TWI748282B - 掃描裝置 - Google Patents

Abstract

本發明揭露一種掃描裝置，包含光源模組及調整模組，該光源模組產生掃描光線，該調整模組調整該掃描光線出射後的光路徑，該調整模組包括與該掃描光線的光路徑交會的一偏折單元，該偏折單元以第一軸為軸心而旋轉，該掃描光線與該偏折單元的交會點隨著該偏折單元的旋轉而跨越(across)該偏折單元，使自該偏折單元出射的掃描光線基於該偏折單元的光學特性而令其光路徑改變，該第一軸軸向與入射該偏折單元的該掃描光線呈平行、呈交會且交會處的銳角小於90度、或呈歪斜且投影至同一平面上所形成的交會處的銳角小於90度，讓掃描光線產生對應的掃瞄範圍。

Description

掃描裝置

本發明係關於一種掃描裝置，特別是關於一種可調整掃描光線的出射方向而形成對應掃瞄範圍的掃描裝置。

用來偵測物體表面輪廓、與周遭物體間的距離或其他類似用途的掃描裝置，通常是以掃描光線(如雷射光或其他光源)射向周遭物體，並取得反射的光輻射後進行判別。

習知的掃描裝置對於掃描光線之光路徑的控制通常是將整個掃描裝置連同掃描光線的產生裝置以反覆的旋轉方式，讓掃描光線掃過周遭，這樣的驅動方式，為了同時要驅動掃描光線的產生裝置，除了驅動機構複雜外，也大幅增加了掃描裝置的體積，更對掃描光線的穩定性產生一定的風險(例如震動產生的誤差)，造成整體製作成本與維護成本的高昂以及重量的提高。

本發明之一目的在於縮減掃描裝置的體積。

本發明之另一目的在於降低掃描裝置具有不穩定性的風險程度。

本發明之再一目的在於擴展掃描裝置的掃瞄範圍及應用層面。

本發明之又一目的在於使掃描解析度能被容易的調整。

為達上述目的及其他目的，本發明提出一種掃描裝置，包含：一光源模組及一調整模組。該光源模組係產生掃描光線。該調整模組包括與該掃描光線的光路徑交會的一偏折單元，該偏折單元係以一第一軸為軸心而旋轉，該掃描光線與該偏折單元的交會點係隨著該偏折單元的旋轉而跨越(across)該偏折單元，並使自該偏折單元出射的該掃描光線的光路徑產生改變，其中，該第一軸的軸向與入射該偏折單元的該掃描光線係呈現平行、呈現交會且交會處的銳角小於90度、或呈現歪斜且投影至同一平面上所形成的交會處的銳角小於90度。

於本發明之一實施例中，該偏折單元可具有複數光折射區，每一光折射區係使跨越(across)該光折射區的該掃描光線，隨著該偏折單元的旋轉而在出射方向上形成由一側向另一側逐漸偏折，進而形成一掃瞄範圍。

於本發明之一實施例中，該等光折射區於該調整模組內係可繞該第一軸而呈連續地排列，該掃描光線係隨著該偏折單元的旋轉而反覆地跨越(across)該等光折射區，自各該光折射區出射的該掃描光線的光路徑係在該掃描範圍內呈單向式或往返式的變化。

於本發明之一實施例中，該偏折單元係為一片體，該片體係圍繞該第一軸。該片體的徑向軸係可垂直該第一軸。該等光折射區可由該片體表面的光學結構所構成。

於本發明之一實施例中，各該光折射區可具有一第一偏折區，相鄰的該第一偏折區係在該片體的徑向方向上呈現出隆起並朝兩側逐漸降低，該掃瞄範圍係由自該第一偏折區出射之掃描光線所組成。

於本發明之一實施例中，各該光折射區可具有一第二偏折區及一第三偏折區，該第二偏折區係自該片體的外周緣處隆起並朝兩側逐漸降低以及朝向該片體中心而延著該片體的徑向方向逐漸降低，該第三偏折區係自該片體的內周緣處隆起並朝兩側逐漸降低以及遠離該片體中心而延著該片體的徑向方向逐漸降低，該掃瞄範圍係由自相鄰之一半的該第二偏折區及一半的該第三偏折區出射之掃描光所組成。

於本發明之一實施例中，該偏折單元包括複數偏折部，各該偏折部具有複數光折射區，每一光折射區係使跨越該光折射區的該掃描光線，隨著該偏折單元的旋轉而在出射方向上形成由一側向另一側逐漸偏折，進而形成一掃瞄範圍。

於本發明之一實施例中，鄰近該光源模組之該偏折部具有的各該光折射區的面積係大於遠離該光源模組之該偏折部具有的各該光折射區的面積。

於本發明之一實施例中，該偏折單元的該等偏折部的數量係為二個，該二偏折部係為兩個片體的組合式偏折單元或單一片體的複合式偏折單元，該組合式偏折單元係於單一片體上具有一個對應的該偏折部，該複合式偏折單元係於單一片體的兩個相反的面上具有對應的該偏折部。

於本發明之一實施例中，該調整模組可包括一驅動單元，該驅動單元係驅動作為該第一軸的一旋轉軸，使該旋轉軸旋轉，該偏折單元係圍繞該第一軸而被設於該旋轉軸上。

於本發明之一實施例中，該光源模組可包括複數光發射單元，各該光發射單元係設於該偏折單元的同一側，各該光發射單元所產生之對應的掃描光線係與該偏折單元具有相異的交會點，提供相異的掃瞄平面。

於本發明之一實施例中，該光源模組可包括接收經對應之掃描光線照射後所反饋回來之光輻射的複數光接收單元，各該光發射單元係對應有至少一個該光接收單元。

於本發明之一實施例中，該光源模組可包括一光發射單元及一光接收單元，該光發射單元係產生該掃描光線，該光接收單元係接收經該掃描光線照射後所反饋回來之光輻射。

於本發明之一實施例中，該光接收單元可設為相鄰該光發射單元處且位於一掃描平面上，該掃描平面係為該掃描光線經過處於旋轉之該偏折單元的作用後，自該偏折單元出射之該掃描光線的光路徑所掃出的一平面區域的延伸。

據此，本發明透過調整模組上的偏折單元去調整掃描光線的出射光路徑，此外，該偏折單元的旋轉軸與入射該偏折單元的入射光路徑方向間，係呈現出一定程度的空間配置關係，也減少了掃描裝置中需要被驅動的部件數量，除了縮減掃描裝置的體積及使光路穩定外，在掃描解析度可基於旋轉轉速及偏折單元之光學結構的易設計基礎上，更可以提高掃描裝置的掃瞄範圍及應用層面。

100:光源模組

101:掃描光線

110、111:光發射單元

120、121:光接收單元

200:調整模組

201:第一軸

210、210'、210":偏折單元

211:第一偏折部

212:第二偏折部

220:旋轉軸

230:驅動單元

A:光折射區

A1:第一偏折區

A2:第二偏折區

A2-1:第二偏折半區

A3:第三偏折區

A3-1:第三偏折半區

L:標示段

MD:移動方向

SR:掃描範圍

SRf:前段掃描範圍

SR1~3:後段掃描範圍

SL:出射的掃描光

SL1~5:出射的掃描光

SLD1:出射的前段掃描光

SLD2:出射的後段掃描光

SP1~3:掃描點

RD:旋轉方向

[圖1]為本發明一實施例之掃描裝置及對應產生之光路徑的示意圖。

[圖2]為本發明一實施例之掃描裝置的立體示意圖。

[圖3]為本發明實施例中有關光路徑變化的示意圖。

[圖4]為本發明第一實施例中掃描裝置的立體示意圖。

[圖5]為本發明第二實施例中掃描裝置的立體示意圖。

[圖6]為圖5的偏折單元自側緣朝向軸心的視角下的部分結構示意圖。

[圖7]為圖5的偏折單元的部分結構立體示意圖。

[圖8]為圖5的偏折單元的第二偏折半區的結構及光路徑示意圖。

[圖9]為圖5的偏折單元的第三偏折半區的結構及光路徑示意圖。

[圖10]為本發明第三實施例中掃描裝置的立體示意圖。

[圖11]為本發明第四實施例中掃描裝置的立體示意圖。

[圖12]為本發明第五實施例中掃描裝置的立體示意圖。

[圖13]為圖10的光路徑示意圖。

為充分瞭解本發明之目的、特徵及功效，茲藉由下述具體之實施例，並配合所附之圖式，對本發明做一詳細說明，說明如後：於本文中，所描述之用語「一」或「一個」來描述單元、部件、結構、裝置、模組、系統、部位或區域等。此舉只是為了方便說明，並且對本發明之範疇提供一般性的意義。因此，除非很明顯地另指他意，否則此種描述應理解為包括一個或至少一個，且單數也同時包括複數。

於本文中，所描述之用語「包含、包括、具有」或其他任何類似用語意係非僅限於本文所列出的此等要件而已，而是可包括未明確列出但卻是所述單元、部件、結構、裝置、模組、系統、部位或區域通常固有的其他要件。

於本文中，所描述之「第一」或「第二」等類似序數之詞語，係用以區分或指關聯於相同或類似的元件或結構，且不必然隱含此等元件、結構、部位或區域在空間上的順序。應了解的是，在某些情況或配置下，序數詞語係可交換使用而不影響本發明之實施。

請參照圖1，為本發明一實施例之掃描裝置及對應產生之光路徑的示意圖。掃描裝置包含光源模組100及調整模組200。該光源模組100產生掃描光線101，該掃描光線101可用於照射或用於產生反射光線等用途。該掃描光線101入射該調整模組200，藉由該調整模組200具有的光學特性，令該掃描光線101出射的光路徑產生改變，並隨著該調整模組200的運作而令出射之該掃描光線101具有隨時間而改變的光路徑變化，例如圖1之出射掃描光SL1~SL5的光路徑。

該光源模組100及該調整模組200可以是組接在一起成為一個模組、或是透過其他機架組接、或是獨立的兩個部件。

具有單一入射光路徑的該掃描光線101，基於該調整模組200，而可進一步形成一掃描範圍SR，該掃瞄範圍SR的大小可由該調整模組200的光學特性來決定，例如：相異光學結構所組成之一連串的表面變化。該調整模組200可具有作為軸心的一第一軸201，該調整模組200依該第一軸201而運作，進 而可令該光源模組100的運作可獨立於該調整模組200，可降低掃描光線具有不穩定之光路徑的風險程度。

光源模組100可為用於產生具有高準直性的雷射光束。該光源模組100例如為雷射二極體或其他高準直性的光源。再舉例來說，例如面射型的垂直共振腔面射型雷射(Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser,VCSEL)。

接著請參考圖2，為本發明一實施例之掃描裝置的立體示意圖。本實施例中，該調整模組200包括驅動單元230、旋轉軸220及偏折單元210。作為該第一軸201的旋轉軸220係連接該驅動單元230，該偏折單元210則設於該旋轉軸220上。該偏折單元210具有前述之光學結構，用於讓自該偏折單元210出射之光線的路徑產生改變。該偏折單元210係圍繞著該旋轉軸220，這可使得當該驅動單元230驅動該旋轉軸220時，該偏折單元210可被對應的驅使而繞著該旋轉軸220進行旋轉(圖2示例出一種旋轉方向RD)。隨著該偏折單元210的旋轉，固定位置的該光源模組100所產生的該掃描光線101就可經過不斷地變化的光學結構，進而讓出射的光路徑產生不同的偏折程度。

此外，藉由該偏折單元210上之光學結構的設計與安排，出射的光路徑可以被設計成由一側向另一側逐漸偏折過去的變化進程，且反覆地使出射的光路徑依此變化，其中，光路徑偏折的變化方式可為往返式或單向式，單向式例如圖3或圖4所示例的偏折單元的光學結構，往返式則是例如圖5至圖9所示例的偏折單元的光學結構。如此，隨著該偏折單元210的旋轉，就可以形成具有掃描範圍SR的出射光線。更進一步地，藉由該偏折單元210上之光學結構的設計與安排，更可在同一偏折單元210上配置具有不同偏折範圍的偏折區，隨著該掃描光線101經過不同的偏折區，即可對應地產生出不同的掃描範圍 SR。該偏折單元210上之光學結構可依對應的需求進行不同程度的設計與安排。

圖2中所示之光源模組100係以單一發光單元為示例，於其他實施態樣中亦可依據需求而於該偏折單元210的同一側配置多個發光單元，但各個發光單元係位於不同的位置上，藉以同時地利用該偏折單元210來產生相異的多個掃描範圍(可參考圖9的示例)。其中，每一個掃描範圍可以定義出對應的掃描平面。此外，各個發光單元還可對應地發出不同波長之光線，以做為區別。

接著請同時參考圖3及圖4，圖3為本發明實施例中有關光路徑變化的示意圖，圖4為本發明第一實施例中掃描裝置的立體示意圖。圖3示例的光路徑變化是基於圖4示例的偏折單元所產生的結果。偏折單元210'被驅動，使其相對於掃描光線101來說以一個移動方向MD移動著，讓該掃描光線101與該偏折單元210'的交會點可以隨著該偏折單元210'的移動而跨越該偏折單元210'。如圖3所示，入射進該偏折單元210'的該掃描光線101於出射該偏折單元210'時，基於相異介質之折射率的不同，該掃描光線101的出射光路徑會產生偏移，而呈現如圖3所示，偏移的出射掃描光SL的光路徑。此外，隨著該偏折單元210'的移動，入射進該偏折單元210'的該掃描光線101就會相當於經過不斷變化的光學結構，也基於此，對應地反應在出射掃描光SL之光路徑上，讓出射掃描光SL之光路徑逐漸偏轉形成該掃描範圍SR。其中，掃瞄範圍SR之幅度大小可取決於該偏折單元210'的折射率，當採用折射率越大的材質時，掃瞄範圍SR之幅度可以越廣。此外，掃瞄範圍SR在圖3示例的偏折單元210'上，可以讓光路徑呈現出單向式的偏折變化。

圖3所示例之偏折單元210'係僅為部分範圍，呈現出兩個連續排列的光折射區A，每一個光折射區之光學結構具有五階的表面變化，其僅為示例，非以此為限。光學結構之表面變化的階層數相關於掃描的解析度，階層數越多，越有助於解析度的提高，當然，解析度還取決於另一個控制因素：該偏折單元210'相對於該掃描光線101的移動速度，速度越快及階層數越多，解析度就越高。此外，除了圖3示例之具有階層的光學結構表面外，也可以採用無顯著階層分布之一種連續分布的曲面結構，例如：階層數非常多而概括地呈現出一種類似於曲面的光學結構，或是無階層數而直接成形為曲面的光學結構。

以圖3為例，呈現出的掃描狀態即為：在左邊的光折射區A(第一偏折區A1)內為由左至右的掃描狀態，緊接著進入右邊的光折射區A後再次呈現由左至右的掃瞄狀態。如此反覆地運作，形成，光路徑可在該掃描範圍SR內呈現出不斷重覆之單向式的偏折變化，成為一種隨著該偏折單元210'的被驅動而達成的掃描功能。其中，右邊的光折射區A可具有相同於第一偏折區A1的光學結構。

於本發明之實施例中，該偏折單元210'係以該第一軸201作為移動軸或旋轉軸，呈現圍繞該第一軸201之旋繞狀態。該光源模組100係使入射該偏折單元210'的該掃描光線101能與該第一軸201的軸向呈現平行；或者是，該掃描光線101能與該第一軸201的軸向在遠處具有交會點，且交會處的銳角係小於90度；亦或是，該掃描光線101能與該第一軸201的軸向呈現歪斜而無交會點，且當該掃描光線101與該第一軸201的軸向投影至同一平面上時，所形成之交會處的銳角係小於90度。

一般來說，掃描功能的配置會讓該掃描光線101能與該第一軸201的軸向約略呈現平行，也就是說，即便該掃描光線101能與該第一軸201的軸向在遠處具有交會點，交會處的銳角通常會配置在小於30度；以及，該掃描光線101與該第一軸201的軸向呈現歪斜狀態下時，在投影至同一平面上後，所形成之交會處的銳角亦小於30度。此外，當有其他方向的需求時，也可以讓前述的銳角被控制在小於80度的狀態，讓掃描範圍SR有更多程度的改變。

接著請再參考圖4，該偏折單元210'呈現片體狀，並以第一軸201作為旋繞的軸心。此外，該偏折單元210'之片體，在徑向方向上係垂直於該第一軸201。

在圖4所示之該偏折單元210'中，用來作為說明的一個光折射區A內係包括一第一偏折區A1。連續地連接在一起的複數個第一偏折區A1，其結構特徵係在該偏折單元210'的徑向方向上隆起並朝兩側逐漸降低，從而形成該等第一偏折區A1。該掃瞄範圍SR則是由自該第一偏折區A1出射之掃描光SL所組成。有關圖4所示例的該偏折單元210'，亦可參考俯視視角的圖3，其呈現自偏折單元210'的側緣朝向軸心的視角下的光學結構及對應的光路徑變化。

接著請參考圖5至圖7，圖5為本發明第二實施例中掃描裝置的立體示意圖；圖6為圖5的偏折單元自側緣朝向軸心的視角下的部分結構示意圖；圖7為圖5的偏折單元的部分結構立體示意圖。請參考圖5，該偏折單元210"亦呈現片體狀，以及，以該第一軸201作為旋繞的軸心。

在圖5所示例的該偏折單元210"中，用來作為說明的一個光折射區A內係包括一第二偏折區A2及一第三偏折區A3。該第二偏折區A2係自該偏折單元210"的外周緣處隆起並朝兩側逐漸降低，以及朝向該偏折單元210"中心而 沿著該偏折單元210"的徑向方向逐漸降低。該第三偏折區A3係自該偏折單元210"的內周緣處隆起並朝兩側逐漸降低以及遠離該片體中心而沿著該偏折單元210"的徑向方向逐漸降低。

圖6是以圖5之標示段L的位置處為基礎，示例出自該偏折單元210"的側緣，朝向軸心方向的視角下，所呈現出的部分結構示意圖。圖6及圖7也呈現出該偏折單元210"自外周緣處隆起並朝兩側逐漸降低以及自內周緣處隆起並朝兩側逐漸降低，此二者在光學結構上的差異。此外，圖6至圖9所示例出的光學結構的階層變化，也可以是無顯著階層分布之一種連續分布的曲面結構，例如：階層數非常多而概括地呈現出一種類似於曲面的光學結構，或是無階層數而直接成形為曲面的光學結構。

請再同時參考圖8及圖9，圖8為圖5的偏折單元的第二偏折半區的結構及光路徑示意圖；圖9為圖5的偏折單元的第三偏折半區的結構及光路徑示意圖。如圖5~9所示例之該偏折單元210"的光學結構態樣，以對應於圖2示例之光源模組100的位置來提供入射至該偏折單元210的掃描光線101來說，該掃瞄範圍SR會呈現出上下反覆(以圖5之該偏折單元210"的旋轉方向RD為例)的掃瞄方向之變化，進而讓光路徑呈現出往返式的偏折變化。因此，若當光源模組100的位置被配置於圖5示例之該偏折單元210"的3點鐘方向上的位置時(由掃描光線101的入射方向視之，圖5~7未示)，該掃瞄範圍SR反而會呈現出左右反覆(以圖5之該偏折單元210"的旋轉方向RD為例)的掃瞄方向之變化。據此，可依此光學特性設定光源模組100的位置，達到不同掃瞄平面的效果。此外，該偏折單元210"上具有光折射區A的任一位置，皆可對入射的光線產生偏折效果進 而達成掃描的功能，這也使得本發明實施例的一個掃描裝置，就可帶來更多的掃描路徑，提高掃描裝置的掃瞄範圍及應用層面。

再者，依據圖5及圖8與圖9所示例之該偏折單元210"的光學結構態樣，前述之一次的往返式掃描範圍SR，係由相互相鄰之一半的該第二偏折區A2及一半的該第三偏折區A3出射之掃描光SL所組成，亦即，所述的往返式掃描範圍SR是由出射自第二偏折半區A2-1及第三偏折半區A3-1的掃描光SL所組成。基於該第二偏折區A2及該第三偏折區A3相較於該第一偏折A1區的光學結構上的差異，反應在出射的掃描光SL上，就呈現出往返式或單向式的光路徑變化方式，以及掃描平面相互呈現正交關係的差異性。其中在圖5至圖9的示例中，為了凸顯光學結構之階層差異性，僅圖例出較少的階層。

此外，該偏折單元(210'、210")的光學結構並不以前述圖4及圖5的態樣為限，任何可用來對入射之光線產生偏折而可達到所需之掃描範圍的光學結構或其他介質皆可適用。

接著請參考圖10，為本發明第三實施例中掃描裝置的立體示意圖。圖10示例之光源模組100係包括一光發射單元110及一光接收單元120。該光發射單元110用於產生掃描光線101。該光接收單元120用於接收經出射之掃描光SL照射後所反饋回來之光輻射。藉此可達到掃描對象的距離測量，進一步地，還可基於掃描範圍內之各個掃描點的距離測量來供後端運算處理裝置去估算出掃描對象的輪廓。所述之掃描對象可以是特定目標也可以是周遭的環境。此外，有關圖10所示例的掃描範圍SR，形成該掃描範圍SR的該偏折單元210例如可以是示例於圖4中的偏折單元210'。

接著請參考圖11，為本發明第四實施例中掃描裝置的立體示意圖。本實施例中，光源模組100可包括光發射單元110、111及對應的光接收單元120、121。圖11相較於圖10，除了光源模組100所包括的光發射單元及光接收單元為複數者外，亦示例出光接收單元係依據掃瞄範圍SR所定義出的掃描平面來對應地配置。該掃描平面係為掃描光線101經過處於旋轉之偏折單元210的作用後，自該偏折單元210出射之出射掃描光SL的光路徑所掃出的一平面區域的延伸。此外，單一光發射單元也可對應地搭配至少二光接收單元。再者，有關圖11所示例的掃描範圍SR，形成該掃描範圍SR的該偏折單元210例如可以是示例於圖5中的偏折單元210"。

接著請參考圖12及圖13，圖12為本發明第五實施例中掃描裝置的立體示意圖；圖13為圖12的光路徑示意圖。本實施例中，該偏折單元210可為一種單一片體的複合式偏折單元或是多片體的組合式偏折單元。無論是何種偏折單元，其能提供入射的掃描光線101去經過至少兩種不同程度的偏折。在這樣的配置下，可讓出射之掃描光SL所形成的掃瞄範圍SR有更多的角度，也可進一步地在有限的配置空間內，藉由偏折單元來提供更廣泛的掃描範圍，並擴大可應用的層面。

如圖12及圖13所示，本實施例中，是將兩個片體狀的第一偏折部211及第二偏折部212組合成一組的偏折單元210。掃描光線101經過第一偏折部211後，出射的前段掃描光SLD1會形成前段掃描範圍SRf，出射的前段掃描光SL1再接著經過第二偏折部212，形成出射的後段掃描光SLD2。在圖13的示例中，為了凸顯後段掃描範圍之間的差異，僅繪示出部分的後段掃描範圍來作為示例。

後段掃描光SLD2形成後段掃描範圍SR1~3，前段掃描範圍SRf會與後段掃描範圍SR1~3處於不同的平面，而每一個後段掃描範圍SR1~3的平面的延展方向，基本上是由對應的前段掃描光SLD1來決定。亦即，第一偏折部211可以決定後續掃瞄範圍的掃描方向，第二偏折部212則決定了在這個掃描平面上的掃描幅度(或稱掃描面積)。

據此，在前段掃描光SL1被持續維持同一出射方向的時間內，讓此掃描光掠過第二偏折部212上對應的偏折區(例如圖4的第一偏折區A1)；接著，讓前段掃描光SL1被偏折為另一個出射方向，並讓此掃描光掠過第二偏折部212上對應的另一個偏折區(例如圖4的另一個第一偏折區A1)。如此反覆下去，就能形成如圖13所示例的位在不同平面上的掃描點SP1、SP2、SP3。

以圖13來說明，掃描點SP1形成一條掃描線，這條掃描線的高低位置，是由第一偏折部211所定義的，而這條掃描線的寬度則是由第二偏折部212來定義。至於掃描點SP1之間的點距則是可由第二偏折部212的光學結構的變化階層數或變化狀態來決定。無論在第一偏折部211與第二偏折部212為共軸或非共軸(分別驅動)的配置下，此二偏折部皆需互相匹配，用以搭配出妥適的掃描狀態，偏折單元被驅動的旋轉速度可決定出第一偏折部211維持著相同光學結構所需的範圍(或稱面積大小)。

第二偏折部212的光學結構的變化階層數或變化狀態越綿密，在最低掃描解析度的要求以及不考慮光線強度衰減的前提下，有效的掃描距離就能夠越遠。第一偏折部211基本上需要受制於第二偏折部212的配置來搭配，但同樣地，第一偏折部211的光學結構的變化階層數或變化狀態能夠越綿密，有效的掃描距離也能夠越遠，掃瞄點的數量也越多。

換言之，第一偏折部211之每一光折射區內的每一階所延展的面積，要去對應第二偏折部212上之用於形成一個掃瞄範圍的光學結構的面積。也因此，關於鄰近該光源模組100之偏折部所具有的各該光折射區，其面積係大於遠離該光源模組100之偏折部所具有的各該光折射區的面積。

此外，當該偏折單元210為一種單一片體的複合式偏折單元時，靠近光源模組那一側的表面可用於形成第一偏折部211的光學結構，而相反側則可形成第二偏折部212的光學結構，進而可在共軸的配置下，讓掃描裝置的體積不至於增加。

本發明的各實施例中，邊緣呈現圓弧狀的偏折單元210僅為一種示例，並不以圓弧狀邊緣為限，其他形狀亦適用於本發明。

綜上所述，本發明透過調整模組上的偏折單元去調整掃描光線的出射光路徑，該偏折單元的旋轉軸與入射該偏折單元的入射光路徑方向間呈現出一定程度的空間配置關係。此外，在掃描解析度可基於旋轉轉速及偏折單元之光學結構的基礎上，更可以輕易地提高掃描裝置的掃瞄範圍、掃描解析度及擴展其他的應用層面或甚至是配置在穿戴式的電子裝置中。

本發明在上文中已以較佳實施例揭露，然熟習本項技術者應理解的是，該實施例僅用於描繪本發明，而不應解讀為限制本發明之範圍。應注意的是，舉凡與該實施例等效之變化與置換，均應設為涵蓋於本發明之範疇內。因此，本發明之保護範圍當以申請專利範圍所界定者為準。

100:光源模組

101:掃描光線

200:調整模組

201:第一軸

SR:掃描範圍

SL1~5:出射之掃描光

Claims (17)

1. 一種掃描裝置，包含：一光源模組，係產生掃描光線；及一調整模組，包括與該掃描光線的光路徑交會的一偏折單元，該偏折單元係以一第一軸為軸心而旋轉，該掃描光線與該偏折單元的交會點係隨著該偏折單元的旋轉而跨越該偏折單元，並使自該偏折單元出射的該掃描光線的光路徑產生改變，其中，該第一軸的軸向與入射該偏折單元的該掃描光線係呈現平行、呈現交會且交會處的銳角小於90度、或呈現歪斜且投影至同一平面上所形成的交會處的銳角小於90度，其中該偏折單元係呈片體並具有複數光折射區，各該光折射區係具有一第二偏折區及一第三偏折區，該第二偏折區係自該片體的外周緣處隆起並朝兩側逐漸降低以及朝向該片體中心而延著該片體的徑向方向逐漸降低，該第三偏折區係自該片體的內周緣處隆起並朝兩側逐漸降低以及遠離該片體中心而延著該片體的徑向方向逐漸降低。
2. 如請求項1所述之掃描裝置，其中每一光折射區係使跨越該光折射區的該掃描光線，隨著該偏折單元的旋轉而在出射方向上形成由一側向另一側逐漸偏折，進而形成一掃瞄範圍。
3. 如請求項2所述之掃描裝置，其中該等光折射區於該調整模組內係圍繞該第一軸而呈連續地排列，該掃描光線係隨著該偏折單 元的旋轉而反覆地跨越該等光折射區，自各該光折射區出射的該掃描光線的光路徑係在該掃描範圍內呈單向式或往返式的變化。
4. 如請求項2所述之掃描裝置，其中該偏折單元的該片體係為單一片體，該片體係圍繞該第一軸。
5. 如請求項4所述之掃描裝置，其中該片體的徑向軸係垂直該第一軸。
6. 如請求項4所述之掃描裝置，其中該等光折射區係由該片體表面的光學結構所構成。
7. 如請求項4所述之掃描裝置，其中該掃瞄範圍係由相鄰之一半的該第二偏折區及一半的該第三偏折區所組成。
8. 如請求項1所述之掃描裝置，其中該偏折單元包括複數偏折部，該等光折射區係位於各該偏折部，每一光折射區係使跨越該光折射區的該掃描光線，隨著該偏折單元的旋轉而在出射方向上形成由一側向另一側逐漸偏折，進而形成一掃瞄範圍，該第二偏折區及該第三偏折區係位於該等偏折部之至少其一。
9. 如請求項8所述之掃描裝置，其中鄰近該光源模組之該偏折部具有的各該光折射區的面積係大於遠離該光源模組之該偏折部具有的各該光折射區的面積。
10. 如請求項8所述之掃描裝置，其中該偏折單元的該等偏折部的數量係為二個，該二偏折部係為兩個片體的組合式偏折單元或單一片體的複合式偏折單元，該組合式偏折單元係於單一片體上具 有一個對應的該偏折部，該複合式偏折單元係於單一片體的兩個相反的面上具有對應的該偏折部。
11. 如請求項8所述之掃描裝置，其中遠離該光源模組之該偏折部的各該光折射區係具有一第一偏折區，該第一偏折區係在該片體的徑向方向上隆起並朝兩側逐漸降低，該掃瞄範圍係由自該第一偏折區出射之掃描光線所組成。
12. 如請求項11所述之掃描裝置，其中該第二偏折區及該第三偏折區係位於鄰近該光源模組之該偏折部的各該光折射區，該掃瞄範圍係由相鄰之一半的該第二偏折區及一半的該第三偏折區所組成。
13. 如請求項1至12中任一項所述之掃描裝置，其中該調整模組包括一驅動單元，該驅動單元係驅動作為該第一軸的一旋轉軸，使該旋轉軸旋轉，該偏折單元係圍繞該第一軸而被設於該旋轉軸上。
14. 如請求項1至12中任一項所述之掃描裝置，其中該光源模組係包括複數光發射單元，各該光發射單元係設於該偏折單元的同一側，各該光發射單元所產生之對應的掃描光線係與該偏折單元具有相異的交會點，提供相異的掃瞄平面。
15. 如請求項14所述之掃描裝置，其中該光源模組係包括接收經對應之掃描光線照射後所反饋回來之光輻射的複數光接收單元，各該光發射單元係對應有至少一個該光接收單元。
16. 如請求項1至12中任一項所述之掃描裝置，其中該光源模組係包括一光發射單元及一光接收單元，該光發射單元係產生該掃描光線，該光接收單元係接收經該掃描光線照射後所反饋回來之光輻射。
17. 如請求項16所述之掃描裝置，其中該光接收單元係設於相鄰該光發射單元處且位於一掃描平面上，該掃描平面係為該掃描光線經過處於旋轉之該偏折單元的作用後，自該偏折單元出射之該掃描光線的光路徑所掃出的一平面區域的延伸。

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