TWI753645B - 微型發光二極體顯示器及其修補方法 - Google Patents

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Abstract

一種微型發光二極體顯示器，其包括顯示基板、第一焊接層、至少一第二焊接層、多個第一微型發光二極體以及至少一第二微型發光二極體。顯示基板包括具有多個像素區的基板、第一線路層以及第二線路層，且第一線路層與第二線路層分布於各像素區內。第一焊接層設置於第一線路層上。第二焊接層設置於第二微型發光二極體上。第一焊接層的分布面積大於第二焊接層的分布面積。所述多個第一微型發光二極體透過第一焊接層接合於各像素區內的第一線路層。第二微型發光二極體透過第二焊接層接合於一個像素區內的第二線路層。

Description

微型發光二極體顯示器及其修補方法
本發明是有關於一種顯示器及其修補方法，且特別是有關於一種微型發光二極體顯示器及其修補方法。
隨著顯示技術的發展，顯示器中的背光(backlight)已從發光二極體背光(LED backlight)發展至次毫米發光二極體背光(mini LED backlight)或微型發光二極體背光(micro LED backlight)。以微型發光二極體背光為例，數百萬或數千萬顆的微型發光二極體採用巨量轉移(mass transfer)的技術自磊晶基板轉移至顯示基板，轉移至顯示基板上的微型發光二極體可能因損壞或定位失準無法發光而形成壞點(broken spot)，導致顯示品質下滑。遂有應用於微型發光二極體背光的修補方法被提出。
顯示基板可劃分出陣列排列的多個像素區，現有的修補方法是在各像素區內設置第一焊接層與第二焊接層，且第一焊接層與第二焊接層形成於各像素區內的線路上。進一步來說，在轉移程序中，第一焊接層經第一次回焊(reflow)，以使多個第一微型發光二極體透過第一焊接層接合於各像素區內的線路。同時，第二焊接層也經第一次回焊(reflow)。一旦檢測出任一個像素區內的第一微型發光二極體因損壞或定位失準無法發光，立即進行修補程序。在修補程序中，將第二微型發光二極體轉移至存在壞點的像素區，其中第二焊接層經第二次回焊，以使第二微型發光二極體透過第二焊接層接合於存在壞點的像素區內的線路，以替代無法發光的第一微型發光二極體。
因第二焊接層經過至少二次回焊，存在壞點的像素區內的線路與第二微型發光二極體之間的接合強度有不足的疑慮，且易於產生第二焊接層搭接於同一像素區內的其他線路而致短路的情況。為了避免產生短路，常見的方法是使用防焊層來避免焊接層溢流，且防焊層往往會包覆在線路層兩旁。在修補過程中，由於線路層上的部分空間會被防焊層包覆，因此需要較精準的對位來進行焊接層與線路層的連接。也就是說，現有的修補方法的修補良率不佳。
本發明提供一種微型發光二極體顯示器，具有極佳的可靠度。
本發明提供一種微型發光二極體顯示器的修補方法，有助於提高修補良率。
本發明提出一種微型發光二極體顯示器，其包括顯示基板、第一焊接層、至少一第二焊接層、多個第一微型發光二極體以及至少一第二微型發光二極體。顯示基板包括基板、第一線路層以及第二線路層，其中基板定義有多個像素區，且第一線路層與第二線路層分布於各像素區內。各像素區內的第二線路層並列於第一線路層。第一焊接層設置於第一線路層上。第二焊接層設置於第二微型發光二極體上。第一焊接層的分布面積大於第二焊接層的分布面積。所述多個第一微型發光二極體透過第一焊接層接合於各像素區內的第一線路層。第二微型發光二極體透過第二焊接層接合於一個像素區內的第二線路層。
在本發明的一實施例中，上述的第一焊接層完全覆蓋第一線路層中背向基板的頂面。
在本發明的一實施例中，上述的第二焊接層局部覆蓋第二線路層中背向基板的頂面。
在本發明的一實施例中，上述的第二焊接層的分布面積小於第二線路層中背向基板的頂面的表面積。
在本發明的一實施例中，上述的至少一第二微型發光二極體包括磊晶層與連接磊晶層的電極，且第二焊接層形成於電極。電極與第二焊接層回焊形成金層、金銦合金層以及銦層。
在本發明的一實施例中，上述的微型發光二極體顯示器更包括設置於基板上的光學膠層，其中光學膠層包覆各第一微型發光二極體的局部、第二微型發光二極體的局部、第一焊接層、第一線路層、第二焊接層以及第二線路層。
在本發明的一實施例中，上述的位於同一個像素區內的第一微型發光二極體與第二微型發光二極體被通電後，第二微型發光二極體發光，且第一微型發光二極體不發光。
在本發明的一實施例中，上述的第一微型發光二極體與對應於第一微型發光二極體的第一焊接層的一部分被移除，且第一焊接層的另一部分殘留於第一線路層上。
本發明提出一種微型發光二極體顯示器的修補方法包括以下步驟。提供顯示基板，其中顯示基板包括基板、第一線路層以及第二線路層，且基板具有多個像素區。第一線路層與第二線路層分布於各像素區內，且各像素區內的第二線路層並列於第一線路層。接著，形成第一焊接層於各像素區內的第一線路層。然後，將多個第一微型發光二極體轉移至顯示基板，並透過第一焊接層接合於各像素區內的第一線路層。接著，形成第二焊接層於至少一第二微型發光二極體上。之後，將第二微型發光二極體轉移至顯示基板，並透過第二焊接層接合於其中一個像素區內的第二線路層。另外，第一焊接層的分布面積大於第二焊接層的分布面積。
在本發明的一實施例中，上述的微型發光二極體示器的修補方法更包括以下步驟。在形成第一焊接層於各像素區內的第一線路層之後，形成光學膠層於基板上，且光學膠層包覆第一焊接層、第一線路層以及第二線路層。
在本發明的一實施例中，上述的在將所述多個第一微型發光二極體轉移至顯示基板的過程中，各第一微型發光二極體嵌入光學膠層。
在本發明的一實施例中，上述的在將第二微型發光二極體轉移至顯示基板的過程中，第二微型發光二極體與第二焊接層嵌入光學膠層。
在本發明的一實施例中，上述的微型發光二極體示器的修補方法更包括以下步驟。在將第二微型發光二極體轉移至顯示基板之前，對所述多個第一微型發光二極體進行檢測。
基於上述，本發明提出的微型發光二極體顯示器的修補方法是在檢測出任一個像素區存在壞點後，才形成第二焊接層於第二微型發光二極體，接著進行修補程序，以將第二微型發光二極體轉移至存在壞點的像素區內。如此一來，第二焊接層不會經過二次回焊，因而可提高第二微型發光二極體與存在壞點的像素區內的第二線路層之間的接合強度，並且，第二焊接層的分布面積小於第二線路層中背向基板的頂面的表面積，以具有更寬裕的精準對位空間，即使不需要包覆防焊層也可避免第二焊接層搭接於同一像素區內的第一線路層，防止形成短路。因此，本發明提出的微型發光二極體顯示器的修補方法有助於提高修補良率，而且製作所得的微型發光二極體顯示器具有極佳的可靠度。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1A至圖1D是本發明一實施例的微型發光二極體顯示器的修補方法的局部剖面示意圖。首先，請參考圖1A與圖1B，進行轉移步驟。如圖1A所示，提供顯示基板110，其中顯示基板110包括基板111、形成於基板111上的第一線路層112以及形成於基板111上的第二線路層113，且基板111具有多個像素區111a。另外，第一線路層112與第二線路層113分布於各像素區111a內，且各像素區111a內的第二線路層113並列於第一線路層112。
舉例來說，第一線路層112與第二線路層113的材料可包括鉬(Molybdenum)、鈦(Titanium)或氧化銦錫(ITO)，其中第一線路層112作為各像素區111a內的主要線路，且第二線路層113作為各像素區111a內的修補線路。
接著，採用印刷或塗布等方式形成第一焊接層120於各像素區111a內的第一線路層112，且第一焊接層120完全覆蓋第一線路層112中背向基板111的頂面112a。舉例來說，第一焊接層120的材質可為銦(Indium)。
然後，請參考圖1B，將多個第一微型發光二極體130轉移至顯示基板110，並透過第一焊接層120接合於各像素區111a內的第一線路層112。也就是說，每一個像素區111a具有一個第一微型發光二極體130。在將多個第一微型發光二極體130轉移至顯示基板110的過程中，每一個像素區111a內的第二線路層113上不具有焊料。
接著，進行檢測程序。在檢測程序中，先對所述多個第一微型發光二極體130通電，並採用自動光學檢測(AOI)設備檢測各像素區111a是否存在壞點。倘若檢測出任一個像素區111a存在壞點，則代表著該像素區111a內的第一微型發光二極體130因損壞或定位失準而無法發光。之後，對存在壞點的像素區111a進行修補程序。
接著，如圖1C所示，提供至少一第二微型發光二極體150，且第二微型發光二極體150的色光與無法發光的第一微型發光二極體130的色光相同。然後，採用印刷或塗布等方式形成第二焊接層140於至少一第二微型發光二極體150上。進一步來說，第二微型發光二極體150包括磊晶層151與連接磊晶層151的電極152，且第二焊接層140形成於電極152上。舉例來說，第二焊接層140的材質可為銦(Indium)，且電極152材質可為金。
最後，如圖1D所示，將第二微型發光二極體150轉移至顯示基板110，並透過第二焊接層140接合於存在壞點的像素區111a內的第二線路層113，以替代無法發光的第一微型發光二極體130。因此，當通電至存在壞點的像素區111a內的第一微型發光二極體130與第二微型發光二極體150時，第二微型發光二極體150發光，且第一微型發光二極體130不發光。另一方面，在不存在壞點的其他像素區111a內，第二線路層113上不具有第二焊接層140。
在本實施例中，各像素區111a內的第一線路層112與第二線路層113的幾何輪廓或尺寸相同，其中第一焊接層120完全覆蓋第一線路層112中背向基板111的頂面112a，且第二焊接層140局部覆蓋第二線路層113中背向基板111的頂面113a。因此，第一焊接層120在第一線路層112上的分布面積大於第二焊接層140在第二線路層113上的分布面積，換言之，第二焊接層140的分布面積小於第二線路層113中背向基板111的頂面113a的表面積。
在將所述多個第一微型發光二極體130轉移至顯示基板110的過程中，各像素區111a內的第二線路層113上不具有第二焊接層140。也就是說，在修補程序中，形成於第二微型發光二極體150上的第二焊接層140無二次回焊的疑慮。因此，第二微型發光二極體150可透過第二焊接層140牢固地接合於存在壞點的像素區111a內的第二線路層113。
上述修補方法不僅可提高第二微型發光二極體150與存在壞點的像素區111a內的第二線路層113之間的接合強度，並且第二焊接層140的分布面積小於第二線路層113中背向基板111的頂面113a的表面積，以具有更寬裕的精準對位空間，即使不需要包覆防焊層也可避免第二焊接層140搭接於同一像素區111a內的第一線路層112，防止形成短路。因此，上述修補方法有助於提高修補良率，而且製作所得的微型發光二極體顯示器100具有極佳的可靠度。
圖1E是本發明一實施例的微型發光二極體顯示器的局部俯視示意圖。圖1F是圖1E的微型發光二極體顯示器沿剖線C-C的局部剖面示意圖。請參考圖1E與圖1F，在一實施例中，在存在壞點的一個像素區111a(圖1E中的左下角像素區)內，可採用雷射移除無法正常發光的第一微型發光二極體130(例如是，第一微型發光二極體130接合於第一線路層112時形成短路或開路)。在移除第一微型發光二極體130的過程中，第一焊接層120的一部分隨第一微型發光二極體130被移除，且第一焊接層120另一部分殘留於第一線路層112上。舉例來說，在第一焊接層120的一部分隨第一微型發光二極體130被移除後，第一線路層112的頂面112a的一部分暴露於外。另一方面，在存在壞點的另一個像素區111a(圖1E中的右上角像素區)內，第一微型發光二極體130與第二微型發光二極體150共存，也就是說，無法發光的第一微型發光二極體130(例如是，第一微型發光二極體130接合於第一線路層112時形成開路而無法發光)未被移除。
圖2是本發明一實施例的第二微型發光二極體接合於第二線路層的局部放大示意圖。請參考圖2，第二焊接層140的材質可為銦(Indium)，且第二微型發光二極體150的電極152材質可為金。經回焊後，電極152與第二焊接層140回焊形成金層101、金銦合金層102以及銦層103，其中金層101為電極152中未產生化學反應的一部分，且銦層103為第二焊接層140未產生化學反應的一部分。另外，銦合金層102為電極152中產生化學反應的另一部分與第二焊接層140中產生化學反應的另一部分。進一步來說，金層101位於銦合金層102上，且連接磊晶層151。銦合金層102與銦層103連接第二線路層113，其中銦合金層102位於金層101與第二線路層113之間，且銦層103局部包覆銦合金層102的外壁面。
圖3是本發明另一實施例的第二微型發光二極體接合於第二線路層的局部放大示意圖。請參考圖3，第二焊接層140的材質可為銦(Indium)，且第二微型發光二極體150的電極152材質可為金。經回焊後，電極152與第二焊接層140回焊形成金層101、金銦合金層102以及銦層103，其中金層101為電極152中未產生化學反應的一部分，且銦層103為第二焊接層140未產生化學反應的一部分。另外，銦合金層102為電極152中產生化學反應的另一部分與第二焊接層140中產生化學反應的另一部分。進一步來說，金層101、金銦合金層102以及銦層103均連接至磊晶層151與第二線路層113，其中金層101被金銦合金層102包覆，且金銦合金層102被銦層103包覆。由內至外的排序為金層101、金銦合金層102以及銦層103。
圖4A至圖4D是本發明另一實施例的微型發光二極體顯示器的修補方法的局部剖面示意圖。請參考圖4A至圖4D，本實施例的微型發光二極體顯示器100A的修補方法與前一實施例的微型發光二極體顯示器100的修補方法大致相同，主要差異在於：在本實施例中，在形成第一焊接層120於各像素區111a內的第一線路層112之後，先形成光學膠層160於基板111上，再轉移多個第一微型發光二極體130。
詳細而言，光學膠層160可為光學膠或光學樹脂，且包覆第一焊接層120、第一線路層112以及第二線路層113。在將所述多個第一微型發光二極體130轉移至顯示基板110的過程中，各第一微型發光二極體130嵌入光學膠層160，且光學膠層160包覆各第一微型發光二極體130的側壁面的局部與各第一微型發光二極體130中朝向基板111的底面。
如圖4C與圖4D所示，在將第二微型發光二極體150轉移至顯示基板110的過程中，第二微型發光二極體150嵌入光學膠層160，且光學膠層160包覆第二微型發光二極體150的側壁面的局部與第二微型發光二極體150中朝向基板111的底面。進一步來說，光學膠層160包覆第二焊接層140與第二微型發光二極體150中的電極152。
最後，固化光學膠層160，以固定所述多個第一微型發光二極體130在基板111上的位置，並固定第二微型發光二極體150在基板111上的位置，避免產生偏移。
在轉移所述多個第一微型發光二極體130之前，先形成光學膠層160於基板111上，因未固化前的光學膠層160具有緩衝的效果，有助於防止轉移時的所述多個第一微型發光二極體130產生偏移或形成短路。相似地，光學膠層160也有助於防止轉移時的第二微型發光二極體150產生偏移或形成短路。
綜上所述，本發明提出的微型發光二極體顯示器的修補方法是在檢測出任一個像素區存在壞點後，才形成第二焊接層於第二微型發光二極體，接著進行修補程序，以將第二微型發光二極體轉移至存在壞點的像素區內。如此一來，第二焊接層不會經過二次回焊，因而可提高第二微型發光二極體與存在壞點的像素區內的第二線路層之間的接合強度，並且，第二焊接層的分布面積小於第二線路層中背向基板的頂面的表面積，以具有更寬裕的精準對位空間，即使不需要包覆防焊層也可避免第二焊接層搭接於同一像素區內的第一線路層，防止形成短路。因此，本發明提出的微型發光二極體顯示器的修補方法有助於提高修補良率，而且製作所得的微型發光二極體顯示器具有極佳的可靠度。在部分實施例中，在轉移程序或修補程序之前，光學膠層已形成於顯示基板上，以防止轉移時的第一微型發光二極體或第二微型發光二極體產生偏移或形成短路。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100、100A:微型發光二極體顯示器
101:金層
102:銦合金層
103:銦層
110:顯示基板
111:基板
111a:像素區
112:第一線路層
112a、113a:頂面
113:第二線路層
120:第一焊接層
130:第一微型發光二極體
140:第二焊接層
150:第二微型發光二極體
151:磊晶層
152:電極
160:光學膠層
C-C:剖線
圖1A至圖1D是本發明一實施例的微型發光二極體顯示器的修補方法的局部剖面示意圖。 圖1E是本發明一實施例的微型發光二極體顯示器的局部俯視示意圖。 圖1F是圖1E的微型發光二極體顯示器沿剖線C-C的局部剖面示意圖。 圖2是本發明一實施例的第二微型發光二極體接合於第二線路層的局部放大示意圖。 圖3是本發明另一實施例的第二微型發光二極體接合於第二線路層的局部放大示意圖。 圖4A至圖4D是本發明另一實施例的微型發光二極體顯示器的修補流程的局部剖面示意圖。
100:微型發光二極體顯示器
110:顯示基板
111:基板
111a:像素區
112:第一線路層
112a、113a:頂面
113:第二線路層
120:第一焊接層
130:第一微型發光二極體
140:第二焊接層
150:第二微型發光二極體
151:磊晶層
152:電極

Claims (17)

  1. 一種微型發光二極體顯示器，包括：顯示基板，包括基板、第一線路層以及第二線路層，其中該基板定義有多個像素區，且該第一線路層與該第二線路層分布於各該像素區內，各該像素區內的該第二線路層並列於該第一線路層；第一焊接層，設置於該第一線路層上；多個第一微型發光二極體，透過該第一焊接層接合於各該像素區內的該第一線路層；至少一第二微型發光二極體；以及至少一第二焊接層，設置於該第二微型發光二極體上，該第二微型發光二極體透過該第二焊接層接合於一該像素區內的該第二線路層，其中該第一焊接層的分布面積大於該第二焊接層的分布面積。
  2. 如請求項1所述的微型發光二極體顯示器，其中該第一焊接層完全覆蓋該第一線路層中背向該基板的頂面。
  3. 如請求項1所述的微型發光二極體顯示器，其中該第二焊接層局部覆蓋該第二線路層中背向該基板的頂面。
  4. 如請求項1所述的微型發光二極體顯示器，其中該第二焊接層的分布面積小於該第二線路層中背向該基板的頂面的表面積。
  5. 如請求項1所述的微型發光二極體顯示器，其中該至少一第二微型發光二極體包括磊晶層與連接該磊晶層的電極，且該第二焊接層形成於該電極，該電極與該第二焊接層回焊形成金層、金銦合金層以及銦層。
  6. 如請求項1所述的微型發光二極體顯示器，更包括設置於該基板上的光學膠層，其中該光學膠層包覆各該第一微型發光二極體的局部、該至少一第二微型發光二極體的局部、該第一焊接層、該第一線路層、該第二焊接層以及該第二線路層。
  7. 如請求項1所述的微型發光二極體顯示器，其中位於同一該像素區內的該第一微型發光二極體與該第二微型發光二極體被通電後，該第二微型發光二極體發光，且該第一微型發光二極體不發光。
  8. 如請求項7所述的微型發光二極體顯示器，其中該第一微型發光二極體與對應於該第一微型發光二極體的該第一焊接層的一部分被移除，且該第一焊接層的另一部分殘留於該第一線路層上。
  9. 一種微型發光二極體顯示器的修補方法，包括：提供顯示基板，其中該顯示基板包括基板、第一線路層以及第二線路層，且該基板具有多個像素區，其中該第一線路層與該第二線路層分布於各該像素區內，且各該像素區內的該第二線路層並列於該第一線路層；形成第一焊接層於各該像素區內的該第一線路層； 將多個第一微型發光二極體轉移至該顯示基板，並透過該第一焊接層接合於各該像素區內的該第一線路層；形成第二焊接層於至少一第二微型發光二極體上；以及將該至少一第二微型發光二極體轉移至該顯示基板，並透過該第二焊接層接合於一該像素區內的該第二線路層，其中該第一焊接層的分布面積大於該第二焊接層的分布面積。
  10. 如請求項9所述的微型發光二極體顯示器的修補方法，其中該第一焊接層完全覆蓋該第一線路層中背向該基板的頂面。
  11. 如請求項9所述的微型發光二極體顯示器的修補方法，其中該第二焊接層局部覆蓋該第二線路層中背向該基板的頂面。
  12. 如請求項9所述的微型發光二極體顯示器的修補方法，其中該第二焊接層的分布面積小於該第二線路層中背向該基板的頂面的表面積。
  13. 如請求項9所述的微型發光二極體顯示器的修補方法，其中該至少一第二微型發光二極體包括磊晶層與連接該磊晶層的電極，且該第二焊接層形成於該電極，該電極與該第二焊接層回焊形成金層、金銦合金層以及銦層。
  14. 如請求項9所述的微型發光二極體顯示器的修補方法，更包括：在形成該第一焊接層於各該像素區內的該第一線路層之後， 形成光學膠層於該基板上，且該光學膠層包覆該第一焊接層、該第一線路層以及該第二線路層。
  15. 如請求項14所述的微型發光二極體顯示器的修補方法，其中在將該些第一微型發光二極體轉移至該顯示基板的過程中，各該第一微型發光二極體嵌入該光學膠層。
  16. 如請求項14所述的微型發光二極體顯示器的修補方法，其中在將該至少一第二微型發光二極體轉移至該顯示基板的過程中，該至少一第二微型發光二極體與該第二焊接層嵌入該光學膠層。
  17. 如請求項9所述的微型發光二極體顯示器的修補方法，更包括：在將該至少一第二微型發光二極體轉移至該顯示基板之前，對該些第一微型發光二極體進行檢測。
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