TWI730862B - 製造具厚度變化的薄膜的方法 - Google Patents

Abstract

一種製造具厚度變化的薄膜的方法，包括(a)提供一具開口並定義的遮罩，開口定義複數圍繞中心點且沿徑向線彼此錯開的拱形部分；(b)提供一定義一於一軸方向延伸通過中心點的旋轉軸且於軸方向與遮罩隔開的承載板；(c)配置一基板於承載板上以允許其第一線與徑向線於軸方向上對齊，基板具複數沿第一線彼此錯開的第一區域；(d)旋轉承載板使得當承載板相對遮罩每轉一圈基板的第一區各以複數預定暴露時間掃過並暴露於開口的拱形部分；及(e)執行步驟(d)的同時透過遮罩的開口塗覆一材料於基板上以於基板上形成沿第一線具有對應於預定暴露時間變化之厚度變化的第一薄膜。

Description

製造具厚度變化的薄膜的方法

本發明是有關於一種製造薄膜的方法，特別是指一種製造具厚度變化的薄膜的方法。

美國第9,804,310B2核准公告號發明專利案(以下稱前案1)公開一種異向性光學干涉濾光片(anisotropic optical interference filter)的製法。公開於前案1的製法雖然是使用一遮板以令該遮板與一試片間存在有一相對平移運動的技術手段，從而使沉積於該試片上的鍍膜具有不同厚度。然而，前案1的製法則需額外配置有一供該遮板進行相對平移運動的致動臂(請見前案1的圖1)，設備較為繁複。往復運動的設計需較佳的鍍場均勻性，更需考量各個樣品在往復相對運動中的誤差及位置差異。因此，在量產上要在同鍋鍍膜中取得各個樣品一致的結果也比較有挑戰。此外，往復運動的速度會影響到厚度梯度的線性度及梯度，在線性度及厚度梯度的設計上也比較不利。

此外，Peter Kiesel等人於Applied Physics Letters,vol.89,201113-1~201113-3,2006公開出「Compact,low-cost,and high-resolution Interrogation unit for optical sensors」一文(以下稱前案2)。前案2主要是利用機台腔體本身鍍場不均，因而鍍製取得厚度具梯度變化之薄膜。然而，前案2所鍍得之薄膜的厚度梯度不僅不易控制，也不易達到批次性的量產。

又，S.-W.Wang等人於Applied Physics B,March 2006,Volume 82,Issue 4,pp 637-641公開出「16×1 integrated filter array in the MIR region prepared by using a combinatorial etching technique」一文(以下稱前案3)。前案3則是利用多次的黃光微影程序(photolithography process)及蝕刻程序(etching process)而得到厚度具階梯式變化之不同厚度的薄膜，其不僅製程複雜，且製作成本也高。

再者，S.-W.Wang等人於Applied Physics B,July 2007,Volume 88,Issue 2,pp 281-284也公開「128 channels of integrated filter array rapidly fabricated by using the combinatorial deposition technique」一文(以下稱前案4)。前案4所採用的手段則是利用不同遮罩進行多次沉積以得到厚度具階梯式變化之不同厚度的薄膜，其同樣是製程複雜且成本高。

經上述說明可知，解決具特定梯度厚度薄膜之製程不易且難以批次製造特定梯度厚度薄膜等問題，是所屬技術領域中的相 關技術人員所待突破的課題。

因此，本發明的目的，即在提供一種製程簡化之製造具厚度變化的薄膜的方法。

於是，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法，其包括以下步驟：(a)提供一遮罩，其定義至少一指向其中心點的徑向線且具有至少一開口，該開口定義出複數分別圍繞該中心點的拱形部分，該等拱形部分沿著該徑向線彼此錯開；(b)提供一承載板，其定義一於一軸方向延伸通過該中心點的旋轉軸，且該承載板於該軸方向與該遮罩隔開；(c)配置至少一基板於該承載板上，該基板定義一第一線以允許該第一線與該徑向線於該軸方向上對齊，該基板具有複數沿著該第一線彼此錯開的第一區域；(d)於步驟(c)之後，以繞著該旋轉軸的方式相對於該遮罩旋轉該承載板，使得每當該承載板相對於該遮罩轉一圈，該基板的該等第一區域分別以複數預定暴露時間掃過並暴露於該開口的該等拱形部分；及(e)在執行步驟(d)的同時，透過該遮罩的該開口塗覆一材料於該基板上以於該基板上形成一具有一沿著該第一線厚度變化的第一薄膜，該沿著該第一線厚度變化是對應於該等預定暴露時間的變化。

本發明的功效在於：步驟(d)的承載板是相對於該遮罩旋轉，使得每當該承載板相對於該遮罩轉一圈時，該基板的該等第一 區域是以該等預定暴露時間掃過並暴露於該開口的該等拱形部分，從而使該材料是透過該遮罩的該開口塗覆於該基板上，並使該基板上所形成的該第一薄膜是沿著該第一線具有對應於該等預定暴露時間變化的厚度變化。

1:遮罩

10:開口

11:拱形部分

12:同心圓部分

CP:中心點

RL:徑向線

2:承載板

AD:軸方向

RA:旋轉軸

3:基板

31:第一區域

32:第二區域

X:第一線

Y:第二線

4:驅動軸體

5:軸承單元

51:外圈

52:內圈

53:抗摩擦件

54:端蓋

6:濺鍍機台

61:不鏽鋼真空腔體

62:固定架

63:陰極單元

本發明的其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一正視示意圖，說明本發明之製造具厚度變化的薄膜的方法於實施時所使用的一沉積設備；圖2是一正視示意，說明圖1之沉積設備的細部構件；圖3是一仰視示意圖，說明本發明之製造具厚度變化的薄膜的方法的一第一實施例；圖4是一仰視示意圖，說明本發明之製造具厚度變化的薄膜的方法的一第二實施例；圖5是一仰視示意圖暨鍍膜厚度變化曲線，說明本發明之製造具厚度變化的薄膜的方法的一第三實施例；圖6是一仰視示意圖暨鍍膜厚度變化曲線，說明本發明之製造具厚度變化的薄膜的方法的一第四實施例；圖7是一仰視示意圖暨鍍膜厚度變化曲線，說明本發明之製造具 厚度變化的薄膜的方法的一第五實施例；圖8是一仰視示意圖暨鍍膜厚度變化曲線，說明本發明之製造具厚度變化的薄膜的方法的一第六實施例；圖9是一仰視示意圖暨鍍膜厚度變化曲線，說明本發明之製造具厚度變化的薄膜的方法的一第七實施例；圖10是一仰視示意圖暨鍍膜厚度變化曲線，說明本發明之製造具厚度變化的薄膜的方法的一第八實施例；圖11是一仰視示意圖暨鍍膜厚度變化曲線，說明本發明之製造具厚度變化的薄膜的方法的一第九實施例；圖12是一仰視示意圖暨鍍膜厚度變化曲線，說明本發明之製造具厚度變化的薄膜的方法的一第十實施例；及圖13是一仰視示意圖暨鍍膜厚度變化曲線，說明本發明之製造具厚度變化的薄膜的方法的一第十一實施例。

在本發明被詳細描述的前，應當注意在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示。

參閱圖1、圖2與圖3，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法的一第一實施例，是以圖1與圖2所示之一濺鍍機台(sputtering device)6為例來實施，其包括以下步驟：(a)提供一遮 罩1，其定義至少一指向其一中心點CP的徑向線RL且具有至少一開口10，該開口10定義出複數分別圍繞該中心點CP的拱形部分11，該等拱形部分11是沿著該徑向線RL彼此錯開；(b)提供一承載板2，其定義一於一軸方向AD延伸通過該中心點CP的旋轉軸RA，且該承載板2於該軸方向AD與該遮罩1隔開；(c)配置至少一基板3於該承載板2上，該基板3定義一第一線X以允許該第一線X與該徑向線RL於該軸方向AD上對齊，該基板3具有複數沿著該第一線X彼此錯開的第一區域31；(d)於步驟(c)之後，以繞著該旋轉軸RA的方式相對於該遮罩1旋轉該承載板2，使得每當該承載板2相對於該遮罩1轉一圈，該基板3的該等第一區域31分別以複數預定暴露時間掃過並暴露於該開口10的該等拱形部分11；及(e)在執行步驟(d)的同時，透過該遮罩1的該開口10塗覆一材料於該基板3上以於該基板3上形成一具有一沿著該第一線X厚度變化的第一薄膜(圖未示)，該沿著該第一線X厚度變化是對應於該等預定暴露時間的變化。在本發明該第一實施例中，該遮罩1的開口10與該基板3的數量各為一個，且如圖3所示，該開口10具有一對稱於該徑向線RL的幾何形狀。

較佳地，本發明該第一實施例的遮罩1還具有複數圍繞該中心點CP的同心圓部分12，該開口10的各拱形部分11是以一佔據比率來佔據各自所對應的同心圓部分12。該等拱形部分11的該等 佔據比率是由外而內逐漸變化，使得該等第一區域31的該等預定暴露時間由外而內逐漸變化，藉此允許步驟(e)所獲得的第一薄膜具有沿著該第一線X逐漸變化的厚度。在本發明該第一實施例中，該遮罩1之開口10是如圖3所示，該等拱形部分11是自最靠近該中心點CP處的該同心圓部分12沿該徑向線RL彼此錯開，且該等拱形部分11的該等佔據比率是由外而內逐漸遞減，因而使得該等第一區域31的該等預定暴露時間是由外而內逐漸減少，從而使得步驟(e)所獲得的第一薄膜厚度是沿該第一線X由外而內逐漸下降。須說明的是，經由本發明該第一實施例之製造方法所製得的第一薄膜基於其厚度是沿該第一線X由外而內逐漸下降，因而可用於濾光器。

再參閱圖2，較佳地，在步驟(d)之前還包括以下步驟：(d1)提供一沿著該旋轉軸RA延伸的驅動軸體4，以允許該承載板2固設於該驅動軸體4上並與該驅動軸體4一同旋轉；以及(d2)提供一軸承單元5，其設置於該遮罩1的一遠離該承載板2的一主表面上，且包括一外圈51、一內圈52，及複數抗摩擦件53。該外圈51在一與該開口10隔開的位置上固定至該遮罩1。該內圈52設置於該外圈51之內，且構造成允許延伸通過該遮罩1的該驅動軸體4被固設成與該內圈52一同旋轉。該等抗摩擦件53密封於該外圈51及該內圈52之間，以允許該內圈52相對於該外圈51旋轉從而容許該承載板2在步驟(d)相對於該遮罩1旋轉。

更佳地，該軸承單元5還包括一端蓋54，且該端蓋54構造成允許該外圈51不可動地安裝於其內，藉此防止該外圈51、該內圈52及該等抗摩擦件53於步驟(e)被塗覆。

具體來說，在本發明該第一實施例中，上述驅動軸體4是如圖1與圖2所示，軸設於該濺鍍機台6的一不鏽鋼真空腔體61；此外，該遮罩1除了固定於該軸承單元5的外圈51，更透過該濺鍍機台6內的一固定架62來固定於該不鏽鋼真空腔體61以面向該濺鍍機台6的一陰極單元(即，待鍍材料源)63設置，且該遮罩1是相對該承載板2更靠近該陰極單元63，該基板3則是介於該承載板2與該遮罩1間。本發明該第一實施例僅是以該濺鍍機台6為例作說明，其並不限於此。需知道的是，前述位於遮罩1的開口10、承載板2、基板3、驅動軸體4與軸承單元5等構件在空間上的相對配置關係與製程上的理念，也同樣適用於蒸鍍機台(evaporator)，於此不再多加贅述。

參閱圖4，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法的一第二實施例大致上是相同於該第一實施例，其不同處是在於，該遮罩1定義複數的該徑向線RL且具有複數的該開口10，該等徑向線RL彼此在一環繞該旋轉軸RA的圓周方向上彼此錯開，各開口10的該等拱形部分11是沿著各自所對應的徑向線RL彼此錯開；此外，於步驟(c)，複數的該基板3是以彼此在環繞該旋轉軸RA的圓周方向上 彼此錯開的形式配置於該承載板2上，使得在步驟(d)中，該等基板3的該等第一線X是依序於該軸方向AD上與該徑向線RL對齊。

具體來說，在本發明該第二實施例中，該遮罩1之開口10的數量為三個且是相同於該基板3的數量，而該等開口10與該等基板3的相鄰距離皆實質相等。因此，在實施步驟(d)與步驟(e)時，每當該承載板2相對該遮罩1繞著該旋轉軸RA旋轉一圈，則該三個基板3上所製得的第一薄膜在沿該第一線X的厚度變化皆是相同於該第一實施例由外而內逐漸下降，且該三個基板3各自所製得的該第一薄膜的厚度也皆相同。綜合本發明該第二實施例來說，本發明該第二實施例能在單一批次內製得厚度變化相同且彼此厚度也相同的該三個第一薄膜。

參閱圖5，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法的一第三實施例大致上是相同於該第一實施例，其不同處是在於，該遮罩1具有兩個該開口10，該等開口10是沿著該徑向線RL彼此分開，該等開口10的該等拱形部分11是沿著該徑向線RL彼此錯開，且兩個該基板3是被該承載板2所承載，以於步驟(e)中允許該兩個基板3分別透過該遮罩1的該兩個開口10被塗覆。

在本發明該第三實施例中，該兩個基板3是如該遮罩1的該兩個開口10般，沿著該徑向線RL彼此分開，且該兩個開口10與該第一線X處所分別定義的兩個夾角是鄰近該中心點CP處的開口 10夾角小於遠離該中心點CP處的開口10夾角，以致於在該兩個基板3上所分別製得的兩個第一薄膜沿該第一線X由外而內的厚度變化雖然同為遞減，但是該兩個第一薄膜之厚度變化所對應的斜率是遠離該旋轉軸RA者大於鄰近該旋轉軸RA者。因此，本發明該第三實施例可在單一批次內同時製得該兩個厚度變化率彼此不同的第一薄膜。

位於本發明該第三實施例(見圖5)之鄰近該遮罩1中心點CP處的開口10夾角，其雖然是自位處於該中心點CP處(即，該軸承單元5之端蓋54中心處，圖5未示)開始逐漸擴大。然而，此處須補充說明的是，圖5僅為示意圖，於實際實施時，本發明該第三實施例之該兩開口10中之鄰近該中心點CP者可以是位於該端蓋54周緣處。因此，本發明該第三實施例圖5所示之示意圖是以忽略掉該軸承單元5之端蓋54的條件下來呈現該遮罩1中的該兩開口10之相對位置，且在以下的幾個實施例中，各實施例所對應之遮罩1內的開口10相對位置也是以忽略掉該軸承單元5之端蓋54的條件下來呈現，於此合先敘明。

參閱圖6，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法的一第四實施例大致上是相同於該等實施例。具體來說，該遮罩1之開口10數量及其開口10位在該遮罩1上的配置關係是相同於該第三實施例；被配置於該承載板2上之相鄰基板3的配置關係則是雷同於該第 二實施例，其不同處是在該基板3的數量為十二個，且於實施步驟(d)與步驟(e)時，該等基板3僅能掃過並暴露於遠離該旋轉軸RA處的開口10。本發明於實施完該第四實施例後所製得之該十二個第一薄膜的厚度變化是如圖6所示，該等第一薄膜的厚度變化率皆相同；換句話說，本發明該第四實施例能在單一批次內同時生產厚度變化率與厚度完全相同的該十二個第一薄膜。

參閱圖7，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法的一第五實施例大致上是相同於該第三實施例，其不同處是在於，該兩個基板3是如圖7所示，於實施步驟(d)與步驟(e)時，該兩個基板3僅能掃過並暴露於遠離該旋轉軸RA處的開口10。本發明於實施完該第五實施例後所製得之該兩個第一薄膜的厚度變化是如圖7所示，該兩個第一薄膜的厚度變化率皆相同，但兩者的厚度不同；換句話說，本發明該第五實施例能在單一批次內同時生產厚度變化率完全相同且厚度彼此不同的該兩個第一薄膜。

參閱圖8，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法的一第六實施例大致上是相同於該第一實施例，其不同處是在於，該遮罩1之開口10之該等拱形部分11的該等佔據比率是由外而內梯度變化，使得該等第一區域31的該等預定暴露時間由外而內梯度變化，藉此允許步驟(e)所獲得的第一薄膜具有沿著該第一線X梯度變化的厚度。本發明於實施完該第六實施例後所製得之該第一薄膜的厚 度變化是如圖8所示，該第一薄膜的厚度變化率為三階梯度變化。

參閱圖9，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法的一第七實施例大致上是相同於該第一實施例，其不同處是在於，該遮罩1之開口10之該等拱形部分11的該等佔據比率是由外而內週期性變化，使得該等第一區域31的該等預定暴露時間由外而內週期性變化，藉此允許步驟(e)所獲得的第一薄膜具有沿著該第一線X週期性變化的厚度。本發明於實施完該第七實施例後所製得之該第一薄膜的厚度變化是如圖9所示，該第一薄膜的厚度變化為一維的週期性變化。

參閱圖10，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法的一第八實施例大致上是相同於該第七實施例，其不同處是在於，該基板3還定義一與該第一線X相交的第二線(Y)，且還具有複數沿著該第二線Y彼此錯開的第二區域32；此外，本發明該第八實施例之製造方法還包括下列步驟：(f)於步驟(e)之後，配置該至少一基板3於該承載板2上，以允許該第二線Y與該徑向線RL於該軸方向AD上對齊；(g)於步驟(f)之後，以繞著該旋轉軸RA的方式相對於該遮罩1旋轉該承載板2，使得每當該承載板2相對於該遮罩1轉一圈，該基板3的該等第二區域32分別以該等複數個預定暴露時間，掃過並暴露於該開口10的該等拱形部分11；以及(h)在執行步驟(g)的同時，透過該遮罩1的該開口10塗覆該材料於該基板3上，以於該第一薄 膜上形成一具有一沿著該第二線Y厚度變化的第二薄膜(圖未示)，該沿著該第二線Y厚度變化是對應於該等預定暴露時間的變化。

具體地來說，本發明該第八實施例之製造方法於執行其步驟(c)時之基板3的第一線X是如圖10(A)所示，於該軸方向AD(圖10未示)上對齊該遮罩1的徑向線RL，並在執行其完步驟(e)之後，如圖10(B)所示，將該基板3原地旋轉90度使其基板3的第二線Y於該軸方向AD(圖10未示)上對齊該遮罩1的徑向線RL後，以依序執行上段所陳之步驟(g)與步驟(h)，從而在呈一維之週期性變化的該第一薄膜上沉積該第二薄膜，且該第二薄膜之厚度變化是沿著該第二線Y呈一維之週期性變化。換句話說，本發明於實施完該第八實施例之方法後所製得之該第一、二薄膜的整體厚度變化是如圖10(C)所示，其整體厚度變化為二維的週期性變化。

參閱圖11，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法的一第九實施例大致上是相同於該第一實施例與第七實施例，其不同處是在於，該遮罩1之開口10的數量是兩個。詳細來說，該兩個開口10之其中一者是相同於該第七實施例(見圖9)，該兩個開口10之其中另一者是雷同於如圖3所示之第一實施例，其不同處是在於，該其中另一開口10的該等拱形部分11是自該遮罩1的中心點CP處開始沿該遮罩1的徑向線RL彼此錯開。以相同於該第一實施例與該第七實施例之實施結果來說，經本發明該第九實施例之製造方法所製得 的該第一薄膜之厚度變化是如圖11所示，沿該第一線X由外而內逐漸遞減且呈週期性變化。

參閱圖12，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法的一第十實施例大致上是相同於該第四實施例，其不同處是在於，本發明該第十實施例之遮罩1的開口10數量是如圖12所示為十二個，且各開口10之該等拱形部分11(圖未示)的佔據比率是由外而內逐漸地遞增，因而經本發明該第十實施例之製造方法所製得的各第一薄膜之厚度變化是如圖12之左側的厚度對X位置關係圖所示，沿各自所對應的第一線X由外而內逐漸地遞增。

參閱圖13，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法的一第十一實施例大致上是相同於該第十實施例，其不同處是在於，本發明該第十一實施例之遮罩1的該等開口10的形狀與該等基板3相對各開口10的配置位置是如圖13所示，且各開口10之該等拱形部分11(圖未示)的佔據比率也是由外而內逐漸地遞減，因而經本發明該第十一實施例之製造方法所製得的各第一薄膜之厚度變化是如圖13之左側的厚度對X位置關係圖所示，沿各自所對應的第一線X由外而內逐漸地遞減。

經本發明該等實施例之詳細說明可知，本發明步驟(a)之遮罩1之開口10的該等拱形部分11之佔據比率是沿其徑向線RL呈現漸進式變化，且步驟(c)的基板3是配置於能相對於該遮罩1旋轉 的承載板2上，因而在實施步驟(d)與步驟(e)時甚或是在實施步驟步驟(g)與步驟(h)時，每當該承載盤2相對該遮罩1旋轉時，該基板3之該等第一區域31甚或是該等第二區域32能以該等預定暴露時間掃過並暴露於該遮罩1之開口10的該等拱形部分11，導致塗覆於基板3上的第一薄膜甚或是第二薄膜能具有沿第一線X甚或是沿第二線Y的厚度變化。因此，本發明不僅能穩定地在單一製程內製造單一厚度變化的第一薄膜，更能在單一批次內同時製造相同厚度與相同厚度變化的大量第一薄膜。相較於先前技術所提之第一、二、三、四前案，本發明無須像該第一前案般，仍需額外配置能產生相對平移運動的致動臂，也無須像該第二、三、四前案般，製程繁複、製作成本高且不易批次性的量產。

綜上所述，本發明製造具厚度變化的薄膜的方法，能穩定地在單一製程內製造單一厚度變化的第一薄膜，更能在單一批次內同時製造相同厚度且相同厚度變化的大量第一薄膜，故確實能達成本發明的目的。

惟以上所述者，僅為本發明的實施例而已，當不能以此限定本發明實施的範圍，凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋的範圍內。

1:遮罩

10:開口

11:拱形部分

12:同心圓部分

CP:中心點

RL:徑向線

2:承載板

RA:旋轉軸

3:基板

31:第一區域

X:第一線

Claims (12)

1. 一種製造具厚度變化的薄膜的方法，其包括以下步驟：(a)提供一遮罩，其定義至少一指向其一中心點的徑向線且具有至少一開口，該開口定義出複數分別圍繞該中心點的拱形部分，該等拱形部分是沿著該徑向線彼此錯開；(b)提供一承載板，其定義一於一軸方向延伸通過該中心點的旋轉軸，且該承載板於該軸方向與該遮罩隔開；(c)配置至少一基板於該承載板上，該基板定義一第一線以允許該第一線與該徑向線於該軸方向上對齊，該基板具有複數沿著該第一線彼此錯開的第一區域；(d)於步驟(c)之後，以繞著該旋轉軸的方式相對於該遮罩旋轉該承載板，使得每當該承載板相對於該遮罩轉一圈，該基板的該等第一區域分別以複數預定暴露時間掃過並暴露於該開口的該等拱形部分；及(e)在執行步驟(d)的同時，透過該遮罩的該開口塗覆一材料於該基板上以於該基板上形成一具有一沿著該第一線厚度變化的第一薄膜，該沿著該第一線厚度變化是對應於該等預定暴露時間的變化。
2. 如請求項1所述的製造具厚度變化的薄膜的方法，在步驟(d)之前還包括以下步驟：(d1)提供一沿著該旋轉軸延伸的驅動軸體，以允許該承載板固設於該驅動軸體上並與該驅動軸體一同旋轉；以及 (d2)提供一軸承單元，其設置於該遮罩的一遠離該承載板的一主表面上，且包括一外圈，其在一與該開口隔開的位置上固定至該遮罩，一內圈，其設置於該外圈之內且構造成允許延伸通過該遮罩的該驅動軸體被固設成與該內圈一同旋轉，及複數抗摩擦件，密封於該外圈及該內圈之間，以允許該內圈相對於該外圈旋轉，從而容許該承載板在步驟(d)相對於該遮罩旋轉。
3. 如請求項2所述的製造具厚度變化的薄膜的方法，其中，該軸承單元還包括一端蓋，該端蓋構造成允許該外圈不可動地安裝於其內，藉此防止該外圈、該內圈及該等抗摩擦件於步驟(e)被塗覆。
4. 如請求項1所述的製造具厚度變化的薄膜的方法，其中，於步驟(c)，複數的該基板是以彼此在一環繞該旋轉軸的圓周方向上彼此錯開的形式配置於該承載板上，使得在步驟(d)中，該等基板的該等第一線是依序於該軸方向上與該徑向線對齊。
5. 如請求項1所述的製造具厚度變化的薄膜的方法，其中，該遮罩定義複數的該徑向線且具有複數的該開口，該等徑向線彼此在一環繞該旋轉軸的圓周方向上彼此錯開，各開口的該等拱形部分是沿著各自所對應的徑向線彼此錯開。
6. 如請求項1所述的製造具厚度變化的薄膜的方法， 其中，該遮罩具有兩個該開口，該等開口是沿著該徑向線彼此分開，該等開口的該等拱形部分是沿著該徑向線彼此錯開；以及其中，兩個該基板是被該承載板所承載，以於步驟(e)中允許該兩個基板分別透過該遮罩的該兩個開口被塗覆。
7. 如請求項1所述的製造具厚度變化的薄膜的方法，其中，該遮罩還具有複數圍繞該中心點的同心圓部分，該開口的各拱形部分是以一佔據比率來佔據各自所對應的同心圓部分。
8. 如請求項7所述的製造具厚度變化的薄膜的方法，其中，該等拱形部分的該等佔據比率是由外而內逐漸變化，使得該等第一區域的該等預定暴露時間由外而內逐漸變化，藉此允許步驟(e)所獲得的第一薄膜具有沿著該第一線逐漸變化的厚度。
9. 如請求項7所述的製造具厚度變化的薄膜的方法，其中，該等拱形部分的該等佔據比率是由外而內梯度變化，使得該等第一區域的該等預定暴露時間由外而內梯度變化，藉此允許步驟(e)所獲得的第一薄膜具有沿著該第一線梯度變化的厚度。
10. 如請求項7所述的製造具厚度變化的薄膜的方法，其中，該等拱形部分的該等佔據比率是由外而內週期性變化，使得該等第一區域的該等預定暴露時間由外而內週期性變化，藉此允許步驟(e)所獲得的第一薄膜具有沿著該第一線週期性變化的厚度。
11. 如請求項1所述的製造具厚度變化的薄膜的方法，其中，該基板還定義一與該第一線相交的第二線，且還具有複數沿著該第二線彼此錯開的第二區域，該方法還包含下列步驟：(f)於步驟(e)之後，配置該至少一基板於該承載板上，以允許該第二線與該徑向線於該軸方向上對齊，(g)於步驟(f)之後，以繞著該旋轉軸的方式，相對於該遮罩旋轉該承載板，使得每當該承載板相對於該遮罩轉一圈，該基板的該等第二區域分別以該等複數個預定暴露時間，掃過並暴露於該開口的該等拱形部分；以及(h)在執行步驟(g)的同時，透過該遮罩的該開口塗覆該材料於該基板上，以於該第一薄膜上形成一具有一沿著該第二線厚度變化的第二薄膜，該沿著該第二線厚度變化是對應於該等預定暴露時間的變化。
12. 如請求項1所述的製造具厚度變化的薄膜的方法，其中，該開口具有一對稱於該徑向線的幾何形狀。

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