩側，每一第一子電極、對應的第二子電極以及沿所述縱向方向位於所述第一子電極和第二子電極之間的液晶層區域組成一偏轉單元，且每一第一子電極和對應的第二子電極用於向位於其間的液晶層區域施加電壓，多個偏轉單元中的第一個偏轉單元用於獲取所述第一光信號，所述多個偏轉單元中的最後一個偏轉單元用於輸出所述第二光信號，所述多個偏轉單元中的後一個偏轉單元的輸入光信號為前一個偏轉單元的輸出光信號，並且，對於每一偏轉單元，所述偏轉單元輸出的輸出光信號的傳播方向與所述偏轉單元獲取的輸入光信號的傳播方向之間具有偏轉角。可選的，所述偏轉單元輸出的輸出光信號的傳播方向與所述偏轉單元獲取的輸入光信號的傳播方向之間的偏轉角不為零。
可選的，所述多個偏轉單元包括一第一部分偏轉單元和一第二部分偏轉單元，其中，所述第一部分偏轉單元包括的每一偏轉單元的輸出光信號和輸入光信號的傳播方向之間的偏轉角，不同於所述第二部分偏轉單元包括的每一偏轉單元的輸出光信號和輸入光信號的傳播方向之間的偏轉角。
可選的，不同偏轉單元的所述第一子電極和所述第二子電極向位於其間的液晶層區域施加的電壓不相同。
可選的，所述第一光信號包括多道入射光束，所述第二光信號包括多道偏轉光束，所述入射光束和偏轉光束一一對應，所述第一電極包括多個第一子電極，所述第二電極包括多個第二子電極，所述多個第一子電極和多個第二子電極沿所述縱向方向兩兩相對的設置於所述液晶層的兩側，每一第一子電極、對應的第二子電極以及沿所述縱向方向位於所述第一子電極和第二子電極之間的液晶層區域組成一偏轉單元，且每一第一子電極和對應第二子電極用於向位於其間的液晶層區域施加電壓，每一偏轉單元用於獲取對應的入射光束並輸出所述偏轉光束。
可選的，對於每一偏轉單元，所述偏轉單元輸出的偏轉光束的傳輸方向隨所述偏轉單元的外加電壓的變化而變化以形成一子掃描平面，所述多個偏轉單元形成的子掃描平面覆蓋所述掃描模組的一掃描平面。
可選的，不同偏轉單元形成的子掃描平面的面積不相同。
可選的，所述雷射雷達還包括一分光鏡，所述分光鏡用於將所述雷射產生模組產生的單道雷射光束轉換為所述多道入射光束，或者所述雷射產生模組包括多個雷射器，其中每一雷射器用於發射一道雷射光束，所述多個雷射器發生的多道雷射光束形成所述多道入射光束。
可選的，所述雷射雷達還包括多個沿所述縱向方向位於所述液晶層的一側或兩側的蓋板，所述第一電極和所述第二電極設置于所述蓋板。
可選的，所述掃描模組的數量為多個，並且，多個掃描模組各自的掃描平面兩兩正交。
可選的，所述液晶層的材料包括藍相液晶材料。
為解決上述技術問題，本發明實施例還提供一種如上述的雷射雷達的掃描方法，包含接收掃描指令；根據所述掃描指令向所述掃描模組的液晶層施加所述外加電壓，以基於所述掃描模組產生的所述第二光信號對目標空間進行掃描，其中，所述外加電壓按預設波形和預設頻率變化；獲取所述第二光信號在所述目標空間內的反射信息，以得到對所述目標空間的掃描結果。
可選的，所述預設頻率的範圍大於0且大不於10KHz。
可選的，所述預設波形包括脈衝波或非線性波。
可選的，所述偏轉角的變化與所述外加電壓的波形和變化正相關，所述液晶層的折射率的變化與所述外加電壓的波形和變化正相關，其中，所述液晶層的折射率的變化是指所述液晶層被施加所述外加電壓的部分被施加外加電壓前後的折射率的變化。
進一步，所述對目標空間進行掃描包括所述第二光信號在一第一掃描平面內對所述目標空間進行掃描。所述雷射雷達還包括一整形器，所述整形器用於獲取所述第二光信號並輸出單道或多道第三光信號，所述單道或多道第三光信號位於一第二掃描平面內。進一步，所述第二掃描平面與所述第一掃描平面具有不為零的夾角。由此，通過簡單的光學整形即可實現兩個不同平面內的掃描，進而實現三維空間掃描，成本低且易於實現。
進一步，所述第一光信號包括單道或多道入射光束，所述第二光信號包括單道或多道偏轉光束，所述入射光束和偏轉光束一一對應，所述第一電極包括多個第一子電極，所述第二電極包括多個第二子電極，所述多個第一子電極和多個第二子電極沿所述縱向方向兩兩相對的設置於所述液晶層的兩側，每一第一子電極、對應的第二子電極以及沿所述縱向方向位於所述第一子電極和第二子電極之間的液晶層區域組成一偏轉單元，且每一第一子電極和對應的第二子電極用於向位於其間的液晶層區域施加電壓，每一偏轉單元用於獲取對應的入射光束並輸出所述偏轉光束。由此，可以通過液晶掃描陣列的方式形成掃描平面，並且，由於每一偏轉單元形成的子掃描單元可以相對較小，使得每一偏轉單元施加的外加電壓可以適當減小，利於降低雷射雷達的功耗。
進一步，對於每一偏轉單元，所述偏轉單元輸出的偏轉光束的傳輸方向隨施加給所述偏轉單元的外加電壓的變化而變化以形成一子掃描平面，所述多個偏轉單元形成的子掃描平面覆蓋所述掃描模組的一掃描平面。由此，本實施例所述基於多波束的液晶掃描陣列可以應用于高速應用場景，由於單束偏轉光束的單次掃描行程僅為對應的子掃描平面內，使得完成單次掃描的用時大大縮短，利於優化雷射雷達的掃描頻率。
與現有技術相比，本發明實施例的技術方案具有以下有益效果：
較之現有基於專門的運動模組實現空間掃描的雷射雷達，本實施例方案提供的雷射雷達採用電壓驅動液晶的方式來改變雷射光束的出射方向，無需額外設置運動模組既能完成對目標空間的掃描，並且，由於掃描模組是以液晶層的分子結構變化來改變雷射光束的出射方向，掃描模組本身沒有發生運動，能夠有效改善雷射雷達的穩定性，且成本低、掃描速度快。
為使本發明的上述目的、特徵和有益效果能夠更為明顯易懂，接下來參照附圖來詳細說明本發明的實施例。各圖中對同一部分標注同一標號。各實施例只是例示，當然可以對以不同實施例所示的結構進行部分置換或組合。變形例中，省略關於與圖1所示實施例共同的事項的描述，僅針對不同點進行說明。尤其，針對同樣的結構所產生的同樣的作用效果，不再按每個實施例逐一提及。
圖1是本發明雷射雷達之第一實施例的原理示意圖。
具體地，該第一實施例所述雷射雷達可以應用於目標空間的掃描場景，所述目標空間可以是二維也可以是三維。對所述目標空間的掃描結果可以用於測距、虛擬實境（Virtual Reality，VR）成像等多種領域。
在一個具體實施中，參考圖1，該第一實施例所述的雷射雷達1包含一雷射產生模組11與一掃描模組12。所述雷射產生模組11用於產生一第一光信號s1，將所述第一光信號s1的傳輸方向記作第一方向。
雷射產生模組11用於輸出雷射光束，例如可以為雷射器。該第一實施例將自雷射產生模組11輸出的雷射光束記作所述第一光信號s1。
在一個具體實施中，所述第一光信號s1的第一方向可以是固定不變的。也即，在所述雷射雷達1工作期間，自所述雷射產生模組11出射的雷射光束的出射方向不變，所述雷射產生模組11自身不會發生旋轉等機械運動。
在一個具體實施中，繼續參考圖1，所述掃描模組12沿所述第一方向設置於所述雷射產生模組11的前方，所述掃描模組12可以用於獲取所述第一光信號s1並輸出第二光信號s2，將所述第二光信號s2的傳輸方向記作第二方向，所述第二方向相對於所述第一方向具有偏轉角且所述偏轉角可調。
具體地，所述掃描模組12用於改變所述第一光信號s1的傳播方向，使得自所述掃描模組12出射的所述第二光信號s2的傳播方向能夠在特定平面（如一第一掃描平面13）內來回運動，以實現對目標物9的空間掃描。
不同于現有技術，在該第一實施例中，所述掃描模組12本身並不會發生旋轉等機械運動，而是通過改變施加給所述掃描模組12中的一液晶層121（如圖2所示）的一外加電壓V來調節所述偏轉角。並且，由於偏轉是因所述液晶層121內液晶材料的分子級運動引發的，宏觀上所述雷射雷達1內沒有器件發生旋轉等運動，所述雷射雷達1本身也沒有機械運動，使得雷射雷達1的整體穩定性得到有效保障。
在一個具體實施中，繼續參考圖1，所述雷射雷達1還可以包括一探測器（Detector）14，所述探測器14用於接收自目標物9反射的光信號，以得到對目標空間的掃描結果。其中，所述自目標物9反射的光信號可以是所述第二光信號s2照射至所述目標物9而反射的光信號。或者，所述自目標物9反射的光信號也可以是所述第二光信號s2經過光學調製後（如下述第三光信號s3）照射至所述目標物9而反射的光信號。
接下來結合圖2和圖3對所述掃描模組12的結構作具體闡述。
其中，圖2是圖1中掃描模組12的第一種結構的示意圖，圖3是圖2所示掃描模組12的俯視圖。
參考圖2，所述掃描模組12包括所述液晶層121，以及沿一縱向方向z分別設置於所述液晶層121兩側的蓋板122。其中，沿所述縱向方向z，將位於所述液晶層121上方的蓋板122稱為上蓋板，將位於所述液晶層121下方的蓋板122稱為下蓋板。
例如，所述蓋板122可以採用玻璃材料製成。
進一步地，所述掃描模組12還可以包括一電壓輸入模組、一第一電極123，和一第二電極124。所述第一電極123可設置於所述上蓋板，所述第二電極124可設置於所述下蓋板。並且，所述第一電極123和所述第二電極124是相對的設置於所述液晶層121沿所述縱向方向z的兩側的。也即，所述第一電極123指向第二電極124的方向平行於所述縱向方向z。
例如，所述第一電極123和第二電極124均可以以電鍍的形式形成于對應的蓋板122。
在一個變化例中，所述第一電極123和所述第二電極124可以相對的設置於所述上蓋板或者下蓋板，此時，所述第一電極123和第二電極124相對的設置於所述液晶層121沿所述縱向方向z的同一側。具體地，可以採用平面轉換（In-Plane Switching，簡稱IPS）技術實現。例如，參考圖2，在所述上蓋板或所述下蓋板上，可以沿所述第一方向間隔地設置兩個電極，該間隔設置的兩個電極即為所述第一電極123和第二電極124。
進一步地，在本變化例中，可以僅在液晶層121設置有電極的一側設置所述蓋板122。
在一個具體實施中，參考圖2和圖3，所述縱向方向z與所述第一方向具有不為零的夾角，以使所述第一光信號s1能夠順利入射至所述液晶層121，而不會被所述第一電極123或所述第二電極124阻擋。
需要指出的是，圖2和圖3是以第一方向垂直於所述縱向方向z為例進行示例性描述的，在實際應用中，在確保所述第一光信號s1穿過第一電極123和第二電極124之間的液晶層121區域的前提下，所述第一方向還可以以與所述縱向方向z成30°、60°等夾角的角度入射所述液晶層121。
進一步地，所述第二方向隨著所述外加電壓V的變化而變化以形成所述第一掃描平面13（如圖1所示），從而實現對所述目標空間的掃描。其中，所述電壓輸入模組與所述液晶層121耦接，由此，所述外加電壓V為通過所述第一電極123和所述第二電極124向所述液晶層121施加的電壓，所述第一掃描平面13垂直於所述縱向方向z。
具體地，所述第一掃描平面13可以為扇形面。
例如，所述第一電極123和所述第二電極124可以外接電源，以向所述液晶層121施加所述外加電壓V。
在一個具體實施中，所述第一掃描平面13可以平行於水平面。此時，所述縱向方向z可以為重力方向，所述第一方向可以為與所述重力方向垂直的水平方向。
在一個變化例中，通過調節所述第一方向與所述水平方向的夾角、所述縱向方向z和所述重力方向的夾角，或所述液晶層121內液晶材料的分子排布方向，可以調節所述第一掃描平面13與水平面的夾角，以使所述雷射雷達1能夠適用於結構複雜的掃描空間。如通過調節所述第一掃描平面13與水平面的夾角來避開掃描空間內特定位置的障礙物，以確保對目標物9的準確掃描。
例如，當需要掃描位於較低處的目標物9時，可以使第一掃描平面13較之水平面斜向下，以使所述第一掃描平面13能夠有效覆蓋所述目標物9所處區域。
又例如，當所述蓋板122、所述第一電極123，及所述第二電極124的排列方向為橫向方向且與所述第一方向相垂直時，相當於將圖2示出的掃描模組12以第一方向為軸自轉90°，此時，所述第一掃描平面13可以為與水平面相垂直的豎直面，所述雷射雷達1能夠掃描前方不同高度處的目標物9。
在一個具體實施中，所述第一電極123和所述第二電極124沿所述第一掃描平面13的截面的形狀可以為多邊形。
例如，圖2和圖3均是以所述第一電極123和所述第二電極124沿所述第一掃描平面13的截面的形狀為三角形為例進行示例性展示的。
在實際應用中，所述第一電極123和所述第二電極124沿所述第一掃描平面13的截面的形狀還可以為圓形、矩形、五邊形等形狀。
在一個變化例中，所述第一電極123和所述第二電極124各自與所述液晶層121的接觸面的外輪廓可以為具有預設幾何形狀的閉合曲線，所述閉合曲線可以是閉合光滑曲線，所述預設幾何形狀可以為圓形、多邊形、或不規則幾何形狀等，所述多邊形可以為三角形、矩形、或五邊形等。
在一個具體實施中，第一電極123和所述第二電極124可以分別與至少部分液晶層121相接觸，以通過施加所述外加電壓來改變接觸部分所述液晶層121的折射率。
在一個具體實施中，在確保足夠的偏轉角度的基礎上，所述第一電極123和所述第二電極124沿所述第一掃描平面13的截面的面積可以盡可能的縮小，以減小所述雷射雷達1的整體體積。
在一個具體實施中，繼續參考圖1至圖3，所述第二方向相對於所述第一方向的偏轉角Δα可以根據以下一個或多個參數確定：所述液晶層121在被施加所述外加電壓V前後的折射率、所述至少部分液晶層121被施加所述外加電壓V後的折射率n1相對被施加所述外加電壓V前的折射率n2的變化Δn、所述第一光信號s1在一臨界面121a的入射角θ，及所述第二光信號s2在所述臨界面121a的出射角α。其中，所述臨界面121a為所述液晶層121內折射率存在差異的區域的一個交界面，並且，所述第一光信號s1在所述臨界面121a發生折射並轉變為所述第二光信號s2。
具體而言，假設所述液晶層121內填充的液晶材料在未被施加外加電壓V時的折射率為n2，被施加外加電壓V後的折射率變為n1。
對應到圖3，在施加所述外加電壓V的情況下，沿縱向方向z，位於三角形的所述第一電極123和所述第二電極124之間的液晶層121區域（如圖2中點劃線描繪的三棱柱所示）的液晶材料在所述外加電壓V的作用下發生偏轉，使得液晶層121在三棱柱區域的折射率為n1。液晶層121在三棱柱區域以外的液晶材料由於未受到外加電壓V的影響，因此折射率仍為n2。
也即，所述折射率的變化Δn=|n2-n1|。並且，所述折射率的變化Δn的大小可以隨著外加電壓V的變化而變化。例如，外加電壓V越大，所述折射率的變化Δn越大。
進一步地，根據在圖2和圖3示出的電極的形狀（例如直角三角形）以及第一光信號s1的入射角度，所述臨界面121a為第一電極123和第二電極124各自的直角三角形的斜邊沿縱向方向的連接面。
此時，第一光信號s1自三棱柱出射並進入液晶層121的其他區域時發生折射，折射後的光信號即為所述第二光信號s2。
將所述第一光信號s1與垂直於所述臨界面121a的法線的夾角記作所述入射角θ，將所述第二光信號s2與所述法線的夾角記作出射角α。
根據光學折射原理，可以得到等式：n1×sinθ = n2×sinα，進一步可以換算得到Δn×sinθ~n2×cosα×Δα，其中，“~”是指正相關。由此，可以推算得到所述第二方向相對於所述第一方向的偏轉角Δα~(Δn/n1)×tanα。
基於前述分析，所述液晶層121的折射率的變化Δn與外加電壓V相關。因此，通過調節所述外加電壓V，能夠控制所述第二光信號s2相對於第一光信號s1的偏轉程度。例如，在單次掃描過程中，可以逐漸增大所述外加電壓V，使得所述第二光信號s2按特定方向偏轉以完成對目標空間的掃描。其中，所述特定方向可以為在所述第一掃描平面13上按順時針或逆時針方向偏轉。
進一步地，通過對所述第一電極123和第二電極124進行設計，還能夠調節所述出射角α，這同樣可以達到調節偏轉角Δα的效果。
在一個變化例中，所述第一電極123和所述第二電極124可以基本完全覆蓋所述液晶層121沿所述縱向方向z的兩側，此時所述臨界面121a為圖2中立方體形狀的液晶層121的平行於所述縱向方向z的四個面中的任一個，所述第二方向相對於所述第一方向的偏轉角Δα可以根據空氣的折射率和所述液晶層121中液晶材料在所述外加電壓V作用下的折射率確定。
在一個具體實施中，所述第一光信號s1在自液晶層121未被施加所述外加電壓V的區域入射所述三棱柱區域時，可以是以垂直於入射面的方式入射的，以使所述第一光信號s1不會在入射三棱柱時就發生折射，而是在自三棱柱出射時再發生折射。
在一個變化例中，通過改變所述第一電極123和所述第二電極124的形狀，或第一光信號s1的入射角度，可以使得第一光信號s1在進入三棱柱區域時即發生一次折射，並可以在離開三棱柱區域時再次發生折射，以增大第二方向相對於所述第一方向的偏轉角Δα。
由上，該第一實施例方案提供的雷射雷達1採用電壓驅動液晶的方式來改變雷射光束的出射方向，無需額外設置運動模組既能完成對目標空間的掃描，並且，由於掃描模組12是以液晶層121的分子結構變化來改變雷射光束的出射方向，掃描模組12本身沒有發生運動，能夠有效改善雷射雷達1的穩定性，且成本低、掃描速度快。
具體而言，該第一實施例方案利用液晶隨電壓改變取向的特性，使得自所述液晶層121出射的第二光信號s2的第二方向相對于入射時的第一光信號s1的第一方向發生偏轉。在此基礎上，通過改變對所述液晶層121施加的所述外加電壓V來實現扇區掃描。
在一個具體實施中，除設置有所述第一電極123和所述第二電極124的一側或兩側外，所述液晶層121還可以包括多個面，所述第一光信號s1可以自所述多個面中的任一個射入所述液晶層121，且所述第二光信號s2可以自所述多個面中的任一個射出。
例如，通過調節所述外加電壓V，或所述第一電極123和所述第二電極124的形狀和面積，可以使得所述第一光信號s1和所述第二光信號s2自所述液晶層121的同一個面射入和射出。換言之，所述第一掃描平面13可以不局限於所述掃描模組12前方的扇形區域，而是可以擴大至以所述掃描模組12為圓心的整個平面。由此，所述雷射雷達1能夠對其所處空間進行360°的全方位掃描。
在一個變化例中，參考圖4，所述第一電極123可以包括多個第一子電極125，所述第二電極124可以包括多個第二子電極（圖未示），所述多個第一子電極125和多個第二子電極兩兩相對的設置於所述液晶層121沿所述縱向方向z的兩側。
每一第一子電極125、對應的第二子電極以及沿所述縱向方向z位於所述第一子電極125和所述第二子電極之間的液晶層121區域組成一偏轉單元（圖未示，可參考圖2示出的三棱柱），且每一第一子電極125和對應的第二子電極用於向位於其間的液晶層121區域施加電壓，多個偏轉單元中的第一個偏轉單元可以用於獲取所述第一光信號s1，所述多個偏轉單元中的最後一個偏轉單元可以用於輸出所述第二光信號s2，所述多個偏轉單元中的後一個偏轉單元的輸入光信號為前一個偏轉單元的輸出光信號，並且，對於每一偏轉單元，所述偏轉單元輸出的輸出光信號的傳播方向與所述偏轉單元獲取的輸入光信號的傳播方向之間具有偏轉角。
進一步地，所述偏轉單元輸出的輸出光信號的傳播方向與所述偏轉單元獲取的輸入光信號的傳播方向之間的偏轉角可以不為零。
也即，通過設置多個級聯的偏轉單元，能夠逐漸地對第一光信號s1進行偏轉，以增大所述第二方向相對於所述第一方向的偏轉角，進而增大所述第一掃描平面13的輻射角度和覆蓋面積，使得所述第一掃描平面13的位置可以不局限於所述掃描模組12沿所述第一方向的前方。由於每一偏轉單元對其獲取的輸入光信號的偏轉角可以相對較小，使得每一偏轉單元施加的外加電壓V可以適當減小，利於降低雷射雷達1的功耗。
在一個具體實施中，該等第一子電極125可以在同一直線上，相應的，該等第二子電極也可以在同一直線上。
或者，該等第一子電極125可以零散地分佈於同一平面，以根據需求實現不同的第二方向相對於第一方向的偏轉角，如圖4所示。
在一個具體實施中，該等第一子電極125中相鄰的第一子電極125之間的間距可以相同，相應的，該等第二子電極中相鄰第二子電極之間的間距可以相同。
或者，該等第一子電極125可以不是等間距排列的，類似的，該等第二子電極可以不是等間距排列的。
在一個變化例中，該等第一子電極125的形狀可以相同也可以不相同，只要確保相對的第一子電極125和第二子電極的形狀和面積相同即可。
在一個具體實施中，不同偏轉單元的第一子電極125和第二子電極向位於其間的液晶層區域施加的電壓不相同。
在一個變化例中，所述多個偏轉單元可以包括一第一部分偏轉單元和一第二部分偏轉單元，其中，所述第一部分偏轉單元包括的每一偏轉單元的輸出光信號和輸入光信號的傳播方向之間的偏轉角，可以不同於所述第二部分偏轉單元包括的每一偏轉單元的輸出光信號和輸入光信號的傳播方向之間的偏轉角。
例如，所述第一部分偏轉單元的子電極的形狀，可以不同於第二部分偏轉單元的子電極的形狀。
又例如，施加在所述第一部分偏轉單元的子電極的電極電壓，可以不同於施加在所述第二部分偏轉單元的子電極的電極電壓。
再例如，所述第一部分偏轉單元所包圍的液晶層121的折射率的變化Δn，可以不同於所述第二部分偏轉單元所包圍的液晶層121的折射率的變化Δn。
在一個變化例中，採用IPS技術，所述多個第一子電極125和多個第二子電極可以兩兩對應的設置於所述液晶層121沿所述縱向方向z的同一側。
在一個變化例中，所述掃描模組12的數量可以為多個，並且，多個掃描模組12各自的第一掃描平面13兩兩正交。由此，可以實現對三維空間的掃描。
進一步地，每一掃描模組12可以是獨立運行的。
或者，所述多個掃描模組12可以是同步運行的。
在一個典型的應用場景中，考慮到液晶材料隨外加電壓V的變化而改變取向可能存在略微的延遲，當所述雷射雷達1應用於監視等靜置或低速場景，則所述液晶層121內填充的液晶材料可以採用一般的液晶材料實現，以充分利用普通液晶價格低廉的特點，極大的降低雷射雷達1的成本。
而當所述雷射雷達1應用於汽車等對掃描頻率具有較高要求的高速場景時，可以採用藍相（Blue Phase）液晶材料這類對外加電壓V的變化回應速度較快的液晶材料，或者通過特殊的光學設計（如採用圖6示出的基於多波束的液晶掃描陣列）來降低對單束雷射光束的掃描速度的要求。
圖5是本發明雷射雷達之第二實施例的部分原理示意圖。此處僅主要針對該第二實施例之雷射雷達1與上述圖1至圖3所示第一實施例之雷射雷達1的不同之處進行說明。（圖5未示出探測器14。）
在該第二實施例中，與上述第一實施例之雷射雷達1的區別主要在於，所述雷射雷達1還可以包括一整形器21，所述整形器21沿所述第二方向設置於所述掃描模組12的前方，所述整形器21可以用於獲取所述第二光信號s2並輸出單道或多道第三光信號s3，所述單道或多道第三光信號s3位於一第二掃描平面22內。
進一步，所述第二掃描平面22與所述第一掃描平面13可以具有預設夾角，所述預設夾角的大小可以不為零。
具體地，所述整形器21可以為光束整形器（也可稱為整形光學器件）。在該第二實施例中，通過增設所述整形器21實現對目標物9的面掃描，成本低且易於實現。
在一個具體實施中，所述整形器21可以用於將入射的第二光信號s2發散的輸出為多道第三光信號s3。例如，所述整形器21可以為分光器。例如，所述第二光信號s2可以包括一道偏轉光束（或多道相對聚集的偏轉光束），所述偏轉光束經過所述分光器時，受到所述分光器影響而發散，使得自所述分光器出射的多道第三光信號s3能夠沿著所述第二掃描平面22傳輸。
在一個變化例中，所述整形器21可以僅起到准直作用，以將第二光信號s2的傳輸方向整形為更適合於掃描目標空間的方向。例如，所述整形器21可以為特殊設計的透鏡組。其中，所述透鏡組可以包括柱形透鏡。
進一步地，通過設置所述整形器21的擺放角度，可以使得所述第二掃描平面22相對於所述第一掃描平面13具有不為零的夾角。
在實際應用中，可以根據需要探測的場景設計不同的整形器21，以優化探測性能。在一個典型的應用場景中，參考圖6和圖7，可以通過所述整形器21的設計，使得所述雷射雷達1的出射光束沿水平方向的截面（如圖7所示）及其沿縱向方向z的截面（如圖6所示）可以均是扇形光束，這樣可以在同一個雷射雷達器件上，模擬地構建兩個獨立器件掃描兩個空間方向角。其中，所述雷射雷達1的出射光束沿水平方向的截面可以位於所述第一掃描平面13，所述雷射雷達1的出射光束沿所述縱向方向z的截面可以位於所述第二掃描平面22。
相較於圖1至圖3所示雷射雷達1是以第二光信號s2進行線掃描，對目標物9的掃描結果為第一掃描平面13與目標物9相交的區域。該第二實施例所述雷射雷達1通過整形器21將第二光信號s2整形為沿第二掃描平面22傳輸的第三光信號s3。由此，隨著所述外加電壓V的變化，所述雷射雷達1是以面掃描的方式對目標物9進行空間（三維）掃描的。
在一個變化例中，所述第一光信號s1可以包括單道或多道入射光束，相應的，所述第二光信號s2可以包括單道或多道偏轉光束，並且所述偏轉光束與所述入射光束一一對應。
進一步地，所述整形器21可以用於獲取所述單道或多道偏轉光束中的至少部分偏轉光束並輸出單道或多道所述第三光信號s3。
換言之，所述整形器21可以僅對所述掃描模組12輸出的第二光信號s2中的部分雷射光束進行整形，以使所述雷射雷達2能夠同時以線掃描和麵掃描的方式對目標空間進行掃描。
例如，所述雷射產生模組11可以包括多個雷射器，其中每一雷射器用於發射一束雷射光束，所述多個雷射器發出的多道雷射光束形成所述多道入射光束。
圖8是本發明雷射雷達之第三實施例的部分原理示意圖。此處僅主要針對雷射雷達1與上述圖1至圖3所示之第一實施例的雷射雷達1的不同之處進行說明。
在該第三實施例中，與上述第一實施例之雷射雷達1的區別主要在於，所述第一光信號s1可以包括多道入射光束s11，所述第二光信號s2可以包括多道偏轉光束s21，所述入射光束s11和偏轉光束s21一一對應，所述第一電極123可以包括多個第一子電極125，所述第二電極124可以包括多個第二子電極（圖未示），所述多個第一子電極125和多個第二子電極沿所述縱向方向z兩兩相對的設置於所述液晶層121的兩側，每一第一子電極125、對應的第二子電極，以及沿所述縱向方向z位於所述第一子電極125和第二子電極之間的液晶層121區域組成一偏轉單元（圖未示，可參考圖2中的三棱柱），且每一第一子電極125和對應第二子電極用於向位於其間的液晶層121區域施加電壓，每一偏轉單元可以用於獲取對應的入射光束s11並輸出所述偏轉光束s21。
例如，可以通過設置多個分光鏡（Beam Splitter）32將所述雷射產生模組11產生的單道雷射光束（如所述第一光信號s1）轉換為多道入射光束s11，並使每一道入射光束s11輸入對應的偏轉單元。
在一個具體實施中，不同的偏轉單元的子電極的形狀和面積可以相同，也可以不同。
進一步地，經不同的偏轉單元偏轉輸出的偏轉光束s21與輸入的入射光束s11的偏轉角可以相同，也可以不相同。
在一個具體實施中，對於每一偏轉單元，所述偏轉單元輸出的偏轉光束s21的傳輸方向隨所述偏轉單元的外加電壓V的變化而變化以形成子掃描平面131，所述多個偏轉單元形成的子掃描平面131覆蓋所述第一掃描平面13。由此，可以通過液晶掃描陣列的方式形成第一掃描平面13，並且，由於每一偏轉單元形成的子掃描平面131可以相對較小，使得每一偏轉單元施加的外加電壓V可以適當減小，利於降低雷射雷達1的功耗。
在一個具體實施中，不同偏轉單元形成的子掃描平面131的面積可以不相同。例如，通過設計使得不同偏轉單元施加的外加電壓V不同，或者，不同偏轉單元的子電極的形狀、面積不同，可以改變子掃描平面131的面積。
在一個具體實施中，相鄰子掃描平面131之間可以存在交叉的掃描區域，以避免出現掃描死角。
在一個具體實施中，每一偏轉單元對偏轉光束s21的偏轉方向和偏轉角的調節速度可以是相同的。也即，偏轉光束s21在各自的子掃描平面131內的掃描速度和掃描方向保持同步。
在一個變化例中，各偏轉單元可以是獨立地控制偏轉光束s21在對應的子掃描平面131內的掃描速度和掃描方向。
由上，圖6示出的基於多波束的液晶掃描陣列可以應用于高速應用場景，由於單束偏轉光束s21的單次掃描行程僅為對應的子掃描平面131內，使得完成單次掃描的用時大大縮短，利於優化雷射雷達1的掃描頻率。
圖9是本發明第四實施例之雷射雷達的掃描方法的流程圖。該第四實施例所述雷射雷達可以為上述圖1至圖8所示的雷射雷達1。
具體地，參考圖9，該第四實施例所述掃描方法可以包括如下步驟：
步驟S701，接收掃描指令；
步驟S702，根據所述掃描指令向所述掃描模組12的液晶層121施加所述外加電壓V，以基於所述掃描模組12產生的所述第二光信號s2對所述目標空間進行掃描，其中，所述外加電壓V按預設波形和預設頻率變化；
步驟S703，獲取所述第二光信號s2在所述目標空間內的反射信息，以得到對所述目標空間的掃描結果。
在一個具體實施中，所述預設頻率的範圍可以大於0且不大於10KHz。
在一個具體實施中，所述預設波形可以包括脈衝波。所述脈衝波可以為三角波、梯形波或鋸齒波。
所述預設波形還可以包括非線性波。所述非線性波可以為正弦波或餘弦波。
在一個具體實施中，所述外加電壓V的變化可以與雷射雷達1的角解析度相關。
具體地，所述偏轉角的變化可以與所述外加電壓V的波形和變化正相關。
所述液晶層121的折射率的變化Δn可以與所述外加電壓V的波形和變化正相關，其中，所述液晶層121的折射率的變化Δn是指所述液晶層121被施加所述外加電壓V的部分被施加外加電壓V前後的折射率的變化。
在一個具體實施中，所述外加電壓的波形可以為任意函數形式的波形，可以根據目標空間的掃描需求調整具體波形。例如，所述波形可以為梯形波、三角波等線性變化的波。又例如，所述波形還可以為正弦波、正切函數波等具有曲率變化的波。
具體而言，在小信號區域，可以施加三角形波的外加電壓以實現均勻掃描。其中，小信號區域可以指施加給液晶層121的電場強度小於3×106 V/m時的應用場景。隨著電場強度的進一步增大，所述偏轉角的變化、所述液晶層121的折射率的變化Δn與所述外加電壓V的變化之間可能不再呈嚴格的線性關係，此時，可以適當調整所述外加電壓V的波形，以修正非線性變化導致的掃描偏差。
在一個具體實施中，所述掃描指令可以包括所述目標空間的區域範圍、掃描頻率等。回應於接收到所述掃描指令，所述雷射雷達1可以根據掃描指令選擇合適的波形和預設頻率執行掃描操作。
在一個具體實施中，所述反射信息可以由所述探測器14接收，以獲取所述掃描結果。具體地，可以根據所述反射信息，利用相位調製（Phase Modulation）的方法獲取所述掃描結果，然而本發明實施例不限於此。其中獲取所述掃描結果包括獲取障礙物相對於所述雷射雷達的方位、距離等。
惟以上所述者，僅為本發明之實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
1:雷射雷達 11:雷射產生模組 12:掃描模組 121:液晶層 121a:臨界面 122:蓋板 123:第一電極 124:第二電極 125:第一子電極 13:第一掃描平面 131:子掃描平面 14:探測器 21:整形器 22:第二掃描平面 32:分光鏡 9:目標物 S701~S703:步驟 z: 縱向方向
本發明之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中： 圖1是本發明雷射雷達之第一實施例的原理示意圖； 圖2是圖1中之一掃描模組的第一種結構的示意圖； 圖3是圖2中所述掃描模組的俯視圖； 圖4是圖1中所述掃描模組的第二種結構的俯視圖； 圖5是本發明雷射雷達之第二實施例部分原理示意圖； 圖6是圖5所示的雷射雷達在一個典型應用場景中的側視圖； 圖7是圖5所示的雷射雷達在一個典型應用場景中的俯視圖； 圖8是本發明雷射雷達之第三實施例的部分原理示意圖；及 圖9是本發明第四實施例之雷射雷達的掃描方法的流程圖。
1:雷射雷達
11:雷射產生模組
12:掃描模組
13:第一掃描平面
14:探測器
9:目標物

Claims (20)

  1. 一種雷射雷達，包含：一雷射產生模組，用於產生一第一光信號；及一掃描模組，所述掃描模組用於獲取所述第一光信號並輸出一第二光信號，所述第二光信號的傳輸方向相對於所述第一光信號的傳輸方向具有偏轉角且所述偏轉角可調，所述掃描模組包括一液晶層和一電壓輸入模組，所述電壓輸入模組包括一第一電極和一第二電極，所述第一電極和所述第二電極向至少部分所述液晶層施加一外加電壓，以調節所述偏轉角並對目標空間進行掃描；其中，所述第一電極和第二電極分別與所述至少部分液晶層相接觸，且所述第一電極和所述第二電極各自與所述至少部分液晶層的接觸面的外輪廓為具有預設幾何形狀的閉合曲線。
  2. 如請求項1所述的雷射雷達，其中，所述對目標空間進行掃描包括所述第二光信號在一第一掃描平面內對所述目標空間進行掃描，所述雷射雷達還包括一整形器，所述整形器用於獲取所述第二光信號並輸出單道或者多道第三光信號，所述單道或者多道第三光信號位於一第二掃描平面內。
  3. 如請求項2所述的雷射雷達，其中，所述第一光信號包括單道或者多道入射光束，所述第二光信號包括單道或多道偏轉光束，所述偏轉光束與所述入射光束一一對應，所述整形器用於獲取所述單道或多道偏轉光束中的至少部分 偏轉光束並輸出單道或多道所述第三光信號。
  4. 如請求項1所述的雷射雷達，其中，所述第二光信號的傳輸方向相對於所述第一光信號的傳輸方向的偏轉角根據以下一個或多個參數確定：所述液晶層在被施加所述外加電壓前後的折射率、所述至少部分液晶層被施加所述外加電壓前後的折射率的變化、所述第一光信號在一臨界面的入射角，及所述第二光信號在所述臨界面的出射角，其中，所述第一光信號在所述臨界面發生折射並轉變為所述第二光信號。
  5. 如請求項1所述的雷射雷達，其中，所述第一電極和所述第二電極相對地設置於所述液晶層沿一縱向方向的同一側或兩側，所述縱向方向與所述第一光信號的傳輸方向具有不為零的夾角。
  6. 如請求項5所述的雷射雷達，其中，除面向所述第一電極和第二電極的面外，所述液晶層還包括多個面，所述第一光信號自所述多個面中的任一個射入所述液晶層，且所述第二光信號自所述多個面中的任一個射出。
  7. 如請求項求5所述的雷射雷達，其中，所述第一電極包括多個第一子電極，所述第二電極包括多個第二子電極，所述多個第一子電極和多個第二子電極兩兩相對的設置於所述液晶層沿所述縱向方向的同一側或兩側，每一第一子電極、對應的第二子電極以及沿所述縱向方向位於所述第一子電極和第二子電極之間的液晶層區域組成一偏轉單元，且每一第一子電極和對應的第二子電極用於向位於其 間的液晶層區域施加電壓，沿著光路方向，多個偏轉單元中的第一個偏轉單元用於獲取所述第一光信號，所述多個偏轉單元中的最後一個偏轉單元用於輸出所述第二光信號，所述多個偏轉單元中的後一個偏轉單元的輸入光信號來自於前一個偏轉單元的輸出光信號，並且，對於每一偏轉單元，所述偏轉單元輸出的輸出光信號的傳播方向與所述偏轉單元獲取的輸入光信號的傳播方向之間具有偏轉角。
  8. 如請求項7所述的雷射雷達，其中，所述多個偏轉單元包括一第一部分偏轉單元和一第二部分偏轉單元，其中，所述第一部分偏轉單元包括的每一偏轉單元的輸出光信號和輸入光信號的傳播方向之間的偏轉角，不同於所述第二部分偏轉單元包括的每一偏轉單元的輸出光信號和輸入光信號的傳播方向之間的偏轉角。
  9. 如請求項7所述的雷射雷達，其中，不同偏轉單元的所述第一子電極和所述第二子電極向位於其間的液晶層區域施加的電壓不相同。
  10. 如請求項5所述的雷射雷達，其中，所述第一光信號包括多道入射光束，所述第二光信號包括多道偏轉光束，所述入射光束和偏轉光束一一對應，所述第一電極包括多個第一子電極，所述第二電極包括多個第二子電極，所述多個第一子電極和多個第二子電極沿所述縱向方向兩兩相對的設置於所述液晶層的兩側，每一第一子電極、對應的第二子電極以及沿所述縱向方向位於所述第一子電極和 第二子電極之間的液晶層區域組成一偏轉單元，且每一第一子電極和對應第二子電極用於向位於其間的液晶層區域施加電壓，每一偏轉單元用於獲取對應的入射光束並輸出所述偏轉光束。
  11. 如請求項10所述的雷射雷達，其中，對於每一偏轉單元，所述偏轉單元輸出的偏轉光束的傳輸方向隨所述偏轉單元的外加電壓的變化而變化以形成一子掃描平面，所述多個偏轉單元形成的子掃描平面覆蓋所述掃描模組的一掃描平面。
  12. 如請求項11所述的雷射雷達，其中，不同偏轉單元形成的子掃描平面的面積不相同。
  13. 如請求項10所述的雷射雷達，其中，所述雷射雷達還包括一分光鏡，所述分光鏡用於將所述雷射產生模組產生的單道雷射光束轉換為所述多道入射光束，或者所述雷射產生模組包括多個雷射器，其中每一雷射器用於發射一道雷射光束，所述多個雷射器發生的多道雷射光束形成所述多道入射光束。
  14. 如請求項5所述的雷射雷達，還包括至少一沿所述縱向方向位於所述液晶層的一側或兩側的蓋板，所述第一電極和所述第二電極設置于所述蓋板。
  15. 如請求項1至14中任一項所述的雷射雷達，其中，所述掃描模組的數量為多個，並且，多個掃描模組各自的掃描平面兩兩正交。
  16. 如請求項1至14中任一項所述的雷射雷達，其中，所 述液晶層的材料包括藍相液晶材料。
  17. 一種如請求項1至14中任一項所述的雷射雷達的掃描方法，包含：接收掃描指令；基於所述掃描模組產生的所述第二光信號對目標空間進行掃描；及獲取所述第二光信號在所述目標空間內的反射信息，以得到對所述目標空間的掃描結果。
  18. 如請求項17所述的雷射雷達的掃描方法，其中，根據所述掃描指令向所述掃描模組的所述液晶層施加所述外加電壓，所述外加電壓按預設波形和預設頻率變化。
  19. 如請求項18所述的雷射雷達的掃描方法，其中，所述預設頻率的範圍大於0且不大於10KHz，或所述預設波形包括脈衝波或非線性波。
  20. 如請求項17所述的雷射雷達的掃描方法，其中，所述偏轉角的變化與所述外加電壓的波形和變化正相關，所述液晶層的折射率的變化與所述外加電壓的波形和變化正相關，其中，所述液晶層的折射率的變化是指所述液晶層被施加所述外加電壓的部分被施加外加電壓前後的折射率的變化。
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