TWI744966B - 水平濕製程治具 - Google Patents

Abstract

一種水平濕製程治具，其包括弧面形成本體以及連接於弧面形成本體的定位件，弧面形成本體具有弧面基準部。弧面基準部的側面呈弧形狀。可撓性平面基板貼服於弧面基準部的上方表面，形成弧狀可撓性基板。定位件供弧狀可撓性基板定位於弧面基準部，使弧狀可撓性基板形成所設定的弧面，可降低因藥液滯留而產生之水坑效應。

Description

水平濕製程治具

一種水平濕製程治具，尤指將可撓性平面基板貼服於治具的弧面基準部，並形成弧面後再定位為預設的弧狀可撓性基板之技術領域。

按，可撓性基板缺乏剛性，極易彎曲變形或折損。因此，在加工製程中，必需將其置入夾框治具中，利用夾框治具的剛性結構，來保護可撓性基板在進行運送與製程加工中免於變形與折損。

續就化學濕製程中，夾框治具係為平面治具結構，可撓性基板置入平面治具中之後，可撓性基板為平面基板方式運作，平面基板會透過藥液作用形成欲製得的電路圖案。惟，平面基板在運作過程中，使得藥液滯留在可撓性基板的部分區塊上，尤以中間部位易產生水坑效應，導致藥液作用不一致，使其產生不均勻現象，進而造成製程上製品規格控管不易及不良率提升。另，目前技術之平面夾框治具其機構設計皆較為複雜、製造成本高，又較不易維護，且皆仍無法解決水坑效應問題。為此，如何解決上述現有技術之問題與缺失，即為相關業者所亟欲研發之課題所在。

本發明之主要目的乃在於，利用弧狀治具讓可撓性平面基板呈現弧狀可撓性基板後，於濕製程運作過程中，能藉由重力作用讓藥液得以快速向弧狀可撓性基板的左右兩側曳流，使藥液能夠均勻分布於弧狀可撓性基板的表面，以減少基板上的部分區塊因藥液滯留所造成之水坑效應。

本發明之次要目的乃在於，將平面治具結構設計為弧狀治具，使本發明結構設計整體更為單純，製造成本更低，進而讓此弧狀治具於保養維護上更加簡易及具便利性。

為達上述目的，本發明之水平濕製程治具，尤指一種使可撓性平面基板形成弧狀可撓性基板的治具。治具包括弧面形成本體以及連接於弧面形成本體的定位件，弧面形成本體具有弧面基準部，弧面基準部的側面呈弧形狀，弧面基準部供可撓性平面基板貼服其上方表面，形成弧狀可撓性基板。定位件供弧狀可撓性基板定位於弧面基準部，使弧狀可撓性基板形成所設定的弧面。

底下藉由具體實施例詳加說明，當更容易瞭解本發明之目的、技術內容、特點及其所達成之功效。

請參閱第一圖，係為本發明水平濕製程治具之第一實施例示意圖。本發明是一種使可撓性平面基板形成弧狀可撓性基板的治具100。治具100包括弧面形成本體1以及連接於弧面形成本體1的定位件2。弧面形成本體1具有弧面基準部11，弧面基準部11的側面呈弧形狀。弧面基準部11包含第一側邊111、中央弧面部112及相對於第一側邊111之第二側邊113。中央弧面部112之中心線為最高彎曲位置，再朝向第一側邊111及第二側邊113逐漸降低高度，直至第一側邊111及第二側邊113為最低位置。

由上述可得知治具100係呈現弧狀治具態樣，於第二圖與第三圖的實施例中，定位件2具有嵌合部21，嵌合部21連接於弧面基準部11之側部。弧面形成本體1具有中空部12，嵌合部21鄰近中空部12。於弧面形成本體1相對兩側橫跨中空部12連接有支撐肋13，支撐肋13優選連接位置為中央弧面部112之中心線為最高彎曲位置。詳細來說，當可撓性平面基板3置於治具100時，可撓性平面基板3周邊相應抵靠於弧面基準部11之第一側邊111、中央弧面部112及第二側邊113，使得弧面基準部11供可撓性平面基板3貼服其上方表面，形成弧狀可撓性基板4，如第三圖所示。定位件2供弧狀可撓性基板4定位於弧面基準部11，使弧狀可撓性基板4形成所設定的弧面。也就是說，弧狀可撓性基板4放置於治具100後，弧狀可撓性基板4會根據弧面基準部11的第一側邊111、中央弧面部112及第二側邊113，而相應形成從弧狀可撓性基板4的中央位置往兩側形成弧面狀，可撓性基板4的兩側最低位置服貼定位於定位件2的嵌合部21。支撐肋13能夠加強支撐並定位弧狀可撓性基板4的弧面成形，除此之外，支撐肋13對於後續的濕製程也能提供弧狀可撓性基板4受噴灑藥液的衝力作用下，避免弧狀可撓性基板4之部分區塊在治具100因藥液滯留而產生之水坑效應。

如第四圖所示，係為本發明水平濕製程治具之第二實施例示意圖。第二實施例與前述第一實施例差異在於弧面形成本體1之周邊設置有複數個貫穿弧面形成本體1的上、下表面之洩流孔14，且洩流孔14一側連通於嵌合部21，且洩流孔14鄰近弧面基準部11的第一側邊111、中央弧面部112及第二側邊113。

如第五圖所示，係為本發明水平濕製程治具之第三實施例示意圖。第三實施例與前述第二實施例差異在於定位件2具有滑輪槽22，弧面形成本體1之周邊設置有複數個貫穿弧面形成本體1的上下表面之洩流孔14，滑輪槽22與複數個洩流孔14相連通。滑輪槽22優選鄰近於弧面基準部11的第一側邊111與第二側邊113。其中，弧面形成本體1之支撐肋13為複數間隔設置。

如第六圖所示，係為第五圖可堆疊治具之示意圖。弧面形成本體1更設置有複數個堆疊肋15，複數個堆疊肋15鄰近弧面基準部11的中央弧面部112，利用複數個堆疊肋15將相鄰的治具100相疊合。其中，堆疊肋15於弧面形成本體1的上表面為凸件151，而相對上表面位置之下表面為凹槽152，凹槽152的寬度略大於凸件151。舉例來說，兩個治具100、100’，位於上方的治具100之下表面凹槽152能夠嵌合下方治具100’ 之上表面凸件151，使得兩個治具100、100’能夠相疊合，以此類推的相疊合方式，可以疊合多個治具以利於後續的製程作業。

如第七圖所示，係為本發明水平濕製程治具之第四實施例示意圖。定位件2更包括複數個間隔設置之夾具23，複數夾具23鄰近弧面基準部11的第一側邊111與第二側邊113。複數個夾具23分別夾持固定弧狀可撓性基板4的兩側邊，也就是夾持弧狀可撓性基板4兩側最低位置，使得後續濕製程過程中可使弧狀可撓性基板4更加穩固地設置於治具100上。當然也可視需求在弧面形成本體1間隔設置複數個夾具23，鄰近弧面基準部11的中央弧面部112。使得弧狀可撓性基板4周邊皆可利用夾具23夾持固定。

如第八圖所示，將治具100以及位於治具100上的弧狀可撓性基板4傳送進濕製程設備5，濕製程設備5包括輸送裝置51及位於上、下方之噴液裝置52。弧狀可撓性基板4藉由輸送裝置51水平輸送至噴液裝置52的工作區域。噴液裝置52垂直噴灑藥液於弧狀可撓性基板4，並藉由重力作用使藥液自弧狀可撓性基板4的中央為最高彎曲位置，再朝向兩側呈弧面狀逐漸降低高度的側邊直至最低位置快速曳流，且藥液能自弧面形成本體1的洩流孔14洩流至外，如此使藥液能夠均勻分布於弧狀可撓性基板4的表面，不會讓藥液滯留在弧狀可撓性基板4的部分區塊上，以有效解決弧狀可撓性基板4的水坑效應。

承上段所述，為了避免弧狀可撓性基板4受噴灑衝力而在治具100上產生移動或是浮動不穩的問題，濕製程設備5更包括定位裝置53。定位裝置53係朝輸送裝置51的傳輸方向間隔設置有複數第一抵壓輪531與第二抵壓輪532，於弧狀可撓性基板4通過工作區域時，第一抵壓輪531與第二抵壓輪532沿著定位件2的滑輪槽22抵壓於弧狀可撓性基板4之兩側邊表面。而輸送裝置51下方的滾輪因為弧狀可撓性基板4是放置於弧狀治具100的上方表面，而不會接觸到弧狀可撓性基板4，因此可以提升弧狀可撓性基板4的製程良率以及更容易控管製品規格。

100、100’:治具

1:弧面形成本體

11:弧面基準部

111:第一側邊

112:中央弧面部

113:第二側邊

12:中空部

13:支撐肋

14:洩流孔

15:堆疊肋

151:凸件

152:凹槽

2:定位件

21:嵌合部

22:滑輪槽

23:夾具

3:可撓性平面基板

4:弧狀可撓性基板

5:濕製程設備

51:輸送裝置

52:噴液裝置

53:定位裝置

531:第一抵壓輪

532:第二抵壓輪

第一圖係為本發明水平濕製程治具之第一實施例示意圖。 第二圖係為第一圖放置可撓性平面基板於治具之示意圖。 第三圖係為第二圖於治具上形成有弧狀可撓性基板之側視圖。 第四圖係為本發明水平濕製程治具之第二實施例示意圖。 第五圖係為本發明水平濕製程治具之第三實施例示意圖。 第六圖係為第五圖可堆疊治具之示意圖。 第七圖係為本發明水平濕製程治具之第四實施例示意圖。 第八圖係為本發明應用於濕製程生產設備之結構示意圖。

100:治具

1:弧面形成本體

11:弧面基準部

111:第一側邊

112:中央弧面部

113:第二側邊

12:中空部

13:支撐肋

2:定位件

21:嵌合部

3:可撓性平面基板

Claims (8)

1. 一種水平濕製程治具，包括弧面形成本體以及連接於該弧面形成本體的定位件，該弧面形成本體具有弧面基準部，該弧面基準部的側面呈弧形狀，該弧面基準部供可撓性平面基板貼服其上方表面，形成弧狀可撓性基板，該定位件供該弧狀可撓性基板定位於該弧面基準部，使該弧狀可撓性基板形成所設定的弧面，其中該定位件具有嵌合部，該嵌合部連接於該弧面基準部之側部，該弧狀可撓性基板係置入該嵌合部以定位於該弧面基準部的上方表面。
2. 如請求項1所述之水平濕製程治具，其中該弧面基準部包含有第一側邊、中央弧面部及相對於第一側邊之第二側邊，且該中央弧面部之中心線為最高彎曲位置，再朝向該第一側邊及該第二側邊逐漸降低高度，直至該第一側邊及該第二側邊為最低位置。
3. 如請求項1所述之水平濕製程治具，其中該弧面形成本體具有中空部，於該弧面形成本體相對兩側橫跨該中空部連接有支撐肋。
4. 如請求項3所述之水平濕製程治具，其中該弧面形成本體之支撐肋為複數間隔設置。
5. 如請求項1所述之水平濕製程治具，其中該弧面形成本體之周邊設置有複數個貫穿弧面形成本體上下表面之洩流孔，且該洩流孔一側連通於該嵌合部。
6. 如請求項1所述之水平濕製程治具，其中該定位件具有滑輪槽，該弧面形成本體之周邊設置有複數個貫穿該弧面形成本體之上下表面之洩流孔，該滑輪槽與複數個洩流孔相連通。
7. 如請求項1所述之水平濕製程治具，其中該弧面形成本體更設置有複數個堆疊肋，複數個堆疊肋鄰近該弧面基準部，利用複數個堆疊肋將相鄰的該治具相疊合。
8. 如請求項1所述之水平濕製程治具，其中該定位件更包括複數個間隔設置之夾具。

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