TWI736433B - 晶體取向結構鈦合金牙科植體及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種晶體取向結構鈦合金牙科植體及其製造方法,改造鈦合金牙科植體表面結構(Ti/TiO2非晶質)形成[Ti/TiO2 anatase(215)]晶體取向結構(crystallographic structure )有特定晶粒排列方向(晶體取向,crystallographic orientation)之技術在骨整合之應用,引導骨細胞提升活性,縮短骨細胞初期生長的識別期,加速活性人體骨頭的整合作用及骨細胞組織鈣化,傷口癒合快,提供牙醫植牙臨床治療。此結構穩定,不易磨耗破壞,不受表面粗糙度影響及影響骨細胞貼附能力之親水性,而取決於特定晶粒排列方向(晶體取向,crystallographic orientation),提升細胞活性、親水性及生物相容性。
Description
本發明為一種晶體取向結構鈦合金牙科植體及其製造方法,尤指一種改造鈦合金牙科植體表面結構(Ti/TiO2非晶質)形成[Ti/TiO2 anatase(hkl)]晶體取向結構(crystallographic structure )有特定晶粒排列方向(晶體取向,crystallographic orientation)之技術應用於骨整合。
習知金屬材料的晶體結構雖具有原子規則排列的晶格,有多種晶面組成為多晶方向,晶粒排列方向是紊亂的(random orientation)。但金屬材料經金屬塑性加工法如滾軋、擠製及抽拉等,金屬晶粒變形會延某方向排列,可由電子背向散射繞射(EBSD)分析得知極圖的晶粒分佈狀態。另外由金屬鍍膜方法如PVD及電化學電鍍法控制晶粒成長方向形成單晶定向結構,單晶延某方向有晶粒排列方向,但其製作不易。本發明提出及揭露晶體取向結構(crystallographic structure ),利用金屬合金電解開發技術,控制電解與氧化機制,電解金屬會產生晶粒排列方向助長氧化形成晶體取向結構包括沉積氧化層結構有特定晶粒排列方向(晶體取向,crystallographic orientation),此方向為氧化層結構的HRXRD的繞射方向之技術應用於鈦合金牙科植體骨整合,目前還未有人應用此方法,具有新穎性及創新性。市售品牌鈦合金牙科植體利用表面處理技術,如喷砂處理(Sandblasting)、喷砂後酸蝕(Sandblasted Large-grit Acid-etching SLA)、陽極氧化等使表面形成多孔結構及紋理增加骨細胞的貼附能力達到骨整合,但其會受到表面粗糙度的影響,而影響親水性。
另外現今骨整合議題,習知的鈦金屬暴露於空氣時,表面會立刻形成厚度約2至10奈米的二氧化鈦層,因為此氧化層具有生物性惰性、穩定的厚度與抗腐蝕性,而且能夠引發化學性和生物性反應,因此具備良好生物相容性,是成功骨整合的關鍵因素。在文獻的報導有鑑於鈦金屬表面的天然二氧化鈦層與骨細胞雖具良好的生物相容性,但呈非晶質結構,因而使得骨細胞在初期附著生長的識別期長。因此縮短與骨細胞附著生長的識別期,讓骨細胞在生長初期及後續成長能形成一堅固的交織,衍然成為重要的議題。市售品牌鈦合金牙科植體表面結構組成Ti/TiO2為非晶質結構(amorphous structure),不具特定晶粒排列方向,骨整合因而使得骨細胞在初期附著生長的識別期長與骨細胞行為不明顯,無法解決骨整合議題。本發明提供一種晶體取向結構鈦合金牙科植體及其製造方法,改造市售品牌鈦合金牙科植體表面結構(Ti/TiO2非晶質)形成[Ti/TiO2 anatase(215)]晶體取向結構(crystallographic structure )有特定晶粒排列方向(晶體取向)之技術在骨整合之應用,引導骨細胞提升活性,縮短骨細胞初期生長的識別期,加速活性人體骨頭的整合作用及骨細胞組織鈣化,傷口癒合快,提供牙醫植牙臨床治療。此結構穩定,不易磨耗破壞,不受表面粗糙度影響及影響骨細胞貼附能力之親水性,而取決於特定晶粒排列方向(晶體取向),提升細胞活性、親水性及生物相容性,具有進步性。
有鑑於上述問題,目前市售品牌鈦合金牙科植體表面處理技術,其表面結構(Ti/TiO2)為非晶質結構,無法解決現今骨整合議題。其結構不穩定,易磨耗破壞,受表面粗糙度影響,影響親水性。
本發明提供一種晶體取向結構鈦合金牙科植體及其製造方法,改造鈦合金牙科植體表面結構(Ti/TiO2非晶質)形成[Ti/TiO2 anatase(215)]晶體取向結構(crystallographic structure )有特定晶粒排列方向(晶體取向)之技術在骨整合之應用,引導骨細胞提升活性,縮短骨細胞初期生長的識別期,加速活性人體骨頭的整合作用及骨細胞組織鈣化,傷口癒合快,提供牙醫植牙臨床治療。此結構穩定,不易磨耗破壞,不受表面粗糙度影響及影響骨細胞貼附能力之親水性,而取決於特定晶粒排列方向(晶體取向),提升細胞活性、親水性及生物相容性,具有進步性。
晶體取向結構穩定可提高鈦合金牙科植體機械強度及磨耗腐蝕,防止金屬離子釋出問題,增加生物相容性,為一種生醫材料。
本發明晶體取向結構鈦合金牙科植體,其晶體取向結構組成為[Ti/TiO2 anatase(215)],金屬活性Ti>Al>V。晶粒成長方式:金屬鈦離子與O2化學反應沉積形成生醫陶瓷氧化層結構, 如圖5所示,有別於市售品牌鈦合金牙科植體表面處理技術之表面結構組成(Ti/TiO2)為非晶質結構(amorphous structure)具有新穎性及創新性。
晶體取向結構鈦合金牙科植體經由高解析X光繞射儀分析(HRXRD)結果顯示,其晶體取向結構組成為[Ti/TiO2 anatase (215) ],有特定晶粒的排列方向(晶體取向),此方向為TiO2 anatase氧化層結構的HRXRD繞射方向(215),繞射峰值為2θ=75 deg。
由親水性試驗,[Ti/TiO2 anatase(215)]晶體取向結構樣本,量測接觸角度較低,更為親水性,與特定晶粒排列方向(晶體取向)有關,不受表面粗糙度影響,而市售品牌植體的(Ti/TiO2)非晶質結構樣本,量測接觸角度較高,親水性低,受表面粗糙度影響。
由測量細胞活性(存活率%)試驗,以骨母細胞(MG63)進行樣本培養及吸光值(細胞活性)及細胞存活率(MTT assay)分析結果得知[Ti/TiO2 anatase(215)]晶體取向結構樣本吸光值最高,代表細胞活性較高及存活率較高,有特定晶粒排列方向(晶體取向)與吸光值(細胞活性)有關,提升細胞活性。
[Ti/TiO2 anatase(215)]晶體取向結構鈦合金牙科植體不受表面粗糙度影響,取決於特定晶粒排列方向(晶體取向),節省表面處理製程成本,增加產業效益具有進步性。
有穩定的產品指標,晶體取向結構具有穩定相同的晶體取向(crystallographic orientation)之骨整合特性,鈦合金材導入鈦合金牙科植體產品具有生產性。
請參閱圖5所示,本發明提供一種晶體取向結構鈦合金牙科植體及其製造方法如下說明:
其製造方法如下:
(一) 鈦合金牙科植體樣本化學成分為Ti-6%Al-4%V
(二) 鈦合金牙科植體樣本置於陽極,並控制電解及氧化機制,電解鈦金屬產生晶粒排列方向
(三) 氧化及形成晶體取向結構: 鈦金屬產生晶粒排列助長氧化形成晶體取向結構包括沉積氧化層結構有特定的晶粒排列方向(晶體取向),此方向為氧化層結構的HRXRD的繞射方向
(四) 藉此製造出晶體取向結構組成為[Ti/TiO2 anatase (215) ]金屬活性:Ti>Al>V。
晶體取向結構組成以[Mx/MxO(hkl)]表示,金屬活性Mx>My,其中Mx及My為金屬元素,MxO為Mx金屬氧化物,MxO(hkl)為其HRXRD繞射方向。
鈦合金電解開發技術電解液配方及參數:
硫酸(60%) 200 ml
冰醋酸 1000 ml
其參數為:控制溫度為 20~25 ℃,電壓30V,電流0.5~2A,時間60~180 sec。
鈦合金電解開發機制:控制電解及氧化機制
(電解作用):決定於鈦合金成份大小:Ti(被電解)>Al>V
(氧化作用):決定於鈦合金成份活性大小:Ti(被氧化)>Al>V
於本發明實施例中,晶體取向結構鈦合金牙科植體及其製造方法,利用鈦合金電解開發技術,控制電解及氧化機制,形成[Ti/TiO2 anatase(215)]晶體取向結構(crystallographic structure )有特定晶粒排列方向(晶體取向,crystallographic orientation)之技術在骨整合之應用,引導骨細胞提升活性,此結構穩定,不易磨耗,不受表面粗糙度影響及影響骨細胞貼附能力之親水性,而取決於特定晶粒排列方向(晶體取向,crystallographic orientation),提升細胞活性、親水性及生物相容性。
以下實施例及比較例將提供所屬技術領域之通常知識者一完整揭露與描述物品、裝置及/或於此申請專利範圍之方法製作與評估,而其係純粹例示本發明並不用來限制本發明之範疇。
實施例:
利用鈦合金電解開發技術,為控制電解及氧化機制形成晶體取向結構[Ti/TiO2 anatase(h,k,l)]樣本,使用含水量5 vol%的電解液[硫酸(60%) 200 ml+冰醋酸1000 ml]。先將樣本作磁力研磨後再作前處理經清潔和使用丙酮有機溶劑脫脂、酸洗再進行電解鈦合金樣本,電壓30V,電流0.5~2A,時間60~180 sec。電解過程中須注意電流的導電情形,避免電解作用過大,氧化作用失效或氧化作用過大,電解作用失效,導致電解鈦金屬產生晶粒排列無法進行,造成金屬晶粒排列差,產生電解拋光機制或陽極氧化機制。
比較例:
市售品牌鈦合金牙科植體表面處理技術之表面結構(Ti/TiO2非晶質),樣本利用陽極氧化技術,為表面氧化機制,電解液配方使用硫酸(60%)200ml/L,其它為水含量。先將樣本作磁力研磨後再作前處理經清潔和使用丙酮有機溶劑脫脂、酸洗再進行陽極氧化。電壓30V,電流0.5~2A,時間60~180 sec。
針對本發明方法步驟實施例及比較例進行HRXRD材料分析及進行親水性及細胞活性試驗,實驗結果討論如下:
1.高解析x光繞射儀(HRXRD):低掠角繞射分析
由 HRXRD 繞射分析結果顯示: 晶體取向結構(Crystallographic structure) 組成為[Ti/TiO2 anatase(h,k,l)]有特定晶粒的排列方向(晶體取向,crystallographic orientation)此方向為TiO2 anatase氧化層結構之繞射方向(hkl)及峰值2θ。
實施例:鈦合金電解開發技術: 有晶體取向結構組成為[Ti/TiO2 anatase(215)]有特定晶粒的排列方向(晶體取向)為TiO2 anatase氧化層結構之繞射方向(215)及繞射峰值2θ=75 deg,由圖1所示。
比較例: 鈦合金陽極氧化技術: 結構為(Ti/TiO2)非晶質,晶粒鬆散,無特定晶粒排列方向,顯示無TiO2 anatase 繞射方向及峰值2θ,由圖2所示。
2. 親水性及細胞活性試驗:
由試驗數據整理表1及圖3 MTT細胞存活率分析圖結果得知,實驗例將本發明製造的[Ti/TiO2 anatase(215)]晶體取向結構樣本與比較例市售品牌植體表面結構(Ti/TiO2 )非晶質結構樣本比較,其[Ti/TiO2 anatase(215)]晶體取向結構的吸光值最高,代表細胞活性較高及存活率較高,接觸角較低,顯示更為親水性,更能加速活性人體骨頭的整合作用,證實親水性、細胞活性與特定晶粒排列方向(晶體取向)有關,提升骨整合。
表1中國醫藥大學牙醫系產學合作:親水性及細胞活性試驗數據
比較例 | 實施例 | |
市售品牌植體表面結構(Ti/TiO2) 非晶質結構 | [Ti/TiO2 anatase (215) ]晶體取向結構 | |
親水性試驗 平均接觸角 | 68.93 deg | 64.52 deg |
細胞活性試驗吸光值 | 0.6565 | 0.709 |
如圖4及圖5,係利用前述製造方法所得之晶體取向結構鈦合金牙科植體,其包括一鈦合金植體10,鈦合金植體10的一端具有一螺紋部11,鈦合金植體10的另一端具有一固定部12;以及一晶體取向結構13,其經由電解與氧化機制形成於鈦合金植體10,晶體取向結構13包括沉積氧化層結構有特定的晶粒排列方向(晶體取向),即為藉由HRXRD繞射所測得繞射方向(215),如此晶體取向結構鈦合金牙科植體具有前述之功效。
綜觀上述材料分析結果及試驗驗證本發明實施例及比較例,解決了上述課題,具進步性。
對於所屬技術領域之人許多改良及變化在不脫離本發明之範疇和精神內是明顯地。本發明之其他實施例對於所屬技術領域之人從說明書思考及於此所揭露本發明之作法係明顯地。說明書及實施例僅為例示性,本發明之真實範疇及精神將於以下申請專利範圍指出。
10:鈦合金植體
11:螺紋部
12:固定部
13:晶體取向結構
[圖1]係為本發明實施例之X光繞射示意圖。
[圖2]係為本發明比較例之X光繞射示意圖。
[圖3]係為MTT細胞存活率分析示意圖。
[圖4]係為本發明之晶體取向結構鈦合金牙科植體的外觀示意圖。
[圖5]係沿圖4之剖面線5-5所取的剖面及局部放大示意圖。
10:鈦合金植體
11:螺紋部
12:固定部
13:晶體取向結構
Claims (6)
- 一種晶體取向結構鈦合金牙科植體之製造方法,其方法係包括以下步驟:(一)鈦合金牙科植體樣本化學成分為Ti-6%Al-4%V;(二)鈦合金牙科植體樣本置於陽極,並控制電解及氧化機制,電解鈦金屬產生晶粒排列方向;(三)氧化及形成晶體取向結構:鈦金屬產生晶粒排列助長氧化形成晶體取向結構包括沉積氧化層結構有特定的晶粒排列方向(晶體取向),此方向為氧化層結構的HRXRD的繞射方向;(四)藉此製造出晶體取向結構組成為[Ti/TiO2 anatase(215)],其金屬活性:Ti>Al>V,有特定晶粒的排列方向(晶體取向),此方向為TiO2 anatase氧化層結構的HRXRD繞射方向(215),繞射峰值為2θ=75deg。
- 如請求項1所述之晶體取向結構鈦合金牙科植體之製造方法,其晶體取向結構之晶粒成長方式:金屬鈦離子與O2化學反應沉積形成生醫陶瓷氧化層結構。
- 如請求項1所述之所述之晶體取向結構鈦合金牙科植體之製造方法,利用鈦合金電解開發技術,為控制電解與氧化機制,電解金屬產生晶粒排列方向,使用含水量5vol%的電解液。
- 如請求項1所述之晶體取向結構鈦合金牙科植體之製造方法,各金屬合金種類表示為M(x,y)alloy之應用,利用金屬合金電解開發技術,控制電解與氧化機制,電解金屬產生晶粒排列方向助長氧化形成晶體取向結構包括沉積氧化層結構:組成為〔Mx/MxO(hkl)〕,氧化金屬活性Mx>My或組成〔Mx/MyO(hkl)〕,氧化金屬活性My>Mx,有特定晶粒排列方向(晶體取向)之技術應用於金屬工業、航太及醫材產業。
- 一種晶體取向結構鈦合金牙科植體,其利用請求項1之製造方 法而得,該晶體取向結構鈦合金牙科植體包括:一鈦合金植體;以及一晶體取向結構:包括沉積氧化層結構,其經由電解與氧化機制形成於該鈦合金植體,有特定的晶粒排列方向(晶體取向)。
- 如請求項5所述之晶體取向結構鈦合金牙科植體,其中,該鈦合金植體一端具有一螺紋部,另一端具有一固定部。
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2021
- 2021-06-10 CN CN202110650764.5A patent/CN114306739B/zh active Active
- 2021-08-13 US US17/401,761 patent/US20220096209A1/en not_active Abandoned
Non-Patent Citations (3)
Title |
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Diamanti MV等,"Production of anodic TiO2 nanofilms and their characterization". Physics Procedia, 2013, 40: 30-37. |
楊幫成等,"鈦種植體表面改性方法",華西口腔醫學雜誌 第37卷,第2期,2019年4月,pp124-129. |
楊幫成等,"鈦種植體表面改性方法",華西口腔醫學雜誌 第37卷,第2期,2019年4月,pp124-129. Diamanti MV等,"Production of anodic TiO2 nanofilms and their characterization". Physics Procedia, 2013, 40: 30-37. * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114306739A (zh) | 2022-04-12 |
CN114306739B (zh) | 2023-04-07 |
TW202212641A (zh) | 2022-04-01 |
US20220096209A1 (en) | 2022-03-31 |
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