TWI708175B - 觸控顯示裝置 - Google Patents

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TWI708175B
TWI708175B TW108137126A TW108137126A TWI708175B TW I708175 B TWI708175 B TW I708175B TW 108137126 A TW108137126 A TW 108137126A TW 108137126 A TW108137126 A TW 108137126A TW I708175 B TWI708175 B TW I708175B
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林真慧
呂紹和
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大陸商友達光電（昆山）有限公司
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    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
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Abstract

本發明提供一種觸控顯示裝置，包括一第一基板，包含相鄰的一顯示區與一周邊區；多個畫素單元，設置於所述第一基板，且位於所述顯示區；一第一導電結構，設置於所述第一基板，由多條第一金屬線組成且位於所述顯示區；一第二基板，與所述第一基板對向設置；一第一間隔物，設置於所述第二基板，且所述第一間隔物與所述第一金屬線接觸並形成一第一重疊區域；一第一輔助支撐塊，設置於所述第一基板，所述第一輔助支撐塊與所述第一金屬線對應設置，且所述第一間隔物也與所述第一輔助支撐塊接觸並形成一第二重疊區域。

Description

觸控顯示裝置
本發明是有關於一種顯示裝置，且特別是有關於一種在基板上形成有支撐結構的觸控顯示裝置。
隨著科技的發展，顯示裝置被廣泛應用在許多電子產品上，如手機、平板電腦、手錶等。為了提高顯示質量，大尺寸、高解析度、高亮度的顯示裝置應運而生。
一般而言，觸控顯示面板具有顯示區、位於顯示區之外的周邊區。顯示區內具有陣列配置的多個畫素結構，周邊區內往往形成有覆晶薄膜焊墊(COF Pad)、多工器(Mux)、測試焊墊(CT Pad)、測試電路、靜電放電保護電路(ESD)以及其他可能存在的驅動電路及相關走線。在現有技術中，通常通過金屬層，例如第三層金屬層M3實現觸控電極與驅動電路之間的電性連接。
圖4是現有觸控顯示裝置結構示意圖。如圖4所示，現有的觸控顯示裝置100中，相對的兩個基板101、102之間形成間隔物103用以隔離及支撐基板，通常會在顯示區中的平坦層105上形成接觸墊104(Bump)與間隔物103相對應並支撐間隔物103，同時，平坦層105上還需要同時形 成通孔以作為第三層金屬層106的線路通路。然而，隨著顯示裝置追求全屏顯示區的趨勢，使得邊框越來越窄的需求下，很難同時兼顧接觸墊的高度以及通孔的大小和間距，使得產品設計的靈活度受到很大的限制。
因此，如何既能很好的支撐間隔物，又能同時兼顧接觸墊的高度以及通孔的大小和間距，實為目前觸控顯示裝置在製作上亟待克服的課題之一。
為解決上述問題，本發明提供一種觸控顯示裝置，可以很好的向間隔物提供支撐，又能同時兼顧接觸墊的高度以及通孔的大小和間距，提高產品設計的靈活度。
本發明的觸控顯示裝置，包括一第一基板，包含相鄰的一顯示區與一周邊區；多個畫素單元，設置於所述第一基板，且位於所述顯示區；一第一導電結構，設置於所述第一基板，由多條第一金屬線組成且位於所述顯示區；一第二基板，與所述第一基板對向設置；一第一間隔物，設置於所述第二基板，且所述第一間隔物與所述第一金屬線接觸並形成一第一重疊區域；一第一輔助支撐塊，設置於所述第一基板，所述第一輔助支撐塊與所述第一金屬線對應設置，且所述第一間隔物也與所述第一輔助支撐塊接觸並形成一第二重疊區域。
以下結合附圖和具體實施例對本發明進行詳細描述，但不作為對本發明的限定。
100:觸控顯示裝置
101、102:基板
103:間隔物
104:接觸墊
105:平坦層
106:金屬層
200:觸控顯示裝置
201:第一基板
202:第二基板
203:間隔物
204:輔助支撐塊
205:平坦層
AA:顯示區
BA:周邊區
IC:驅動電路元件
TL:跡線
TL1:第一走線部
TL2:第二走線部
d:間距
圖1A是本發明一實施例觸控顯示裝置結構的示意圖。
圖1B是圖1A沿A-A’的剖面示意圖。
圖1C是圖1B的俯視示意圖。
圖2A是本發明另一實施例觸控顯示裝置結構的俯視示意圖。
圖2B是圖2A沿B-B’的剖面示意圖。
圖2C是圖2A沿C-C’的剖面示意圖。
圖2D是圖2A沿D-D’的剖面示意圖。
圖3是本發明輔助支撐塊的結構示意圖。
圖4是現有觸控顯示裝置結構示意圖。
下面結合附圖對本發明的結構原理和工作原理作具體的描述。
圖1A是本發明一實施例觸控顯示裝置結構的示意圖，圖1B是圖1A沿A-A’的剖面示意圖，圖1C是圖1B的俯視示意圖。如圖1A、圖1B以及圖1C所示，觸控顯示裝置200包括第一基板201，第一基板201例如為TFT基板，包括相鄰設置的顯示區AA以及周邊區BA，顯示區AA中形成有多個畫素單元(圖中未示出)；周邊區BA中形成有驅動畫素單元的驅動電路元件IC，顯示區AA內的畫素單元通過 多條跡線TL與周邊區BA中的驅動電路元件IC電性連接，實現顯示和/或觸控功能，通常跡線TL採用第三層金屬層(M3)，形成於第一基板201的平坦層205上。第二基板202例如為濾光片CF，與第一基板201相對設置，第二基板202下方形成有多個間隔物203，用於隔離並支撐第一基板201以及第二基板202。為簡化說明，圖1A中僅示例性畫出一條跡線TL，本領域技術人員可以清楚地知道，跡線TL應為多條。
具體的，結合圖1A、圖1B所示，在觸控顯示裝置200的顯示區AA中，與間隔物203位置相對應，間隔物203下方形成有跡線TL，通常間隔物203的尺寸較跡線TL的寬度大，僅僅通過跡線TL並不能很好的支撐間隔物203，容易導致間隔物203發生傾斜。
繼續結合圖1A、圖1C所示，本實施例中，在跡線TL的兩側形成輔助支撐塊204。其中，間隔物203與跡線TL之間相接觸並形成一第一重疊區域，如圖中斜線區域所示。同時，輔助支撐塊204也與間隔物203之間相接觸並形成一第二重疊區域，如圖中反斜線區域所示。其中，輔助支撐塊204採用與跡線TL材料相同的膜層及第三層金屬層(M3)所形成。值得注意的是，輔助支撐塊204由於採用第三層金屬層(M3)製成，其需要與跡線TL之間相距一定距離，以實現輔助支撐塊204與跡線TL之間的電性隔離。如此，通過在跡線TL兩側設置輔助支撐塊204，既能很好的支 撐間隔物203，又能同時兼顧跡線TL的高度以及通孔的大小和間距，進而使得觸控顯示裝置能够達到窄邊框。
另外，在本實施例中，輔助支撐塊204設置在跡線TL的兩側，當然，作為變形例，輔助支撐塊204也可以設置在跡線TL的一側，只要能够實現對間隔物203的支撐，本發明並不以此為限。
圖2A是本發明另一實施例觸控顯示裝置結構的俯視示意圖，圖2B是圖2A沿B-B’的剖面示意圖，圖2C是圖2A沿C-C’的剖面示意圖，圖2D是圖2A沿D-D’的剖面示意圖。結合圖2A、圖2B、圖2C、圖2D所示，觸控顯示裝置200的周邊區BA中形成有多條跡線TL，顯示區AA中的畫素單元通過多條跡線TL與驅動電路元件IC電性連接。每條跡線TL均包含兩部分，即第一走線部TL1、第二走線部TL2。具體的，第一走線部TL1電性連接至顯示區AA中的對應跡線TL，第二走線部TL2的一端與第一走線部TL1相連接，另一端則連接至驅動電路元件IC。
具體的，如圖2B所示，在本實施例中，相鄰兩條跡線TL的第一走線部TL1之間布線較為密集，例如相鄰兩條第一走線部TL1之間的間距小於或等於5.2um。此時，間隔物203下方同時會存在多條跡線TL的第一走線部TL1與其相對應，第一走線部TL1可以很好地支撐間隔物203，間隔物203不會發生傾斜。如此一來，於多條第一走線部TL1區域中，間隔物203分別對應多條跡線TL(即第一走線部TL1)，以圖2B為例，一個間隔物203對應於3條第一走線 部TL1，換言之，間隔物203於第一基板201上的投影面積分別與多條第一走線部TL1的投影面積有重疊區域。
具體的，再如圖2C所示，在本實施例中，周邊區BA中還有部分區域，其中並未有跡線TL通過，或者相鄰兩條跡線TL的間距很大，此時，就需要在間隔物203下方形成與其相對應的輔助支撐塊204，間隔物203與輔助支撐塊204相接觸並由輔助支撐塊204進行支撐，不會發生傾斜。於本實施例中，輔助支撐塊204可以呈矩形、圓形、橢圓形、弧形或其他不規則形狀，且輔助支撐塊204的外輪廓所包圍的面積應大於間隔物203頂表面的面積，才能更好地實現支撐。
再結合圖2D，在本實施例中，相鄰兩條跡線TL的第二走線部TL2之間布線較為寬鬆，例如第二走線部TL2的寬度為約3.55μm，相鄰兩條第二走線部TL2之間的間距d介於10μm與20μm之間。此時，與圖1C所示實施例相同，在跡線TL的第二走線部TL2兩側形成輔助支撐塊204，其中，輔助支撐塊204與第二走線部TL2之間的間距例如可為5.2μm；輔助支撐塊204、第二走線部TL2與間隔物203相接觸並形成第三重疊區域，如圖中斜線區域所示。輔助支撐塊204、第二走線部TL2共同支撐間隔物203，間隔物203不會發生傾斜。當然，上述僅示例性舉出第二走線部TL2的寬度、第二走線部TL2之間的間距以及輔助支撐塊204與第二走線部TL2之間的間距，但本發明不以此為限。
其中，在本實施例中，輔助支撐塊204均採用與跡線TL相同的材料層，輔助支撐塊204與跡線TL之間相互電性隔離。
圖3是本發明輔助支撐塊的結構示意圖。如圖3所示，輔助支撐塊204可以由多個子輔助支撐塊組成，每一子輔助支撐塊可以呈矩形、圓形、橢圓形、弧形或其他不規則形狀，而子輔助支撐塊共同組成的輔助支撐塊204的外輪廓可以呈現出矩形、橢圓形、圓形或不規則形狀，且子輔助支撐塊共同組成的輔助支撐塊204的外輪廓所包圍的面積應大於間隔物203頂表面的面積，才能更好地實現支撐。本發明僅以圖3所示的形狀為例，但並不以此為限。
當然，本發明還可有其它多種實施例，在不背離本發明精神及其實質的情況下，熟悉本領域的技術人員當可根據本發明作出各種相應的改變和變形，但這些相應的改變和變形都應屬於本發明所附的請求項的保護範圍。
200:觸控顯示裝置
201:第一基板
202:第二基板
203:間隔物
204:輔助支撐塊
205:平坦層
TL:跡線

Claims (13)

  1. 一種觸控顯示裝置，包括：一第一基板，包含相鄰的一顯示區與一周邊區；多個畫素單元，設置於所述第一基板，且位於所述顯示區；一第一導電結構，設置於所述第一基板，由多條第一金屬線組成且位於所述顯示區；一第二基板，與所述第一基板對向設置；一第一間隔物，設置於所述第二基板，且所述第一間隔物與所述第一金屬線接觸並形成一第一重疊區域；一第一輔助支撐塊，設置於所述第一基板，所述第一輔助支撐塊與所述第一金屬線對應設置，且所述第一間隔物也與所述第一輔助支撐塊接觸並形成一第二重疊區域。
  2. 根據請求項1所述的觸控顯示裝置，還包括：一第二導電結構，設置於所述第一基板，由多條第二金屬線組成且位於所述周邊區；一驅動電路元件，設置於所述第一基板，且位於所述周邊區；所述多條第二金屬線分別具有相連的一第一走線部及一第二走線部，且所述第二走線部的一端連接於所述第一走線部，而另一端則電性連接於所述驅動電路元件；一第二間隔物，設置於所述第二基板； 一第二輔助支撐塊，設置於所述第一基板，且位於所述周邊區；其中，所述第二輔助支撐塊位置對應於所述第二金屬線的所述第二走線部，且所述第二輔助支撐塊與對應的所述第二走線部分別接觸於所述第二間隔物，並形成一第三重疊區域。
  3. 根據請求項1所述的觸控顯示裝置，所述第一導電結構與所述第一輔助支撐塊採用同一材料層，所述第一導電結構與所述第一輔助支撐塊之間相互電性隔離。
  4. 根據請求項2所述的觸控顯示裝置，所述第二導電結構以及所述第二輔助支撐塊採用同一材料層，所述第二導電結構與所述第二輔助支撐塊之間相互電性隔離。
  5. 根據請求項2所述的觸控顯示裝置，所述第一輔助支撐塊和/或所述第二輔助支撐塊的外輪廓呈矩形、圓形、橢圓形或不規則形狀。
  6. 根據請求項5所述的觸控顯示裝置，所述第一輔助支撐塊由多個第一子輔助支撐塊組成，所述第二輔助支撐塊由多個第二子輔助支撐塊組成。
  7. 根據請求項6所述的觸控顯示裝置，每一所述第一子輔助支撐塊和/或第二子輔助支撐塊呈矩形、半圓形、弧形或不規則形狀。
  8. 根據請求項1所述的觸控顯示裝置，所述第一輔助支撐塊的外輪廓面積大於與其接觸的所述第一間隔物的表面的面積。
  9. 根據請求項2所述的觸控顯示裝置，所述第二輔助支撐塊的外輪廓面積大於與其接觸的所述第二間隔物的表面的面積。
  10. 根據請求項2所述的觸控顯示裝置，相鄰兩條的所述第二金屬線的所述第一走線部的線距小於或等於5.2um。
  11. 根據請求項2所述的觸控顯示裝置，更包含一第三間隔物，設置於所述第二基板，且位置對應於所述周邊區；其中，所述第三間隔物分別與相鄰的兩條所述第二金屬線的所述第一走線部接觸。
  12. 根據請求項2所述的觸控顯示裝置，相鄰兩條的所述第二金屬線的所述第二走線部的間距介於10μm與20μm之間。
  13. 根據請求項2所述的觸控顯示裝置，更包含：一第四間隔物，設置於所述第二基板，且位置對應於所述周邊區；以及一第三輔助支撐塊，設置於所述第一基板；其中所述多條第二金屬線具有一第一組第二金屬線與一第二組第二金屬線，且所述第三輔助支撐塊位於所述第一組第二金屬線與所述第二組第二金屬線之間；其中所述第四間隔物接觸於所述第三輔助支撐塊，且所述第四間隔物與所述第二金屬線彼此結構隔離。
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