TWI712817B - 在計量工具中藉由影像分級之直接聚焦 - Google Patents

Abstract

提供用於計量工具與系統之聚焦方法與模組。方法包括：於一成像目標中，捕捉一ROI之至少兩個層的 (若干)影像，分級該所捕捉的(若干)影像，藉由比較該等層而自該所分級之捕捉的(若干)影像導出一焦點偏移，並自該所導出的焦點偏移計算一焦點位置。所揭示之方法係直接的，可平行於該重疊量測程序的一部分而執行，並提供改良計量效能之快且簡單的焦點量測。

Description

在計量工具中藉由影像分級之直接聚焦

本發明係關於計量之領域，且更特定言之係關於計量工具中之聚焦程序。

計量量測在有效光微影生產中係複雜的及必要的。光學焦點係精確量測之前提，且各種系統設計提供焦點量測。例如，美國專利案第4,931,603、4,672,188及6,781,103號揭示計量系統中之焦點量測之各種方法，該等案之全文以引用方式併入本文中。 傳統先前技術聚焦程序包含掃描焦點(在半導體計量工具之情況中~10 μm)之全部範圍；在各焦點位置處擷取並轉移全部或部分CCD(電荷耦合裝置)影像；並在全部或部分影像執行分析以發現影像對比度並計算一焦點估計。 其他先前技術聚焦程序依靠使用一相等路徑物鏡(Linnik顯微鏡)之干涉量測顯微鏡以藉由干涉量測而量測焦點，且又其他方法(諸如刀刃檢測)利用相干雷射、一旋轉穿孔碟及一雙胞偵測器以導出用於校準焦點之一焦點信號。

以下係提供對本發明之一初始理解之一簡化概述。概述不一定標示關鍵元件也不限制本發明之範疇，而僅作為下文描述之一引言。 本發明之一個態樣提供一種方法，該方法包括：於一成像目標中捕捉一ROI之至少兩個層之至少一個影像，分級該至少一個所捕捉之影像，藉由比較該至少兩個層而自該至少一個所分級之捕捉之影像來導出一焦點偏移，並自該所導出之焦點偏移而計算一焦點位置。 本發明之此等額外及/或其他態樣及/或優點闡述於以下詳細描述中；可自該詳細描述推論；及/或可藉由本發明之實踐學習。

[相關申請案之交叉參考] 本申請案主張於2016年9月28日申請之美國臨時專利申請案第62/400,966號之權利，該案之全文係以引用的方式全部併入本文中。 在下列描述中，描述本發明之各種態樣。出於解釋之目的，陳述特定組態及細節以便提供本發明之一全面理解。然而，熟習此項技術者應了解可無需本文中提出之特定細節而實踐本發明。此外，可已經省略或簡化已知特徵以便不使本發明不清楚。特定參考圖式，應強調，展示之細節係藉由實例之方式且僅出於本發明之闡釋性論述之目的，且為了提供確信為本發明之原理及概念性態樣之最有用且容易理解之描述而呈現。就此而言，並未試圖比本發明之一基礎理解所必需之描述更詳細地展示本發明之結構細節，圖式所採取描述使熟習此項技術者明白如何可在實踐中體現本發明之若干形式。 在詳細說明本發明之至少一項實施例之前，應瞭解，本發明並不使其應用受限於以下描述中所闡述或圖式中所繪示之組件之建構及配置之細節。本發明可適用於可以各種方式實踐或執行之其他實施例以及所揭示之實施例之組合。同樣地，應理解在本文中採用之用語及術語係出於描述之目的，且不應視為限制。 除非以其他方式明確陳述(如自以下之論述明白)，否則應理解，在整個說明書中利用術語(諸如，「處理」、「計算(computing)」、「計算(calculating)」、「判定」、「提高」、「導出」或類似術語)之論述來指代一電腦或電腦系統或類似電子計算裝置(其操縱及/或將表示為電腦系統之暫存器及/或記憶體內之物理(諸如電子)量的資料變換成類似地表示為電腦系統之記憶體、暫存器或其他此類資訊儲存、傳輸或顯示裝置內之物理量的其他資料)的動作及/或程序。 本發明之實施例提供用於在計量系統中聚焦之有效且經濟的方法及機構，並藉此提供對計量之技術領域的改良。提供用於計量工具及系統之聚焦方法及模組。方法包括：於一成像目標中捕捉一ROI之至少兩個層的 (若干)影像，分級該(等)所捕捉的(若干)影像，藉由比較該等層而自該所分級之捕捉的(若干)影像導出一焦點偏移，並自該所導出的焦點偏移計算一焦點位置。所揭示之方法係直接的，可平行於該重疊量測程序的一部分而執行，並提供改良計量效能之快且簡單的焦點量測。 所揭示之系統及方法經組態以發現用於量測基於成像之重疊(IBO)目標(諸如受限於進階成像計量(AIM)目標)以及用於其他目標類型的最佳焦點位置。藉由將對比度函數直接收縮至預定之所關注的區域(ROI)，聚焦程序被加速、簡化，且更快地實現遞送更精確重疊值。有利的是，所揭示之系統及方法較快於基於慢直接定位的系統，且較簡單於及較快於使用輔助技術(諸如干涉量測及相干雷射截波)的間接方法。圖 1 係根據本發明之一些實施例之一計量系統100 之一高階示意性方塊圖。系統100 包括一計量工具75 ，計量工具75 包括經組態以映像成像計量目標80 之一光學配置70 及經組態以捕捉其影像90 (參見用於全部目標影像90 之圖 4A 、圖 4B )之至少一個攝影機85 ， 且包括一聚焦模組150 之一處理單元130 。系統100 可經組態以在成像目標80 (一晶圓60 上)中分級110 至少兩個層91 、92 之一ROI95 之至少一個所捕捉的影像90 ，其係藉由計量工具75 之至少一個攝影機85 來捕捉。可藉由處理單元130 (可能經由聚焦模組150 )及/或藉由可能在各別攝影機硬體中的(若干)攝影機85 來執行分級110 。 藉由如將ROI影像95 變換成各別所分級之捕捉之影像120 之寬虛線箭頭而示意性地展示分級110 ，並在下文中詳細解釋。聚焦模組150 可經組態以藉由比較影像中之至少兩個層91 、92 而自至少一個所分級之捕捉之影像120 來導出一焦點偏移，並計算自所導出焦點偏移之一焦點位置，如下文所解釋。 (若干)處理單元130 可經進一步組態以控制系統控制器140 (諸如用於移動光學系統70 (例如，光學元件、鏡、其之一物鏡82 等)中之各種元件之馬達)、影像位置控制器等等。ROI95 可為一或多個部分之全部成像目標9 0 (例如參見圖 4A 、圖 4B )，且可為一小部分之全部影像90 (例如，可能為小於1/8之成像目標90 )。處理單元130 可經組態以同時對兩個正交方向來分級影像，及/或聚焦模組150 可經組態以同時對兩個正交方向來導出焦點偏移，如圖 1 中示意性地繪示。應注意，圖 1 提供具有專用於一量測方向(X及Y，未展示)之各攝影機之一兩個攝影機組態之一非限制性實施方案。應注意，一額外光學路徑83 可為部分之光學系統70 ，可能經組態以實現額外量測，可能進一步提高所揭示之焦點量測。 在某些實施例中，可使用一單一方向而執行聚焦(例如，在對準(對位)階段期間所捕捉)。在某些實施例中，使用具有一專用攝影機之一單一方向目標可產生一穩健系統。例如，藉由攝影機85 在一單一方向上之視圖之全部領域增加每個目標之像素之數目及在該方向上採集之資訊而捕捉，在像素之分級110 期間補償使用之所減少曝光時間。亦可相應地選擇ROI之尺寸以使焦點計算精確度最佳化。 在某些實施例中，系統100 可在捕捉、分級、導出及計算之一聚焦序列期間經進一步組態以執行至少一部分之一重疊計算。圖 2A 及圖 2B 提供根據本發明之一些實施例之焦點偏移導出及焦點位置計算之一高階示意性圖解說明。圖 2A 繪示用於層91 、92 (例如，前一及當前處理層)之對比度函數之一實例，該等層係在目標80 內之不同高度處，對應於示意性地指示層91 、92 之間之焦點差。應注意，層91 、92 中之各別結構之間之側向轉移藉由計量工具75 而量測為各別結構之間之重疊。對比度函數可(例如，藉由使用焦點差及焦點之抛物線特性而判定層91 、92 之間之垂直偏移)用於計算最佳焦點位置。如圖 2B 中之一非限制性實例所繪示，若對比度函數具有一更複雜曲線(不是抛物線，參見(例如)圖 3A )，則一變換操作器可藉由聚焦模組150 而使用來產生內及外對比曲線之外之一函數，其與焦點成線性關係。所需最佳焦點可根據初始及全部複對比度函數而設定。因此，藉由最小化線性化函數及所期望焦點值之預設值之間之一差，可判定所需要最佳焦點。圖 3A 及圖 3B 提供根據本發明之一些實施例之對比度函數之額外實例。所繪示對比度函數不遵循焦點之一抛物線特性，且可藉由聚焦模組150 而不同地處理以產生焦點估計(例如，藉由實現對比度函數去組分演算法及/或應用非線性方法)。圖 4A 及圖 4B 提供根據本發明之一些實施例之影像分級110 的實例。圖 4A 及圖 4B 各別地繪示成像目標、AIM(進階成像計量)目標90 ， 及圖框成像目標90 中之圖框的兩個實例，作為非限制性實例。為全部目標影像(如ROI)提供分級110 之圖解，作為一非限制性實例。分級110 可包括總計行或列中的像素，以達成減少之影像120 的影像尺寸，並增加影像捕捉比率(FPS-每秒框數)，因為FPS與分級中使用之線的數目緊密成比例。攝影機曝光強度可保持相同，而擷取時間則隨著用於分級之線的數目線性地減少。在某些實施例中，可在(若干)攝影機85 之攝影機硬體內執行分級110 以進一步減少處理時間。當所得影像120 相對於影像90 而失真(壓扁)時，其含有如上文所展示之所需要之每ROI的對比度計算的確切需要資訊。圖 4C 提供根據本發明之一些實施例而通過一分級程序110 來展示對比度資訊之保存之一實例。如圖中所見，使用八個線和及使用15個經量測片段兩者來提供其緊跟使用全部ROI核之焦點計算的結果。 應注意，可在任何基於影像的重疊計量中使用所揭示的方法及系統，且亦可用於散射測量計量，使用散射測量目標之ROI影像來計算焦點位置。圖 5 係根據本發明之一些實施例之一部分之系統100 之一高階示意性方塊圖，其示意性地繪示聚焦模組150 。在某些實施例中，處理單元130 及/或聚焦模組150 可係至少部分以硬體(例如，以用於快速計算之基於一FPGA(域可程式化閘陣列)之裝置)實施，該硬體具有用於即時操作之快速通訊(例如，乙太網路CAT)。在所繪示之非限制性實例中，聚焦模組150 可係以FPGA實施於具有用於即時操作之快速通訊。聚焦模組150 可經連接於(若干)攝影機85 與計量工具75 (例如，一電腦)之一主處理器135 之間，並支撐其中可為可操作的各種模式。 例如，在計量量測期間，聚焦模組150 可係以一「監視程式」模式操作，其中聚焦模組150 不干涉(若干)攝影機85 與主處理器135 之間的通訊，且對其等係透明的。以一「監視程式」模式，聚焦模組150 可經組態以自藉由用於其它目的之計量工具75 捕捉的影像來提取資料，並執行分析或診斷以改良未來焦點效能。 在一「快速聚焦」模式期間，聚焦模組150 可經組態以控制(若干)攝影機85 ， 並使用所捕捉之影像90 以用於如本文中所描述之焦點計算。在「快速聚焦」模式中，聚焦模組150 可經組態以強制介入(hijack)攝影機控制，以改變參數(例如，執行分級110 ，且可能修改系統控制器140 (例如，馬達、鏡等)之參數)，以(例如，經由一內部控制器157 ，經由一焦點得分次模組155 而操作)將實際焦點位置改變至經計算焦點位置。在某些實施例中，因此，聚焦模組150 可主要地或甚至僅係以硬體實施，用於實現快速效能。 在某些實施例中，所捕捉影像90 ( 在聚焦序列期間所捕捉(擷取))亦可用於計算每層91 、92 之對稱性之一中心，用於選擇用於當前及前一層91 、92 之相關片段(ROI)及/或用於計算重疊每片段(ROI)及平均化於片段之一範圍中，以及用於任何其他重疊相關計算。可進一步藉由外部參數(諸如最小TIS(工具引入偏移)或像差)而最佳化選擇焦點位置。 在某些實施例中，可藉由減少擷取(影像捕捉)時間(例如，藉由一非限制性實例中之八倍而(例如)藉由分級110 )而減少MAM(移動、獲取、量測)時間且導航至亦可(例如，藉由使用來自聚焦程序之資訊)改良之目標80 ，可能將MAM時間減少至低於200 ms。 在某些實施例中，可應用雜訊減少演算法(諸如覆蓋每個進階雜訊再教育演算法(ANRA))，其中全部影像上方之當前序列平均值用於減少雜訊並消除系統誤差(諸如階段漂移)。 有利的是，所揭示之聚焦模組及方法顯著縮短訓練序列；由於用於一新目標80 之訓練序列可僅包括目標位置並設定用於量測部分之光，歸因於直接焦點量測，先前技術不需要訓練焦點偏移。圖 6 係繪示根據本發明之一些實施例之一方法200 之一高階流程圖。可相對於上文所描述之系統100 而執行方法階段，其可視情況經組態以實施方法200 。方法200 可為藉由至少一個電腦處理器(例如，在一計量模組中)而至少部分實施。某些實施例包括電腦程式產品，該等電腦程式產品包括具有與其一起體現且經組態以執行方法200 之相關階段之電腦可讀程式之一電腦可讀儲存媒體。某些實施例包括經組態以執行方法200 之相關階段之一計量工具中之一聚焦模組。方法200 可包括以下階段，與其等順序無關。 方法200 可包括：於一成像目標中捕捉至少兩個層之一ROI之至少一個影像(階段210 )，分級該至少一個所捕捉之影像(階段220 )，藉由比較該至少兩個層而自該至少一個所分級之捕捉之影像來導出一焦點偏移(階段230 )，並自該所導出之焦點偏移而計算一焦點位置(階段240 )。 在某些實施例中，ROI可為至少一個部分之成像目標(例如，ROI可具有小於¼之成像目標之一區域)。 在某些實施例中，可同時在兩個正交方向上執行分級220 (階段225 )及/或同時在兩個正交方向上執行導出230 (階段235 )。 在某些實施例中，可在攝影機硬體中執行分級220 (階段227 )。 在某些實施例中，方法200 可進一步包括相對於外部參數而執行計算240 (階段245 )。 在某些實施例中，可平行於焦點計算而執行各種影像改良階段及/或各種重疊處理階段，可能促成焦點計算精確度及/或減少計量工具之總操作時間。例如，方法200 可進一步包括以下之任何步驟：精確地導航至成像目標及/或至各別ROI(階段202 )，視情況對所捕捉影像片段平均化(階段212 )，視情況減少影像或其他雜訊(階段214 ) (階段212 、214 可促成分級220 以及重疊計算)，導出目標中心(階段250 )及/或計算目標層之間之重疊(階段260 )。因此，方法200 可包括在捕捉210 、分級220 、導出230 及計算240 之聚焦序列期間執行至少一部分之重疊計算。 有利的是，所揭示系統100 及方法200 提供良好焦點會聚，而避免全部焦點範圍掃描以減少需要聚焦時間及減少MAM時間。此藉由歸零在一個焦點跳躍中之層相(圖 2B 中所繪示)之間之差。此外，直接聚焦提供焦點位置，先前技術不需要使用額外或訓練步驟來預定一焦點偏移。 有利的是，根據計量目標中之一特定ROI及不根據全部領域之視圖而在每個焦點部位執行計算焦點位置，且因此，所揭示系統100 及方法200 處，達成更短聚焦時間並可經組態以避免可引入不精確度之目標中之區域。此外，所揭示系統100 及方法200 啟用每個部位焦點調整，在進階光微影程序節點中需要該焦點調整，因為對焦點之重疊靈敏度足夠大以阻礙計量量測之精確度。 最終，所揭示系統100 及方法200 在構造上簡單於先前技術系統，不需要輔助技術(諸如雷射或干涉量測)之應用，且因此改良計量工具之光學平坦度及清潔度。亦藉由所揭示之直接焦點量測及追蹤而將軟體複雜度減少至量測要點。 根據本發明之實施例，上文參考方法、設備(系統)及電腦程式產品之流程圖繪示圖及/或方塊圖部分描述本發明之態樣。應瞭解可藉由電腦程式指令實施流程圖繪示圖及/或方塊圖部分之每一部分及流程圖繪示圖及/或方塊圖部分中之部分之組合。可將此等電腦程式指令提供至一通用電腦、專用電腦或其他可程式化資料處理設備之一處理器以產生一機器，使得經由電腦或其他可程式化資料處理設備之處理器執行之指令產生用於實施在流程圖及/或方塊圖部分或其等部分中規定之函數/動作之方法。 此等電腦程式指令亦可儲存在一電腦可讀媒體中，其可指導一電腦、其他可程式化資料處理設備或其他裝置以一特定方式起作用，使得儲存在電腦可讀媒體中之指令產生包含實施流程圖及/或方塊圖部分或其等部分中規定之函數/動作之指令之一製造品。 電腦程式指令亦可加負載至一電腦、其他可程式化資料處理設備或其他裝置上以致使一系列操作步驟在電腦、其他可程式化設備或其他裝置上執行以產生一電腦實施程序使得在電腦或其他可程式化設備上執行之指令提供用於實施在流程圖及/或方塊圖部分或其等部分中規定之函數/動作之程序。 上文提及流程圖及方塊圖繪示根據本發明之各種實施例之系統、方法及電腦程式產品之可能實施方案之架構、功能性及操作。就此而言，流程圖或方塊圖部分中之各部分可表示程式碼之一模組、區段或部分，各部分包括用於實施(若干)特定邏輯函數之一或多個可執行指令。亦應注意，在一些替代實施方案中，部分中所註明之函數可不按圖式所註明之順序發生。舉例而言，取決於所涉及之功能性，連續繪示之兩個部分實際上可實質上同時執行或部分有時可按相反順序執行。另外應注意，可藉由執行特定函數或動作或特定目的硬體及電腦指令之組合之特定目的基於硬體系統而實施方塊圖部分及/或流程圖繪示圖之各部分及在方塊圖部分及/或流程圖繪示圖中之部分之組合。 在上文描述中，一實施例係本發明之一實例或實施方案。「一項實施例」、「一實施例」、「某些實施例」或「一些實施例」之各種出現不一定皆指代相同實施例。儘管可在一單一實施例之內容背景中描述本發明之各種特徵，然該等特徵亦可單獨提供或以任何合適組合提供。相反，儘管為清楚起見在本文中可在各別的實施例之內容背景中描述本發明，然本發明亦可實施於一單一實施例中。本發明之某些實施例可包含來自上文所揭示之不同實施例之特徵且某些實施例可併有來自上文所揭示之其他實施例之元件。本發明之元件在一特定實施例之內容背景中的揭示內容並未被視為限制其等僅用於該特定實施例。此外，應瞭解本發明可以各種方式執行或實踐，且本發明可實施於除上文描述中概述之實施例以外的某些實施例中。 本發明不限於該等圖式或對應描述。例如，流程無須透過各自圖解說明之方塊或陳述或以與所繪示及所描述之完全相同之順序移動。除非另外定義，否則本文使用之技術術語及科學術語之意義應為本發明所屬之一般技術者所常理解的意義。雖然已關於有限數目個實施例描述本發明，但此等實施例不應解釋為限制本發明之範疇，而是應作為一些較佳實施例之例證。其他可能變動、修改及應用亦在本發明之範疇內。因此，本發明之範疇不應由迄今已描述之內容限制，而是由隨附申請專利範圍及其等合法等效物限制。

60‧‧‧晶圓70‧‧‧光學配置/光學系統75‧‧‧計量工具80‧‧‧成像計量目標82‧‧‧物鏡83‧‧‧額外光學路徑85‧‧‧攝影機90‧‧‧影像91‧‧‧層92‧‧‧層95‧‧‧ROI影像100‧‧‧計量系統110‧‧‧分級120‧‧‧所分級捕捉影像130‧‧‧處理單元135‧‧‧主處理器140‧‧‧系統控制器150‧‧‧聚焦模組155‧‧‧聚焦得分次模組157‧‧‧內部控制器200‧‧‧方法202‧‧‧階段210‧‧‧捕捉/階段212‧‧‧階段214‧‧‧階段220‧‧‧分級/階段225‧‧‧階段227‧‧‧階段230‧‧‧導出/階段235‧‧‧階段240‧‧‧計算245‧‧‧階段250‧‧‧階段260‧‧‧階段

為更佳理解本發明之實施例且展示可如何實施該等實施例，現將僅經由實例之方式參考附圖，其中相似數字始終指定對應元件或區段。 在附圖中：圖 1 係根據本發明之一些實施例之一計量系統之一高階示意性方塊圖。圖 2A 及圖 2B 提供根據本發明之一些實施例之焦點偏移導出及焦點位置計算之一高階示意性圖解說明。圖 3A 及圖 3B 提供根據本發明之一些實施例之對比度函數之額外實例。圖 4A 及圖 4B 提供根據本發明之一些實施例之影像分級之實例。圖 4C 提供根據本發明之一些實施例來通過一分級程序而展示對比度資訊之保存之一實例。圖 5 係根據本發明之一些實施例之一部分之系統之一高階示意性方塊圖，其示意性地繪示聚焦模組。圖 6 係根據本發明之一些實施例而繪示一方法之一高階流程圖。

60‧‧‧晶圓

70‧‧‧光學配置/光學系統

75‧‧‧計量工具

80‧‧‧成像計量目標

82‧‧‧物鏡

83‧‧‧額外光學路徑

85‧‧‧攝影機

91‧‧‧層

92‧‧‧層

95‧‧‧ROI影像

100‧‧‧計量系統

110‧‧‧分級

120‧‧‧所分級捕捉影像

130‧‧‧處理單元

140‧‧‧系統控制器

150‧‧‧聚焦模組

Claims (16)

1. 一種方法，其包括：於一成像目標中，捕捉一所關注的區域(ROI)之至少兩個層的至少一個影像，分級(binning)該至少一個所捕捉的影像，使用經收縮(constrain)至該ROI之一對比度函數以：藉由比較該至少兩個層而自該至少一個所分級之捕捉的影像導出一焦點偏移，及藉由判定該至少兩個層之間之一垂直偏移以計算一焦點位置，且：若該對比度函數之一特性為拋物線，則該判定使用該所導出的焦點偏移及該對比度函數，或若該對比度函數之該特性為非拋物線，則該判定使用該所導出的焦點偏移及一複(complex)函數，該複函數係使用一變換操作器而產生，且在該對比度函數之一內對比曲線及一外對比曲線之外。
2. 如請求項1之方法，其中該ROI係該成像目標的至少一個部分。
3. 如請求項1之方法，其中該ROI具有小於該成像目標之¼之一區域。
4. 如請求項1之方法，其中同時在兩個正交方向上執行該導出。
5. 如請求項1之方法，其中同時針對兩個正交方向執行該分級。
6. 如請求項1之方法，其中藉由至少一個攝影機來執行該捕捉，並在其之攝影機硬體內執行該分級。
7. 如請求項1之方法，進一步包括在該捕捉、該分級、該導出及該計算之一聚焦序列期間執行一重疊計算的至少一部分。
8. 如請求項1之方法，其中該分級、該導出及該計算之至少一者係藉由經組態以執行在一計量工具之一處理單元上之一聚焦模組而被執行。
9. 一種電腦程式產品，其包括具有與其一起體現之電腦可讀程式之一非暫時性電腦可讀儲存媒體，該電腦可讀程式經組態以執行請求項1之方法之該分級、該導出及該計算。
10. 一種系統，其包括：一計量工具，其包括經組態以映像成像計量目標之一光學配置，及經組態以捕捉其等影像之至少一個攝影機，其中該系統經組態以於一成像目標中分級一所關注的區域(ROI)之至少兩個層中之至少一個所捕捉的影像，其係藉由該計量工具之該至少一個攝影機來捕捉，及一處理單元，其包括經組態以使用經收縮至該ROI之一對比度函 數在該處理單元上執行以下步驟之一聚焦模組：藉由比較該至少兩個層而自該至少一個所分級之捕捉的影像導出一焦點偏移，及藉由判定該至少兩個層之間之一垂直偏移以計算一焦點位置，且：若該對比度函數之一特性為拋物線，則該判定使用該所導出的焦點偏移及該對比度函數，或若該對比度函數之該特性為非拋物線，則該判定使用該所導出的焦點偏移及一複函數，該複函數係使用一變換操作器而產生且在該對比度函數之一內對比曲線及一外對比曲線之外。
11. 如請求項10之系統，其中該ROI係該成像目標的至少一個部分。
12. 如請求項10之系統，其中該ROI具有小於該成像目標之¼之一區域。
13. 如請求項10之系統，其中該聚焦模組經組態以同時針對兩個正交方向執行該導出。
14. 如請求項10之系統，其中該處理單元經組態以同時針對兩個正交方向執行該分級。
15. 如請求項10之系統，其中該至少一個攝影機經組態以在各別攝影機硬體內執行該分級。
16. 如請求項10之系統，進一步經組態以在該捕捉、該分級、該導出及該計算之一聚焦序列期間執行一重疊計算的至少一部分。

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