TWI760743B - 使光學生產系統的成像特性近似於光學測量系統的成像特性之方法及為此目的之計量系統 - Google Patents

使光學生產系統的成像特性近似於光學測量系統的成像特性之方法及為此目的之計量系統 Download PDF

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Abstract

本發明揭示用於將一物體(7)成像的一光學生產系統之成像特性近似至，當將該物體(7)成像時光學測量系統(15、4)的成像特性，該成像特性來自該光學測量系統(15、4)的至少一個調整組件(Mi )之調整移位，執行以下程序：該成像的生產傳遞函數由該生產系統確定為一目標傳遞函數。該生產傳遞函數取決於一物體照明的一照明設定。此確定針對一目標照明設定來實施。更進一步，該成像的測量傳遞函數由該測量系統(15、4)確定為一實際傳遞函數。該測量傳遞函數同樣取決於該物體照明的該照明設定。此確定也針對該目標照明設定來實施。改變該測量系統(15、4)的至少一個調整組件(Mi )之調整位置

Description

使光學生產系統的成像特性近似於光學測量系統的成像特性之方法及為此目的之計量系統
[相關申請案]
德國專利申請案DE 10 2019 206 648.8的內容以引用方式併入本文中。
本發明係關於使光學生產系統的成像特性近似於光學測量系統的成像特性之方法。進一步，本發明係關於具有測量系統用於執行這種方法之計量系統。
從US 2017/0131 528 A1 (平行文件WO 2016/0124 425 A2)和從US 2017/0132782 A1中已知一計量系統。
本發明的目的係改善使光學生產系統的成像特性近似於光學測量系統的成像特性之精度，該光學測量系統尤其可以是計量系統的一部分。
根據本發明，藉由具備請求項1內指定特徵的一近似方法來達成此目的。
根據本發明認識到，為了使光學生產系統的成像特性近似於光學測量系統的成像特性之目的，如果不是最小化兩個光學系統之間的波前差異，而是將重點放在最小化兩個光學系統的傳遞函數偏差上，則會提高精度。除了波前之外，該相應傳遞函數還特別包括該物體照明期間的照明設定，即該物體照明期間的照明角度分佈。在該近似方法中考慮照明設定可改善成像特性的近似。尤其是，成像特性近似可獨立於物體進行，使得在任何情況下對於特定類別的物體，由於近似方法而產生的至少一個調整組件之調整位置導致此類所有物體的成像特性之期望近似值。尤其是，這樣的物體可為真實物體，即具有真實光罩透射函數的物體，及/或弱物體，即其繞射光譜由繞射的零階主導之物體，從而零階繞射構成超過例如在一定繞射角度範圍內的繞射強度之90％。
目標傳遞函數可為最佳傳遞函數，即特別是無像差傳遞函數。另外，當指定目標傳遞函數時，也可在光學生產系統的已知波前像差下工作。首先，該光學生產系統和第二，該光學測量系統可為兩個不同的光學系統。然而，原則上，該光學生產系統和該光學測量系統也可為具有相同結構的系統。
使用分別找到的至少一個調整組件之調整位置，其中傳遞函數彼此之間的偏差已最小化，則尤其可藉助於該光學測量系統，產生或模擬該物體的3D空照影像。對於該空照影像的每個z坐標，即對於垂直於像平面的每個坐標，然後可選擇至少一個調整組件的不同調整位置，當最小化傳遞函數偏差時，要考慮與此z坐標相對應的該生產系統波前，該不同調整位置分別在該近似方法期間出現。
可調自由度可為平移及/或旋轉自由度。替代或此外，可針對調整目的使調整組件變形。
如請求項2對一個和相同的調整組件之多個自由度的調整，增加了用於最小化傳遞函數偏差的近似方法選項。
如果如請求項3使用多個可調整的調整組件，則這相應地適用。該等多個調整組件也可依次在一個以上的自由度上進行調整。
如請求項4之方法增加了近似方法的使用可能性，並因此讓該測量系統進行的空拍影像模擬與在相應照明設定情況下之生產系統一致。
可用的照明設定可為傳統照明設定、具有小或大照明角度的環形照明設定、偶極照明設定、多極照明設定，特別是四極照明設定。這種多極照明設定的極可具有不同的邊緣輪廓，例如葉子或透鏡元件形狀的邊緣輪廓。
舉例來說，如請求項5項之方法有助於規範至少一個調整組件的調整位置，以用於模擬3D空照影像。
使用如請求項6之查找表，簡化針對各種照明設定的空拍影像模擬。
在指定的照明設定情況下，然後例如可在從查找表查詢操縱器位置之後，將測量系統帶入調整組件的指派調整位置。隨後，可針對已知物體執行利用測量系統的成像，該成像產生例如要模擬的生產系統中3D空拍影像之2D值貢獻。
如請求項7之計量系統的優點對應於上面已經參考根據本發明近似方法所解釋的優點。
計量系統可用於測量針對投影曝光而提供的微影光罩，以產生具有非常高結構解析度的半導體組件，該結構解析度例如優於30 nm，特別是可優於10 nm。
圖1在對應於子午線截面的平面中顯示在含一變形投影曝光成像光學單元3的投影曝光設備2中EUV照明光或成像光1之光學路徑，該投影曝光設備由圖1中的方框示意呈現。照明光1在投影曝光設備2的照明系統4中產生，該照明系統同樣以方框示意呈現。投射曝光設備2的照明系統4與成像光學單元3一起構成光學生產系統。
照明系統4內含一EUV光源和一照明光學單元，兩者均未更詳細顯示。光源可以是雷射電漿源(LPP；雷射產生的電漿)或放電源(DPP；放電產生的電漿)。原則上，也可使用同步加速器型光源，例如自由電子雷射(FEL)。照明光1的使用波長可在介於5 nm與30 nm之間的範圍內。原則上，在投影曝光設備2的變體中，也可使用其他使用過光波長的光源，例如193 nm的使用波長。
在照明系統4的照明光學單元中，對照明光1進行調節，從而提供照明的特定照明設定，即特定的照明角度分佈。該照明系統4中該照明光學單元的照明光瞳內照明光1之特定強度分佈對應至此照明設定。
圖4至圖9各自在上半部顯示此類照明設定的範例。在每種情況下，用陰影線表示照明光瞳的照明區域。圖4的上半部顯示一傳統照明設定的範例，其中幾乎所有照明角度都用於一物體照明，除了靠近被照亮物體上中心入射角附近的照明角度之外，其可能會偏離垂直照明。圖5的上半部顯示環形照明設定，該設定總體上具有小照明角，即靠近中心入射角的照明角，其本身被排除在外。圖6的上半部至圖9的上半部顯示偶極照明設定的不同範例，其中各個極點分別具有「葉子」輪廓，即邊緣輪廓近似對應於通過雙凸透鏡元件的截面。
為了幫助呈現位置關係，此後都使用笛卡爾xyz座標系統。在圖1內，該x軸垂直於該圖式平面並往外延伸。該y軸朝向圖1右方。該z軸朝向圖1的上方。
照明光1以分別設置的照明設定，例如根據圖4的上半部至圖9的上半部之照明設定之一，照亮投影曝光設備2的物平面6之物場5。微影光罩7為生產期間要照明的物體，設置在物平面6中；該微影光罩也稱為倍縮光罩(reticle)。在圖1中示意性顯示在平行於xy平面延伸的物平面6上方微影光罩7之結構截面。此結構截面以位於圖1中圖式平面內之方式呈現。微影光罩7的實際佈置垂直於物平面6中圖1內的圖式平面。
如圖1中示意性所示，照明光1從微影光罩7反射，並在入射光瞳平面9中進入成像光學單元3的入射光瞳8。成像光學單元3的運用入射光瞳8具有橢圓形邊界。
照明光或成像光1在成像光學單元3之內的入射光瞳平面9與出射光瞳平面10之間傳播。成像光學單元3的圓形出射光瞳11位於出射光瞳平面10內。成像光學單元3變形，並且從橢圓形入射光瞳8產生圓形出射光瞳11。
成像光學單元3將物場5成像到投影曝光設備2的像平面13內之像場12中。圖1示意性顯示在像平面13下方的一成像光強度分佈IScanner ，其在沿z方向與像平面13間隔值zw 的平面中測量，即在散焦值zw 下的成像光強度。
在圖1中示意性例示為實際波前值與該目標波前值(散焦＝ 0)的散焦偏差之一波前像差φ出現在物平面6和像平面13之間，特別是由於成像光學單元3的組件。
在像平面13周圍許多z值處的成像光強度IScanner (x, y, zw )也稱為投影曝光設備2的3D空照影像。投影曝光裝置2具體實施為一掃描器。在投影曝光期間，相對於彼此同步掃描先是微影光罩7，接著佈置在像平面13中的晶圓。結果，微影光罩7上的結構轉移至該晶圓上。
圖2顯示用於測量微影光罩7一計量系統14。計量系統14用於以三維方式確定微影光罩7的空照影像，近似於投影曝光設備2的實際空照影像IScanner (x, y, zw )。為此，使用一種方法，其中當通過該光學測量系統的至少一組件之調整移位對該物體成像時，使光學生產系統，即投影曝光設備2的照明系統4和成像光學單元3的成像特性接近計量系統14的光學測量之成像特性。
上面已參考圖1解釋的組件和功能在圖2中具有相同的參考符號，並且將不再詳細討論。
與投影曝光設備2的變形成像光學單元3相反，計量系統14的測量成像光學單元15具體實施為一同構光學單元，即具體實施為含有一同構成像比例的一光學單元。除了全局成像比例之外，在這種情況下，真實形成從入射測量光瞳16轉換至出射測量光瞳17。計量系統14的測量成像光學單元15與照明系統4一起形成用於物體成像的光學測量系統。
計量系統14在入射光瞳平面9中具有橢圓形孔徑光欄16a，從WO 2016/012 426 A1中已知計量系統中的這種橢圓形孔徑光欄16a之具體實施例。此橢圓形孔徑光欄16a產生測量成像光學單元15的橢圓形入射測量光瞳16。在此，孔徑光欄16a的內邊界指定入射測量光瞳16的外輪廓。此橢圓形入射測量光瞳16轉換成橢圓形出射測量光瞳17。橢圓形入射測量光瞳16的長寬比可與投影曝光設備2中成像光學單元3的橢圓形入射光瞳8之長寬比完全相同。關於該計量系統，也可參考WO 2016/012 425 A2。
測量成像光學單元15具有至少一個可移位及/或可變形的測量光學單元調整組件。這種測量光學單元調整組件在圖2中的Mi 處示意性例示為一反射鏡。測量成像光學單元15可具有多個反射鏡M1 、M2 、…，並且可包括這種測量光學單元調整組件的對應的多個Mi 、Mi+1 。在相應的測量光學單元調整組件Mi 中，恰好一個自由度可具有可調整的設計。另外，也可將多個移位自由度設計為可調整，即可移位及/或可變形。
Figure 02_image005
可移位及/或可變形的測量光學單元調整組件Mi 之可移位性及可操作性在圖2中由操縱桿18示意性示出。操縱的自由度在圖2中用雙向箭頭表示。取決於可移位及/或可變形的測量光學單元組件Mi 的相應設定行程
Figure 02_image007
，以下也稱為失準，產生波前像差φ (
Figure 02_image007
)，其在圖2中以類似於圖1的方式示意性地示出。
在計量系統14的測量平面19中佈置有空間分辨偵測裝置20，其可為CCD相機，該測量平面構成測量成像光學單元15的像平面。以類似於圖1中的方式，圖2在測量平面19下方顯示根據可移位及/或可變形測量光學單元組件Mi 中各自未對準
Figure 02_image007
的強度測量結果Imeasured (x, y,
Figure 02_image007
)。
通常，光學生產系統的成像光學單元3與光學測量系統的測量成像光學單元15不同，這在上面的範例中通過生產系統的變形成像與通過測量系統的同構成像間之差異得以闡明。生產系統的成像光學單元與測量系統的成像光學單元間之其他及/或額外差異，也可能導致光學生產系統的成像光學單元之成像不同於光學測量系統之成像。
下面說明的近似或會聚方法的目的在於通過該至少一個測量光學單元調整組件Mi的調整位移，使該光學測量系統的成像特性與投射曝光設備2的該光學生產系統之成像特性一致，使得在該測量成像光學單元的最終調整情況下，對於要成像的不同物體，出現光學生產系統的空照影像IScanner 與光學測量系統的Imeasured 之間的對應關係盡可能好。在此可認識到，可通過以下目的來改善成像特性的這種近似之最佳化，其目的不是使波前差異最小，而是實際上使與照明設定有關的傳遞函數偏差最小，造成更好的結果。
圖3以示範方式顯示在非發明性近似方法的情況下，特別是在首先是投影曝光設備2的成像光學單元3與其次是計量系統14的測量成像光學單元15的RMS波前值之間差異純最小化情況下之設定結果。在兩個光學單元3和15的整個可用數值孔徑之空間頻率kx、ky上，繪製出各個偏差的值。在此波前差異圖的右邊規定比例，該比例允許在最小值ρmin與最大值ρmax之間分配相應的絕對差值。在可用數值孔徑近似V形的中心部分中，波前差具有最小值，該最小值在可用孔徑的下邊緣區域和上邊緣區域中增大為更高的差異。
在根據本發明的成像特性近似方法中，光學單元3、15的波前間之差異沒有獨立於所設定的照明設定而最佳化；取而代之的是，在首先是投影曝光設備2的光學生產系統之該傳遞函數(傳遞函數TP )與其次是計量系統14的測量系統之該傳遞函數(傳遞函數TM )之間差異之照明設定相關最小化。
為此，首先將由生產系統成像的生產傳遞函數TP 確定為目標傳遞函數，其中，該生產傳遞函數TP 取決於特定的、選定的目標照明設定用於物體照明，例如用於根據圖4上半部的該照明設定。
這裡所利用的是，根據空間頻率坐標k並且根據相關的成像光學單元組件之組件自由度α，空照影像的光譜F，即空照影像的傅立葉轉換，大致可描述如下：
Figure 02_image009
(1)
此近似關係適用於真實光罩，即適用於沒有光罩傳遞函數的虛數部分之光罩。再者，此關係適用於弱光罩，即適用於其物體光譜由零級繞射占主導的物體。
在此，F0 是該光罩的恆定繞射背景。F1 是一個與空間頻率有關的因素，僅取決於光罩而不取決於成像光學單元的特性。T0 ，T1 和T2 是傳遞函數T的貢獻，該函數僅取決於成像系統的特性，而不取決於光罩。
在此適用下列：
Figure 02_image013
(2)
在此，σ為指定的照明設定。
Figure 02_image015
是相應成像光學單元的振幅變跡形式(在可用數值孔徑內為1，在之外為0)。「*」代表卷積運算元。
Figure 02_image019
(3)
在此，
Figure 02_image021
(4)
在此，φ是成像光學單元的相應波前，在測量成像光學單元15的情況下，其取決於至少一個測量光學單元調整組件的相應位置
Figure 02_image025
。
Figure 02_image029
(5)
在此，
Figure 02_image031
(6)
例如，在C. Zuo等人在2017年8月9日出版的Scientific Reports，7:7654 / DOI: 10.1038 / s41598-017-06837-1 (www.nature.com/scientificreports)之文章「High-resolution transport-of-intensity quantitative phase microscopy with annular illumination」中，描述確定弱物體成像光學單元的光學傳遞函數之方法。
因此，在實際光罩較弱的情況下，首先對於光學生產系統，其次對於光學測量系統，傳遞函數T之間的差異最小，從而使光譜之間的差異最小，並且因此造成希望的空照影像最小化。
通過插入用於照明設定σ、變跡函數A和波前φ的可確定值，可確定首先用於光學生產系統(生產傳遞函數)，其次用於光學測量系統(測量傳遞函數)的傳遞函數TP 、TM 。
通過波前φ，該測量傳遞函數TM 取決於至少一個測量光學單元調整組件Mi 的相應調整位置
Figure 02_image035
。現在，使用數值最佳化方法，通過改變至少一個測量光學單元調整組件的調整自由度，來搜索生產傳遞函數TP 與測量傳遞函數TM 的最小偏差。
再一次，此最小化可實現為RMS最小化，因此以下表達式最小化：
Figure 02_image037
(7)
經證實適用於此近似方法的微影光罩7之光罩結構範例為具有在8 nm與30 nm之間臨界尺寸(CD)範圍和在1:1與1:2之間間距範圍線結構。在此，可解決典型尺寸範圍在2x2 nm2 和5x5 nm2 之間的缺陷。在此，微影光罩7上的缺陷可能會以凸起或切口的形式出現。在光學生產系統的成像特性內近似方法期間，此處可考慮的散焦值範圍最大為30 nm，例如+/- 22 nm。對於這些邊界條件產生，如上所述，傳遞函數偏差的最小化比如上所述，基於圖3的波前偏差的純最小化更好之近似結果。
可針對各種相對影像位置確定該生產傳遞函數TP ，該位置在投影系統的像場中偏離理想的相對影像位置(散焦等於0)。
圖4至圖9生動顯示出當針對上面分別例示的各種照明設定執行上述傳遞函數最小化時，在首先該光學生產系統與其次該光學測量系統之間的波前偏差。經證實，圖4至圖9下半部的波前偏差一定是彼此不同的，尤其是有規律地與根據圖3的最佳波前差異不同。儘管波前內有這些差異，但是在使用傳遞函數最小化時，相對於上述光罩範例的空照影像中之偏差與分別使用波前最小化的情況相比，空照影像中的偏差明顯降低。
根據照明設定，對於測量光學單元調整組件或對於測量光學單元調整組件產生一組特定的調整值。關聯的操縱器位置可分配給相應的照明設定，並儲存在查找表中。然後，如果在特定照明設定的情況下，應生成光學測量系統的最佳近似空照影像，則可通過查詢該查找表的值來查詢和設置與所選照明設定匹配之操縱器設定集合。
1:EUV成像光 2:投影曝光設備 3:變形投影曝光成像光學單元 4:照明系統 5:物場 6:物平面 7:微影光罩 8:入射光瞳 9:入射光瞳平面 10:出射光瞳平面 11:圓形出射光瞳 12:像場 13:像平面 14:計量系統 15:測量成像光學單元 16:橢圓形入射測量光瞳 16a:橢圓形孔徑光欄 17:橢圓形出射測量光瞳 18:操縱桿 19:測量平面 20:空間分辨偵測裝置
下面將參考圖式來更詳細解釋本發明的示範具體實施例。在圖式中：
圖1示意性顯示用於EUV微影的投影曝光設備，其具有用於成像一微影光罩的一變形投影曝光成像光學單元，作為一光學生產系統；
圖2示意性顯示用於確定該微影光罩的一空照影像之計量系統，其具有含一同構成像比例的一測量成像光學單元、具有長寬比不等於1的孔徑光欄，以及至少一個可移位測量光學單元調整組件，作為一光學測量系統；
圖3在兩光學系統的成像特性近似之非發明性最佳化情況下，在最小值ρmin和最大值ρmax之間標定一光學生產系統的波前與該光學測量系統的波前之間該波前差異之結果，在使各個波前像差的RMS值間之差異最小之基礎上，將該波前差異最小化；
圖4在上半部顯示：用於一物體的物體照明之照明設定，該物體首先通過該光學生產系統成像，然後通過該光學測量系統成像，具體實施為在可偏離垂直照明的平均照明角度環境中，具有遮蔽區域的傳統設定，以及
在下半部：在類似於圖3的圖式中，由於最佳化而產生的波前差異，而非首先是光學生產系統並且其次是光學測量系統的波前RMS值之差異最小化，生產系統成像之生產傳遞函數與測量系統成像之測量傳遞函數之間的偏差最小，其中該等傳遞函數分別取決於該照明設定；
圖5在上半部顯示：在類似於圖4的圖式中，在上半部，進一步的照明設定，具體實施為具有小物體照明角度，即僅與平均照明稍微偏離的物體照明角度之環形設定，以及
在下半部：在類似於圖4的圖式中，在下半部，用於根據圖5的該照明設定之波前差異，在上半部，由於該生產傳遞函數與該測量傳遞函數的偏差最小化之結果；以及
圖6至圖9在類似於圖4和圖5的圖式中，在上半部顯示：在每種情況下，以不同偶極照明設定形式的進一步照明設定，以及在下半部：由於最小化而產生的波前差異之相關結果，在產品傳遞函數偏離測量傳遞函數用於個別照明設定之情況下。
1:EUV成像光
4:照明系統
5:物場
6:物平面
7:微影光罩
9:入射光瞳平面
10:出射光瞳平面
14:計量系統
15:測量成像光學單元
16:橢圓形入射測量光瞳
16a:橢圓形孔徑光欄
17:橢圓形出射測量光瞳
18:操縱桿
19:測量平面
20:空間分辨偵測裝置

Claims (6)

  1. 一種使光學生產系統的成像特性近似於光學測量系統的成像特性之方法，用於- 將一物體(7)成像的一光學生產系統(3、4)之成像特性，近似於- 將該物體(7)成像時一光學測量系統(15、4)的成像特性，該等成像特性來自該光學測量系統(15、4)的至少一個調整組件(Mi)之一調整移位，- 包括以下步驟：-- 將該光學生產系統(3、4)成像的一生產傳遞函數(TP)確定為一目標傳遞函數，該生產傳遞函數(TP)取決於用於一物體照明的一照明設定(σ)，用於一目標照明設定，-- 將該光學測量系統(15、4)成像的一測量傳遞函數(TM)確定為一實際傳遞函數，該測量傳遞函數(TM)取決於用於該物體照明的該照明設定(σ)，用於該目標照明設定，-- 改變該光學測量系統(15、4)的該至少一個調整組件(Mi)之一調整位置(
    Figure 109115392-A0305-02-0016-1
    )，以使該生產傳遞函數(TP)與該測量傳遞函數(TM)的一偏差最小；其中該光學測量系統(15、4)的該調整組件(Mi)之多個自由度可調整。
  2. 如請求項1所述之方法，其特徵在於該光學測量系統(15、4)的多個調整組件(Mi)可調整。
  3. 如請求項1所述之方法，其特徵在於該方法是針對該光學生產系統(3、4)的該生產過程中使用之各種照明設定(σ)所執行。
  4. 如請求項1所述之方法，其特徵在於針對各種相對影像位置(zw)確定該生產傳遞函數(TP)，其中該位置偏離該光學生產系統(3、4)的一像場(12)中之理想相對影像位置。
  5. 如請求項1所述之方法，其特徵在於將該至少一個調整組件(Mi)的該操縱器位置指派給該相應照明設定(σ)，並將該關聯資料儲存在一查找表中。
  6. 一種具有一光學測量系統(15、4)來執行如請求項1至5任一項所述之方法之計量系統(14)，- 包括具有一照明光學單元(4)的一照明系統，該單元用於以一指定的照明設定(σ)照明要檢驗的該物體(7)，- 包括用於將該物體(7)的一部分成像到一測量平面(19)中之一成像光學單元(15)，該成像光學單元具有至少一個調整組件，其可通過一調整操縱器在至少一個移位及/或旋轉自由度內移位，以及- 包括一空間分辨偵測裝置(20)，其佈置在該測量平面內。
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