TWI725178B - 用於基於電力輸入控制真空電弧重熔爐的系統與方法 - Google Patents

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Abstract

一種金屬用真空電弧重熔（VAR）處理的控制系統包括一直流（DC）電源、一推桿驅動器、一電壓熔滴短路偵測器、及一控制器，該控制器包括一處理器。該熔滴短路偵測器係配置以量測電弧於一段時間中的熔滴短路頻率。該控制器係配置以基於熔滴短路頻率與電弧間隙長度之間的相關性來決定電極尖端與熔化池之間的即時電弧間隙長度。該控制器係進一步配置以藉由基於該即時電弧間隙長度決定對電極輸入之一輸入電力級，控制該DC電源對電極的電力輸入，該輸入電力級係配置以由該DC電源在該輸入電力級下產生一需要電弧間隙長度。

Description

用於基於電力輸入控制真空電弧重熔爐的系統與方法
本發明一般是與真空電弧重熔有關，且更特別地，與真空電爐重熔處理中所使用的控制系統有關。
真空電弧重熔（VAR）處理常被用於金屬鑄錠生產中作為二次熔化處理。藉由對金屬鑄錠應用VAR處理，在VAR處理中所產製的生成鑄錠會具有增加的化學及/或機械均質性，這是在所需工業應用中使用的金屬所需要的。此外，因為在VAR處理中金屬的固化時間會更快速許多，因此VAR處理的使用允許為鑄錠金屬的微結構特徵有更佳控制。常見經由VAR處理進行重熔的例示金屬可包括、但不限於：鎳、鈦、鋼、以及從這些金屬或其他金屬所衍生的任何合金。
VAR處理是利用VAR爐，VAR爐使用直流（DC）電力來重熔真空室內的金屬。VAR爐包括熔化室及連接至一DC電源的可移動推桿。要被重熔的金屬是作為電極起始該VAR處理，電極是連接到該可移動推桿。重熔的金屬可於熔化室內的水冷銅坩鍋中被重熔為鑄錠。為了提供含有可忽略之氧含量的氣氛（其中氧會與要被熔化的金屬反應），以及為了將雜質排出熔化室，VAR爐可包括一真空來源。此外，在一些VAR爐中，可包括冷卻系統以從熔化室中提取熱量。
VAR系統的控制可基於控制在鑄錠及/或坩鍋頂部、在電極端部和重熔期間形成的熔化池之間的電弧間隙而行。在VAR實務中，已經觀察到保持相對一致的電弧間隙有助於在VAR處理中提供一致的重熔結果。因此，VAR處理的控制可至少部分基於控制電弧間隙。然而，要在處理本身中物理地觀看電弧間隙是不可行或不可能的，因此，電弧間隙是基於較可存取的其他資料所決定或導出。舉例而言，有些控制方法確定電弧的長度和電弧的阻抗（例如電弧所導致的電壓降）具有相關性。
此外，在重熔處理期間，已經觀察到會在重熔期間發生短週期的短路（例如少數毫秒）。已經另外觀察到短路的頻率具有對電弧間隙之相關性。這種資訊可被用以控制及/或維持電弧間隙。在先前的控制方法中，電力輸入已經被選擇以取得所需要的熔化速率，而推桿的速度已被調整以動態地控制及/或維持電弧間隙。
然而，在所產生的鑄錠需要有大直徑（例如大於750毫米）的VAR處理中，推桿速度控制會是困難的，且/或控制所述速度會提供不精確的電弧間隙控制，這是因為隨著電極直徑增加，在相同的電弧間隙變化中有更大量的金屬需要被熔化。因此，需要改良的VAR處理控制系統，於該系統中電弧間隙可獨立於推桿速度調整而受控制。
根據本發明的一個構想，揭露了一種金屬用之真空電弧重熔（VAR）處理控制系統。該VAR處理係使用一VAR爐，該VAR爐包括其中形成有以金屬所形成的鑄錠之坩鍋、與由該金屬所形成之電極運作地相關聯之推桿、真空室、以及與該真空室相關聯之真空來源。該系統可包括直流（DC）電源、推桿驅動器、熔滴短路偵測器、以及控制器，所述控制器包括一處理器。該DC電源係與該電極運作地相關聯，且係配置以於電極的電極尖端和鑄錠的熔化池之間產生電弧。推桿驅動器係與推桿運作地相關聯且係配置以驅動推桿。熔滴短路偵測器係配置以量測電弧於一段時間中的熔滴短路頻率。控制器與DC電源、推桿驅動器和熔滴短路偵測器運作地相關聯，且係配置以利用推桿控制模組來控制推桿的推桿速度，其中該推桿控制模組係配置以達到電極之需要熔化速率，並對推桿驅動器提供指令以根據該推桿速度驅動推桿。控制器係進一步配置以利用一間隙決定模組來決定電極尖端與熔化池之間的一即時電弧間隙長度，該間隙決定模組基於該熔滴短路頻率與電弧間隙長度之間的相關性而決定該即時電弧間隙長度。控制器進一步係配置以利用一電力控制模組控制DC電源對電極輸入的電力，該電力控制模組系配置以基於該即時電弧間隙長度而決定對該電極的輸入電力級，該輸入電力級係配置以於DC電源以該輸入電力級進行電力傳輸時於電極尖端和熔化池之間產生一需要電弧間隙長度。
根據本發明的另一構想，揭露了一種用於控制VAR處理的方法。所述VAR處理係利用一VAR爐，該VAR爐包括其中形成有以金屬所形成的鑄錠之坩鍋、與由該金屬所形成之電極運作地相關聯之推桿、真空室、以及與該真空室相關聯之真空來源。該方法包括利用與該電極運作地相關聯之一直流（DC）電源，於該電極的一電極尖端和該鑄錠的一熔化池之間產生一電弧；利用與該推桿運作地相關聯之一推桿驅動器，以一推桿速度驅動該推桿，該推桿速度係配置以達到該電極之一需要熔化速率；以及利用一熔滴短路偵測器決定該電弧於一段時間中之一熔滴短路頻率。該方法進一步包括利用在該段時間中之該熔滴短路頻率，基於該熔滴短路頻率與電弧間隙長度之間的一相關性，決定該電極尖端與該熔化池之間的一即時電弧間隙長度。該方法進一步包括基於該即時電弧間隙長度決定對該電極之一輸入電力級，該輸入電力級係配置以於該DC電源以該輸入電力級傳輸電力時在該電極尖端與該熔化池之間產生一需要電弧間隙長度；以及基於該輸入電力級控制該DC電源對該電極之電力輸入。
根據本發明的另外一個構想，揭露了一種用於執行金屬之VAR處理的VAR爐。該VAR爐包括一坩鍋，在該坩鍋中形成有由該金屬所形成之一鑄錠；一推桿，其與由該金屬所形成之一電極運作地相關聯；一真空室，以及與該真空室運作地相關聯之一真空來源。該VAR爐包括一直流（DC）電源、一推桿驅動器、一熔滴短路偵測器及一控制器，該控制器包括一處理器。該DC電源與該電極運作地相關聯，且係配置以於該電極的電極尖端和該鑄錠的熔化池之間產生一電弧。該推桿驅動器與該推桿運作地相關聯，且係配置以驅動該推桿。該熔滴短路偵測器可配置以量測電弧於一段時間中的熔滴短路頻率。該控制器與該DC電源、該推桿驅動器和該熔滴短路偵測器運作地相關聯，且係配置以藉由決定該VAR處理之推桿速度以及對該推桿驅動器提供指令以基於推桿速度驅動推桿而控制推桿的推桿速度，推桿的速度係配置以達到電極之一需要熔化速率。控制器係進一步配置以利用熔滴短路偵測器所測得之電弧於該段時間中之熔滴短路頻率而決定電極尖端和熔化池之間的即時電弧間隙長度，係藉由基於熔滴短路頻率與電弧間隙長度之間的相關性來決定該即時電弧間隙長度。該控制器係進一步配置以藉由基於該即時電弧間隙長度決定對電極之輸入電力級，以控制該DC電源對該電極之電力輸入，該輸入電力級係配置以於該DC電源以該輸入電力級進行電力傳輸時，於該電極尖端和該熔化池之間產生一需要電弧間隙長度。
在結合如附圖式閱讀時，將可進一步理解本發明的這些與其他構想。
現轉參圖式，而且特別是參考第1圖，其示意說明了例示的真空電弧重熔（VAR）爐10。該VAR爐10係配置以藉由於VAR爐10的熔化室14內熔化電極12而重熔金屬，其中電極12係由該金屬所組成。在熔化室14內，電極12係置於坩鍋16內。在一些實例中，坩鍋16是由銅所形成，因為銅可提供需要的熱特性及/或導電性；然而，坩鍋16當然並不限於是由銅所形成，而是可由提供VAR處理需要的熱特性及/或導電性的任何材料所形成。
在一些實例中，坩鍋16係由例如冷卻系統20予以冷卻。例如，冷卻系統20可包括冷卻劑來源22，冷卻劑來源22經由一或多個冷卻劑通道24將冷卻劑流體輸入至坩鍋16中。冷卻劑經由冷卻劑輸出部26離開坩鍋16，其中冷卻劑可被丟棄或被冷卻，使得可經由冷卻劑來源22重新進入坩鍋16作為冷卻劑。例如，冷卻劑可為水或任何以水為主的冷卻劑；然而，冷卻劑當然不限於水或以水為主者，而可為用以冷卻在VAR處理中之使用前、使用中及/或使用後之坩鍋16的任何適當冷卻劑。
為將電極12置位於VAR爐10內相對於坩鍋16，VAR爐10係進一步包括推桿28，推桿28與電極12運作地相關聯。推桿28與電極12可於VAR爐10的真空室30內移動。真空室30係經排空雜質及/或環境條件，以於真空室30和熔化室14內產生真空密封。為了排空真空室30，真空來源32可被包含其中。為了移動推桿28及相關聯的電極12，可包含有推桿驅動器34以使電極12相對於坩鍋16而置位。推桿驅動器34為該領域中習知之任何適當的驅動機構，其係用於透過推桿28置位電極12。舉例而言，推桿驅動器34可包括、但不當然限於包括伺服馬達、齒輪減速驅動器、任何習知馬達、電磁線圈閥活塞驅動器、液壓驅動器、或其任何組合。
推桿驅動器34可被用以相對於鑄錠38的熔化池36而置位電極12，鑄錠38為坩鍋16內電極12的金屬重熔體。在VAR爐10的運作期間，電源40傳送一相對低電壓及高安培電流透過推桿28和電極12。在一些實例中，此電流會具有大約20-30伏之相對低電壓、同時具有例如高於千安培之相對高安培電流。當此電流通至電極12，即於電極12的尖端44和鑄錠38的熔化池36之間產生電弧42。電弧42是如第2圖中放大圖所示。藉由對電極12施加電流以產生電弧42，及可使電極12緩慢熔化到熔化池36中。
這種緩慢熔化是受限在真空室30及/或熔化室14的真空密封環境內。施加至電極12的電流可具有負電壓，而鑄錠38和其熔化池36可保持處於接地電位。在一些實例中，鑄錠38的溫度可由冷卻系統20予以控制，且因此，藉由冷卻鑄錠38，即可保持受限制的熔化池36，同時鑄錠38的冷卻部分仍維持為固體。
當所施加的電流使金屬從電極12熔化出來時，熔化出來的金屬接著即沉積在鑄錠38上。因此，由於熔化之故，從電極12熔化出來的材料會與加至鑄錠38的材料成比例。然而，因為電極12一般具有比坩鍋16和鑄錠38更小的直徑，推桿28會以超過鑄錠38的成長速率的速率，將電極12朝鑄錠38驅動。
推桿驅動器34是配置以於發生重熔時將推桿28推向鑄錠38。電弧間隙46於重熔期間形成，其係定義為電極12的尖端44與鑄錠38的熔化池36之間的間隙。電弧間隙46在整個VAR處理過程中應維持為相對一致，以達最佳效能。
然而，要在使用VAR爐10的VAR處理期間實體上觀看到電弧間隙46是不實際或不可能的，因此，電弧間隙46是基於更可以存取的其他資料來決定或推導而得。舉例而言，例如在電弧間隙46的說明中，電弧間隙46的決定是根據電弧42所產生的熔滴短路及/或熔滴短路頻率和電弧長度的相關性。電弧42的熔滴短路頻率可藉由使用熔滴短路偵測器48而決定，熔滴短路偵測器48可以是該領域中能夠決定電弧42所產生之熔滴短路頻率的任何偵測器。熔滴短路偵測器48包括能決定跨電弧42電壓、跨電弧42電流、跨電弧42電阻、及/或與電弧42及/或電弧間隙46相關聯的任何其他資料的一或多個偵測器，其可用於決定電弧42在一段時間中所產生的熔滴短路頻率。在一些實例中，熔滴短路偵測器48可基於電弧42的電壓量測決定熔滴短路。除此之外、或可替代地，此電壓量測可被熔滴短路偵測器48提供至控制器52，其中控制器52會接著決定電弧42的熔滴短路頻率。熔滴短路偵測器48是被使用作為包括控制器52的控制系統50的一部分、或與控制系統50結合使用，控制系統50係配置以控制VAR爐10的VAR處理，其係示意說明於第3圖中，且將於下文中更詳細說明。
系統50包括控制器52，控制器52至少包括一處理器54。控制器52可為任何電子控制器或包括處理器的計算系統，處理器運作以執行操作、執行控制演算法、儲存資料、擷取資料、收集資料、及/或需要的任何其他計算或控制任務。控制器52可為單一控制器，或可包括設置以與一或多個推桿驅動器34、電源40、熔滴短路偵測器48和可選擇的輸出裝置56及/或輸入裝置58互相作用的一個以上的控制器。輸入裝置58可由例如鍵盤、滑鼠、觸控螢幕、軌跡板、軌跡球、及/或聲音識別系統來實施。舉例而言，輸入裝置58包括任何連線或無線裝置，以將輸入資料連接至控制器52中。輸出裝置56包括一或多個音訊輸出裝置、視覺輸出裝置、觸覺輸出裝置、或其任何組合。
控制器52的功能性可實施於硬體及/或軟體中，且仰賴一或多個資料地圖。為此，控制器52包括一記憶體60或與記憶體60相關聯，記憶體60可為內部記憶體與外部記憶體（例如資料庫或伺服器）中的一或兩者。記憶體60包括、但不限於包括：唯讀記憶體（ROM）、隨機存取記憶體（RAM）、可攜式記憶體等中的一或多個。這種記憶體媒介為非暫態記憶體媒介的例示。
為了在VAR爐10的VAR處理期間控制推桿28的推桿速度，控制器52執行一推桿控制模組62。推桿控制模組62為處理器54執行、而且例如是儲存在記憶體60上的機器可讀取指令。推桿控制模組62決定當前VAR處理所需的推桿速度。在一些實例中，推桿速度是基於電極12在VAR處理期間之一需要熔化速率。舉例而言，推桿速度可由推桿控制模組62動態地調整，以改變電極12的熔化速率，以達到所需要的熔化速率。
基於所決定的推桿速度，推桿控制模組62藉由對推桿驅動器34提供推桿速度指令而控制推桿28的推桿速度。在一些實例中，推桿驅動器34驅動致動器64，致動器64將基於推桿速度指令而置位及/或移動推桿28。
為決定及/或估計VAR爐10的VAR處理期間的當前電弧間隙46，控制器52執行間隙決定模組66。間隙決定模組66自熔滴短路偵測器48接收輸入。利用熔滴短路頻率和電弧間隙長度之間的習知相關性，間隙決定模組66決定電弧間隙46的即時長度。在一些實例中，間隙決定模組66基於電弧長度和熔滴短路頻率的相關性決定即時電弧間隙長度，在一些實例中，即時電弧間隙長度可從電弧42的電壓量測決定。
當電極12的金屬從電極12轉移到鑄錠38時，熔化金屬柱的形成和破裂即於電弧間隙46內形成，例如第2圖中所示之柱體68。這些柱體形成電極12和鑄錠38之間的低電阻橋，導致熔滴短路。熔滴短路會使電弧42瞬間熄滅，瞬間熄滅將導致電弧電壓降，熔滴短路偵測器48即監測此電弧電壓降。監控一段時間中的這些電壓降，以決定VAR處理的熔滴短路頻率。如該領域中所習知，熔滴頻率和電弧間隙長度是密切相關的；因此，基於這些相關性，間隙決定模組66可決定電弧間隙46之即時長度。
即時電弧間隙長度可為電力控制模組70所用，以控制及/或調整對電極12的電力級輸入。電力控制模組70可以一基礎電力級運作，該基礎電力級是基於一既定VAR處理的預定電力級，且係儲存於記憶體60中或從輸入裝置58輸入。若從間隙決定模組66擷取的即時電弧間隙長度指示即時電弧間隙長度與當前VAR處理所需要的電弧間隙長度不同時，電力控制模組70可相對於基礎電力級而調整對電極12的電力輸入。若即時電弧間隙長度確實不同於需要的電弧間隙長度，則電力控制模組即對電源40提供指令，以提高或降低電力級，並因此而提高或降低電弧間隙46的電弧間隙長度。舉例而言，相對於需要的電弧間隙長度，若即時電弧間隙被決定地過小，則電力控制模組70會提高電源40對電極12的電力輸入，其將使電極12隨時間熔化出更大量的金屬，而且藉由更快熔化出金屬，亦將提升電弧間隙長度以符合需要的電弧間隙長度。或者是，若相對於需要的電弧間隙而度而言，當前電弧間隙被決定地過大，則電力控制模組70將降低電源40對電極12的電力級輸入，其將相對於時間從電極12熔化出較少金屬，而且，藉由於一段時間中熔化出較少金屬，將可減少電弧間隙長度以符合需要的電弧長度。
為了適當地形成具有最佳冶金性質的鑄錠38，控制系統50可結合於VAR爐10使用。系統50可於用於控制使用VAR爐10的VAR處理的方法100以外、或與其結合而使用。方法100係如第4圖的流程圖所例示。儘管以下提出的方法100的說明是參考系統50和VAR爐10的元件而進行，但亦可使用替代元件來執行方法100，方法100不應被解釋為限於經由系統50及/或其構件所執行。
方法100藉由利用電源40於電極尖端44和熔化池36之間產生電弧42而開始，如方塊110所述。藉由使用例如推桿驅動器34，可以一推桿速度來驅動推桿，如方塊120所述。推桿速度是配置以達到電極12之一需要熔化速率，如上所述。方法100可進一步包括利用熔滴短路偵測器48決定電弧42於一段時間中的熔滴短路頻率，如方塊130所述。
至少根據熔滴短路頻率，方法100可基於熔滴短路頻率和電弧間隙長度之間的相關性來決定電極尖端44和熔化池36的即時電弧間隙長度，如方塊150所述。
方法100包括基於即時電弧間隙長度來決定對電極12的輸入電力級，輸入電力級係配置以於電源40以該輸入電力級傳輸電力時，於電極尖端44和熔化池36之間產生一需要電弧間隙長度，如方塊160所述。在一些實例中，基於即時電弧間隙長度而決定對電極12的輸入電力級包括在即時電弧間隙長度大於需要的電弧間隙長度時決定電源40的電力降低量。除此之外、或可替代地，基於即時電弧間隙長度而決定對電極12的輸入電力級包括在即時電弧間隙長度小於需要的電弧間隙長度時決定電源40的電力增加量。根據輸入電力級，方法100可利用電源40控制對電極12之電力輸入，如方塊170所述。產業可利用性
一般而言，前述公開內容在各種產業中皆有實用性，包括、但不限於冶金純化，且特別是利用重熔處理之鑄錠生產。藉由使用本文所揭露的系統和方法，可於VAR處理中達到金屬之更高純度及/或結構完整度。此外，藉由使用基於電力的電弧間隙控制系統和方法，可於使用具有大內徑坩鍋以產生較大直徑鑄錠的VAR爐時實現本文所揭之電弧間隙適當控制。
舉例而言，如第1圖所示，坩鍋16具有之內徑72與坩鍋中所產生之鑄錠38的直徑有關。在一些實例中，內徑72會大於750毫米。在某些這類實例中，內徑72是在1000至1100毫米的範圍中。當執行VAR處理以產生具有此較大直徑的鑄錠時，要控制推桿速度以修正及/或維持電弧間隙46會是不實際或困難的。因此，藉由調整推桿速度來修正電弧間隙之先前控制系統即無法於VAR處理（其中產生的鑄錠具有此較大尺寸）中適當控制電弧間隙。據此，藉由基於電源40的電力輸入、而非調整推桿速度（或除調整推桿速度之外還基於電源40的電力輸入）控制電弧間隙，本文揭露的系統和方法提供了電弧間隙、以及VAR處理本身之較佳控制。
應當理解，本發明提供了真空電弧重熔控制系統、VAR控制方法、VAR爐、以及更特定地，配置以基於電力輸入控制電弧間隙之VAR控制系統和方法。雖僅提出特定的具體實施例，但是從上述說明，替代例和修改例對於本領域技術人員來而言將會是顯而易見的。這些和其他替代方式被認為是等效的，並且都是在本說明書和所附申請專利範圍的精神和範疇內。
10‧‧‧VAR爐12‧‧‧電極14‧‧‧熔化室16‧‧‧坩鍋20‧‧‧冷卻系統22‧‧‧冷卻劑來源24‧‧‧冷卻劑通道26‧‧‧冷卻劑輸出部28‧‧‧推桿30‧‧‧真空室32‧‧‧真空來源34‧‧‧推桿驅動器36‧‧‧熔化池38‧‧‧鑄錠40‧‧‧電源42‧‧‧電弧44‧‧‧電極尖端46‧‧‧電弧間隙48‧‧‧熔滴短路偵測器50‧‧‧控制系統52‧‧‧控制器54‧‧‧處理器56‧‧‧輸出裝置58‧‧‧輸入裝置60‧‧‧記憶體62‧‧‧推桿控制模組64‧‧‧致動器66‧‧‧間隙決定模組68‧‧‧柱體70‧‧‧電力控制模組72‧‧‧內徑
第1圖是根據本發明一具體實施例之真空重熔（VAR）爐和一相關聯控制系統的元件的示意說明。
第2圖是根據本發明第1圖之在第1圖的VAR爐的電極和鑄錠之間的電弧放大圖，示出在該電弧間隙內的電弧。
第3圖是根據第1圖與第2圖、及本發明一具體實施例之使用第1圖所示VAR爐用於控制一VAR處理的系統的示意方塊圖。
第4圖是一例示流程圖，說明根據本發明一具體實施例之使用VAR爐控制一VAR處理的方法。
儘管下述詳細說明將參照特定的例示具體實施例而提出，但應理解這些圖式並不必須要為實際大小，而且所揭具體實施例有時是圖式性地且是以部分視圖加以說明。此外，在某些實例中，係已省略了非為理解所揭標的所需、或是使得其他細節太難已被察覺之細節。因此應理解到本發明並不限於本文所揭及所述之特定具體實施例，而是要公正地閱讀整體說明書與申請專利範圍、以及其任何等效例。
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國外寄存資訊 (請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無
10‧‧‧VAR爐
12‧‧‧電極
14‧‧‧熔化室
16‧‧‧坩鍋
20‧‧‧冷卻系統
22‧‧‧冷卻劑來源
24‧‧‧冷卻劑通道
26‧‧‧冷卻劑輸出部
28‧‧‧推桿
30‧‧‧真空室
32‧‧‧真空來源
34‧‧‧推桿驅動器
36‧‧‧熔化池
38‧‧‧鑄錠
40‧‧‧電源
42‧‧‧電弧
44‧‧‧電極尖端
46‧‧‧電弧間隙
48‧‧‧熔滴短路偵測器
52‧‧‧控制器
68‧‧‧柱體
72‧‧‧內徑

Claims (14)

  1. 一種用於金屬用真空電弧重熔(VAR)處理的控制系統，該VAR處理利用一VAR爐，該VAR爐包括一坩鍋，在該坩鍋中形成有由該金屬所形成之一鑄錠，與由一金屬所形成的一電極運作地相關聯之一推桿，一真空室，以及與該真空室相關聯之一真空來源，該系統包括：一直流(DC)電源，與該電極運作地相關聯且配置以於該電極的一電極尖端與該鑄錠的一熔化池之間形成一電弧；一推桿驅動器，與該推桿運作地相關聯且配置以驅動該推桿；一熔滴短路偵測器，配置以量測該電弧於一段時間中之一熔滴短路頻率；及一控制器，包括一處理器，該處理器與該DC電源、該推桿驅動器及該熔滴短路偵測器運作地相關聯，其中該控制器包括：一間隙決定模組，配置以基於該熔滴短路偵測器所接收的該熔滴短路頻率決定該電極尖端與該熔化池之間的一即時電弧間隙長度；及一電力控制模組，配置以指示該DC電源以在由該間隙決定模組所決定的該即時電弧間隙長度與一 需要電弧間隙長度不同時調整供應至該電極的一輸入電力級。
  2. 如請求項1所述之控制系統，其中該電力控制模組係配置以指示該DC電源以於該即時電弧間隙長度大於該需要電弧間隙長度時降低該電力級。
  3. 如請求項1所述之控制系統，其中該電力控制模組係配置以指示該DC電源以於該即時電弧間隙長度小於該需要電弧間隙長度時提高該電力級。
  4. 如請求項1所述之控制系統，其中該坩鍋內所形成的該鑄錠之一直徑大於或等於750毫米。
  5. 如請求項1所述之控制系統，其中該坩鍋內所形成的該鑄錠之一直徑是在1000至1100毫米之範圍內。
  6. 一種用於控制真空電弧重熔(VAR)處理的方法，該VAR處理係利用一VAR爐，該VAR爐包括一坩鍋，於該坩鍋中形成有由金屬所形成之一鑄錠，該VAR包括與由金屬形成之一電極運作地相關聯的一推桿、一真空室、及與該真空室相關聯之一真空來源，該方法包括以下步驟：利用與該電極運作地相關聯之一直流(DC)電源，於該電極的一電極尖端和該鑄錠的一熔化池之間產生一電弧； 利用與該推桿運作地相關聯之一推桿驅動器，以一推桿速度驅動該推桿，該推桿速度係配置以達到該電極之一需要熔化速率；利用一熔滴短路偵測器決定該電弧於一段時間中之一熔滴短路頻率；利用在該段時間中之該熔滴短路頻率，基於該熔滴短路頻率與電弧間隙長度之間的一相關性，決定該電極尖端與該熔化池之間的一即時電弧間隙長度；及當該即時電弧間隙長度偏離一需要電弧間隙長度時調整由該DC電源供應至該電極的一電力級。
  7. 如請求項6所述之方法，其中調整由該DC電源供應至該電極之該電力級之步驟包括以下步驟：當該即時電弧間隙長度大於該需要電弧間隙長度時降低該電力級。
  8. 如請求項6所述之方法，其中調整由該DC電源供應至該電極之該電力級之步驟包括以下步驟：當該即時電弧間隙長度小於該需要電弧間隙長度時增加該電力級。
  9. 一種用於執行金屬用真空電弧重熔(VAR)處理之VAR爐，該VAR爐包括：一坩鍋，在該坩鍋中形成有由該金屬所形成之一鑄錠； 一推桿，該推桿與由該金屬所形成之一電極運作地相關聯；一真空室；一真空來源，該真空來源與該真空室運作地相關聯；一直流(DC)電源，該DC電源與該電極運作地相關聯且係配置以於該電極的一電極尖端與該鑄錠的一熔化池之間產生一電弧；一推桿驅動器，該推桿驅動器與該推桿運作地相關聯且係配置以驅動該推桿；一熔滴短路偵測器，配置以量測該電弧於一段時間中之一熔滴短路頻率；及一控制器，包括一處理器，該控制器與該DC電源、該推桿驅動器及該熔滴短路偵測器運作地相關聯，該控制器進一步包括：一間隙決定模組，配置以基於該熔滴短路偵測器所接收的該熔滴短路頻率決定該電極尖端與該熔化池之間的一即時電弧間隙長度；一推桿控制模組，配置以決定達到電極之一需要熔化速率的該VAR處理的一推桿速度，且配置以指示該推桿驅動器以基於該推桿速度驅動該推桿；及一電力控制模組，配置以指示該DC電源以在由 該間隙決定模組所決定的該即時電弧間隙長度與一需要電弧間隙長度不同時調整供應至該電極的一輸入電力級。
  10. 如請求項9所述之VAR爐，進一步包括一冷卻系統，係配置以於該VAR處理期間冷卻在該坩鍋內的該鑄錠。
  11. 如請求項9所述之VAR爐，其中該坩鍋內所形成的該鑄錠之一直徑大於或等於750毫米。
  12. 如請求項9所述之VAR爐，其中該坩鍋內所形成的該鑄錠之一直徑是在1000至1100毫米的範圍內。
  13. 如請求項9所述之VAR爐，其中該電力控制模組係配置以指示該DC電源以在該即時電弧間隙長度大於該需要電弧間隙長度時，降低該電力級。
  14. 如請求項9所述之VAR爐，其中該電力控制模組係配置以指示該DC電源以在該即時電弧間隙長度小於該需要電弧間隙長度時，提高該電力級。
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