TWI747466B - 顯示裝置 - Google Patents

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TWI747466B
TWI747466B TW109129660A TW109129660A TWI747466B TW I747466 B TWI747466 B TW I747466B TW 109129660 A TW109129660 A TW 109129660A TW 109129660 A TW109129660 A TW 109129660A TW I747466 B TWI747466 B TW I747466B
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鄭宏哲
周文傑
翟邦和
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大陸商友達光電(昆山)有限公司
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    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
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    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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Abstract

本發明提供一種顯示裝置,包括一第一基板,具有相鄰設置的周邊區和顯示區,顯示區設置有多個像素單元或者多個觸控單元;第一佈線結構,設置於周邊區,第一佈線結構由第二金屬層和第三金屬層層疊組成;第二佈線結構,設置於周邊區,第二佈線結構由第二金屬層組成;支撐墊,設置於第二佈線結構上,且支撐墊的位置與第二佈線結構相對應;以及第二基板, 與第一基板相對設置;其中,第一佈線結構與第二佈線結構交替設置,第二金屬層分別電性連接至多個像素單元或者多個觸控單元,第三金屬層分別電性連接至多個像素單元或者多個觸控單元。

Description

顯示裝置
本發明是有關於一種顯示裝置,且特別是有關於一種具有良好顯示效果的顯示裝置。
隨著科技的發展,觸控顯示裝置被廣泛應用在許多電子產品上,如手機、平板電腦、手錶等。
現有的觸控顯示裝置通常採用低溫多晶矽工藝(LTPS)製成,像素單元和控制電路之間通過佈線(fan out)實現電性連接。觸控顯示裝置的有源元件(TFT)陣列基板上通常形成有平坦層(PL),當採用第三金屬層(M3)實現觸控信號的傳遞以及達到降低驅動電壓的功效時,在需要大範圍形成第三金屬層的區域,通常採用挖空平坦層的方式,由此,在相應的區域並無法形成有支撐墊(Bump)。對於現有的工藝而言,支撐墊的厚度約為5500埃,第三金屬層的厚度約為3700埃,因此,在形成第三金屬層的區域和未形成第三金屬層的區域之間產生約1800埃的高度落差,進而,導致觸控顯示裝置產生顯示不均的問題。
因此,如何能更好地避免顯示面板中不同區域出現大面積的高度落差,減少顯示不均現象的發生,提高產品的顯示效果,實為需要解決的問題之一。
本發明的實施例提供一種顯示裝置,可以更好地避免顯示面板不同區域出現大面積的高度落差,減少顯示不均現象的發生,提高產品的顯示效果。
發明的一實施例提供的顯示裝置,其包括:第一基板,具有相鄰設置的周邊區和顯示區,顯示區設置有多個像素單元或者多個觸控單元;第一佈線結構,設置於周邊區,第一佈線結構由第二金屬層和第三金屬層層疊組成;第二佈線結構,設置於周邊區,第二佈線結構由第二金屬層組成;支撐墊,設置於第二佈線結構上,且支撐墊的位置與第二佈線結構相對應;以及第二基板, 與第一基板相對設置;其中,第一佈線結構與第二佈線結構交替設置,第二金屬層分別電性連接至多個像素單元或者多個觸控單元,第三金屬層分別電性連接至多個像素單元或者多個觸控單元。
以下結合圖式和具體實施例對本發明進行詳細描述,但不作為對本發明的限定。
下面結合圖式對本發明的結構原理和工作原理作具體的描述:
圖1為本發明一實施例顯示裝置的結構示意圖。如圖1所示,顯示裝置100包括第一基板101、第二基板102,第一基板101與第二基板102相對設置。於本實施例中,第一基板101具有相鄰的顯示區AA以及周邊區BA,顯示區AA中設置有多個像素單元或者多個觸控單元(圖中未示出),多個像素單元或者多個觸控單元可呈陣列佈置,例如,沿著第一方向(例如X方向)排成多列,沿著第二方向(例如Y方向)排成多行,而每一像素單元中均形成有至少一薄膜晶體管(圖中未示出)。第一基板101上的周邊區BA上設置有控制電路IC、第一佈線結構105以及第二佈線結構106。第一佈線結構105及第二佈線結構106耦接至控制電路IC,並分別電性連接至多個像素單元或者多個觸控單元,控制電路IC通過第一佈線結構105以及第二佈線結構106實現與像素單元或者觸控單元之間控制信號及數據的傳輸。如圖3A、圖3B所示,第一佈線結構105由第二金屬層M2以及第三金屬層M3層疊設置所構成,第二佈線結構106由第二金屬層M2所構成,即第二佈線結構106包括第二金屬層M2但不包括第三金屬層M3。其中,第一佈線結構105與第二佈線結構106為交替設置。於本發明一實施例中,第二金屬層M2電性連接於像素單元,第三金屬層M3電性連接於觸控單元,詳言之,第二金屬層M2電性連接於顯示區AA中的數據線(圖中未示出),第二金屬層M2通過數據線電性連接像素單元,第三金屬層M3電性連接顯示區AA中的觸控信號線(圖中未示出),第三金屬層M3通過觸控信號線電性連接觸控單元。另外,周邊區BA還包括第一金屬層(圖中未示出),第一金屬層電性連接顯示區AA中的掃描線,第一金屬層通過掃描線電性連接像素單元;但不限於上述,亦可視需求作其他變化,例如於另一實施例中,第二金屬層M2與第三金屬層M3均電性連接於像素單元,詳言之,第二金屬層M2與第三金屬層M3均電性連接於顯示區AA中的數據線(圖中未示出)或掃描線(圖中未示出),第二金屬層M2與第三金屬層M3均通過數據線或掃描線電性連接像素單元。
圖2A為一實施例的佈線結構沿圖1中A-A’剖面線的剖視示意圖。圖2B為另一實施例的佈線結構沿圖1中A-A’剖面線的剖視示意圖。圖3A為圖1中區域Q1的剖視示意圖。圖3B為圖1中區域Q2的剖視示意圖。
如圖2A、圖2B、圖3A及圖3B所示,於本實施例中,顯示裝置100的第一基板101上同樣設置有平坦層PL,平坦層PL覆蓋第二金屬層M2,且第三金屬層M3設置於平坦層PL上。換言之,第二金屬層M2設置於第一基板101與平坦層PL之間,而平坦層PL則設置於第二金屬層M2與第三金屬層M3之間。平坦層PL上設置有多個支撐墊BP,平坦層PL與支撐墊BP例如屬於同一膜層,並且支撐墊BP的位置與第二佈線結構106的位置大致互相對應,其中支撐墊BP的數量可根據第二佈線結構106所對應的佈線區的寬度來設置。由於支撐墊BP與第三金屬層M3厚度的差異,因此在支撐墊BP之間形成凹陷區,而第三金屬層M3設置於凹陷區內,所以第一佈線結構105的位置與凹陷區的位置相互對應。
如圖3A、圖3B所示,於本實施例中,第二基板102上設置有第一支撐結構PS1與第二支撐結構PS2。其中,第一支撐結構PS1用於支撐第三金屬層M3,換言之,第一支撐結構PS1的位置與第一佈線結構105的位置相互對應;第二支撐結構PS2用於支撐支撐墊BP,換言之,第二支撐結構PS2的位置與第二佈線結構106的位置相互對應,於一較佳實施例中,第二支撐結構PS2與第二佈線結構106相抵觸,但不限於此,二者之間亦可具有間距。
如圖2A、圖2B所示,沿顯示裝置100的中央區域CA分別向左右兩側延伸,依序可以分為第一佈線區D1、第二佈線區D2、第三佈線區D3及第四佈線區D4(圖2A、圖2B僅示出中央區域CA左側的區域,其右側區域與左側區域對稱)。其中,第一佈線區D1具有第一寬度W1,第二佈線區D2具有第二寬度W2,第三佈線區D3具有第三寬度W3及第四佈線區D4具有第四寬度W4。而第一佈線結構105設置於第一佈線區D1及第三佈線區D3,第二佈線結構106設置於第二佈線區D2及第四佈線區D4。也就是說,沿顯示裝置100的中央區域CA分別向左右兩側延伸,第一佈線結構105與第二佈線結構106為依次交替設置。
如圖2A所示,於本實施例中,第一寬度W1、第二寬度W2、第三寬度W3與第四寬度W4相等,也就是說,第一佈線區D1、第二佈線區D2、第三佈線區D3及第四佈線區D4相同,並且將第一寬度W1的值設置為小於等於100um。
如圖2B所示,於本實施例中,第一寬度W1<第二寬度W2<第三寬度W3<第四寬度W4,也就是說,第一佈線區D1、第二佈線區D2、第三佈線區D3及第四佈線區D4逐漸變寬,並且將第四寬度W4的值設置為小於等於100um。當然在其他實施例中,也可以設置為第一寬度W1>第二寬度W2>第三寬度W3>第四寬度W4,也就是說,第一佈線區D1、第二佈線區D2、第三佈線區D3及第四佈線區D4逐漸變窄,並且將第一寬度W1的值設置為小於等於100um。
綜上,依照本發明的實施例,在沿顯示裝置的中央區域分別向左右兩側延伸的方向上,通過採取第一佈線結構與第二佈線結構交替設置以及限制佈線區的寬度的方式,可避免由於支撐墊與第三金屬層之間厚度的差異導致顯示面板不同區域出現大面積的高度落差,減少顯示不均現象的發生,提高產品的顯示效果。另外,依照本發明的實施例,搭配第一佈線結構與第二佈線結構的設計,可根據需求佈局,例如應用於低溫多晶矽高刷新率的液晶面板、窄邊框內嵌式觸控的液晶面板或低功耗的液晶面板等,但不限於此。
當然,本發明還可有其它多種實施例,在不背離本發明精神及其實質的情況下,熟悉本領域的技術人員當可根據本發明作出各種相應的改變和變形,但這些相應的改變和變形都應屬於本發明所附的請求項的保護範圍。
100:顯示裝置
101:第一基板
102:第二基板
105:第一佈線結構
106:第二佈線結構
AA:顯示區
BA:周邊區
CA:中央區域
IC:控制電路
PL:平坦層
M2:第二金屬層
M3:第三金屬層
BP:支撐墊
PS1:第一支撐結構
PS2:第二支撐結構
Q1,Q2:區域
D1:第一佈線區
D2:第二佈線區
D3:第三佈線區
D4:第四佈線區
W1:第一寬度
W2:第二寬度
W3:第三寬度
W4:第四寬度
圖1為本發明一實施例顯示裝置的結構示意圖。 圖2A為一實施例的佈線結構沿圖1中A-A’剖面線的剖視示意圖。 圖2B為另一實施例的佈線結構沿圖1中A-A’剖面線的剖視示意圖。 圖3A為圖1中區域Q1的剖視示意圖。 圖3B為圖1中區域Q2的剖視示意圖。
100:顯示裝置
101:第一基板
102:第二基板
105:第一佈線結構
106:第二佈線結構
AA:顯示區
BA:周邊區
IC:控制電路
Q1,Q2:區域

Claims (7)

  1. 一種顯示裝置,包括:一第一基板,具有相鄰設置的一周邊區和一顯示區,該顯示區設置有多個像素單元或者多個觸控單元;一第一佈線結構,設置於該周邊區,該第一佈線結構由一第二金屬層和一第三金屬層層疊組成;一第二佈線結構,設置於該周邊區,該第二佈線結構由該第二金屬層組成;一支撐墊,設置於該第二佈線結構上,且該支撐墊的位置與該第二佈線結構相對應;一第二基板,與該第一基板相對設置;一第一支撐結構,設置於該第二基板上,該第一支撐結構與該第一佈線結構不相抵觸;以及一第二支撐結構,設置於該第二基板上,該第二支撐結構與該第二佈線結構相抵觸;其中,該第一佈線結構與該第二佈線結構交替設置,該第二金屬層分別電性連接至該些像素單元或者該些觸控單元,該第三金屬層分別電性連接至該些像素單元或者該些觸控單元;其中,該第一佈線結構設置於一第一佈線區以及一第三佈線區,並且該第一佈線區沿一中央區域外緣分別向左右兩側延伸,該第一佈線區具有一第一寬度,該第三佈線區具有一第三寬度,該第二佈線結構設置於一第二佈線區以及一第四佈線區,該第二佈線區具有一第二 寬度,該第四佈線區具有一第四寬度,該第一佈線區、該第二佈線區、該第三佈線區以及該第四佈線區沿一第一方向依序排列,且該第一寬度、該第二寬度、該第三寬度以及該第四寬度小於等於100μm。
  2. 如請求項1所述之顯示裝置,其中該第一寬度、該第二寬度、該第三寬度以及該第四寬度相等。
  3. 如請求項1所述之顯示裝置,其中該第一寬度大於該第二寬度,該第二寬度大於該第三寬度,該第三寬度大於該第四寬度。
  4. 如請求項1所述之顯示裝置,其中該第一寬度小於該第二寬度,該第二寬度小於該第三寬度,該第三寬度小於該第四寬度。
  5. 如請求項1所述之顯示裝置,其中該第一支撐結構的位置與該第一佈線結構的位置相對應。
  6. 如請求項1所述之顯示裝置,其中該第二支撐結構的位置與該第二佈線結構的位置相對應。
  7. 如請求項1所述之顯示裝置,還包括一平坦層,該平坦層設置於該第二金屬層和該第三金屬層之間,且該平坦層與該支撐墊為同一膜層。
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