TWI701483B

TWI701483B - 顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法

Info

Publication number: TWI701483B
Application number: TW108129606A
Authority: TW
Inventors: 張櫸馨; 曾俊欽
Original assignee: 神盾股份有限公司
Priority date: 2018-10-11
Filing date: 2019-08-20
Publication date: 2020-08-11
Also published as: TW202014772A; CN110490122A

Abstract

一種顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，適於電子裝置，包含具有指紋感測區域的顯示元件、控制器及指紋感測模組。此對齊方法包含：控制器啟動顯示元件以自指紋感測區域發出照射光束照向手指反射至指紋感測模組，其中照射光束的光源圖樣呈現離中心較近的一第一區域的光信號強度小於離中心較遠的一第二區域的光信號強度；指紋感測模組感測照射光束經手指反射後之反射光以得到原始資料，其中原始資料為指紋感測模組所感測到的反射光信號強度的總和；控制器調整光源圖樣位於顯示元件之位置；指紋感測模組感測調整後之反射光以得到調整後資料，其中調整後資料為在調整光源圖樣位置後指紋感測模組所感測到的反射光信號強度的總和；依據原始資料以及調整後資料調整光源圖樣的位置。

Description

顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法

本發明是有關於一種顯示元件與感測模組的對齊方法，且特別是有關於一種電子裝置中的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法。

隨著電子科技與製造技術的不斷演進與改良，資訊電子產品亦一直推陳出新。電腦、手機、攝相機等電子產品已經是現代人必備的工具。此外，現今的智慧型行動裝置中，亦需要整合指紋辨識裝置，以加強智慧型行動裝置的使用安全性並且支援更多智慧型功能。

在目前，使用者可將手指按壓於手機的顯示器或蓋板上以進行指紋辨識。然而，在感測的過程中，指紋感測模組周圍的感測畫素所感測到的反射光信號的亮度往往較低於中央處的感測畫素所感測到的反射光信號的亮度，以致於周圍的信號強度與中央處的信號強度具有落差，會影響指紋影像品質與指紋辨識的正確性。在目前的解決方法中，常以後端的軟體來修正信號強度不均勻的現象，不過修正後的指紋影像仍是有副作用，例如會將雜訊放大而造成細節損失等副作用。因此，如何設計出可感測到均勻的反射光信號強度的指紋感測模組，是本領域技術人員致力於研究的。

本發明提供一種顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，以解決所感測到的指紋影像品質不佳的問題。

本發明的一實施例提供一種顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，適於一電子裝置。電子裝置包含一顯示元件、一控制器以及一指紋感測模組。顯示元件具有一指紋感測區域，控制器電性連接於顯示元件以及指紋感測模組，而指紋感測模組是位於顯示元件的下方。對齊方法包含：控制器啟動顯示元件以自指紋感測區域發出一照射光束，照向位於指紋感測區域上方之一手指，其中照射光束具有一光源圖樣，且該光源圖樣的光信號強度分佈呈現離中心較近的一第一區域的光信號強度小於離中心較遠的一第二區域的光信號強度；指紋感測模組感測照射光束經手指反射後之反射光，以得到一原始資料，其中原始資料為指紋感測模組所感測到的反射光信號強度的總和；控制器調整照射光束的光源圖樣位於顯示元件之位置；指紋感測模組感測調整後之照射光束經手指反射後之反射光，以得到一調整後資料，其中調整後資料為在調整照射光束的光源圖樣之後，指紋感測模組所感測到的反射光信號強度的總和；以及依據原始資料以及調整後資料調整照射光束的光源圖樣的位置。

在本發明的一實施例中，上述依據原始資料以及調整後資料調整照射光束的光源圖樣的位置包含：比較原始資料以及調整後資料以判斷所感測的反射光信號強度值總和為降低或增加；若反射光信號強度值總和降低，則調整照射光束的光源圖樣沿第一方向上移動直至反射光信號強度值總和增加；以及若反射光信號強度值總和增加，則調整光源圖樣沿相反於第一方向的方向移動直至反射光信號強度總和增加。

在本發明的一實施例中，上述的依據原始資料以及調整後資料調整照射光束的光源圖樣的位置還包含：比較原始資料以及調整後資料以判斷反射光信號強度總和為降低或增加；若反射光信號強度值總和降低，則調整光源圖樣沿第二方向上移動直至反射光信號強度值總和增加；以及若反射光信號強度值總和增加，則調整光源圖樣沿相反於第二方向的方向移動直至反射光信號強度總和增加。

基於上述，在本發明的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法中，電子裝置會根據指紋感測模組所感測到的反射光信號強度總和，調整指紋感測區域所發出的光源圖樣在顯示元件中的位置，以將光源圖樣的中心（也就是指紋感測區域的中心）對齊於指紋感測模組的中心，進而提升指紋感測模組的感測效能。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

圖1為本發明一實施例的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法的步驟流程圖。圖2為本發明一實施例中使用電子裝置的示意圖。請同時參考圖1及圖2。本發明的一實施例提供一種顯示元件20的指紋感測區域22與指紋感測模組60的對齊方法，此方法至少可應用於圖2所繪示的電子裝置100，但本發明並不限於此。電子裝置100例如是智慧型手機或平板電腦等可攜式電子裝置。電子裝置100包含顯示元件20、導光模組40以及指紋感測模組60，其中顯示元件20具有一指紋感測區域22，用來發出一照射光束B照射至放置在指紋感測區域22上方的手指10，以進行指紋感測。

在本實施例中，顯示元件20例如是顯示面板、觸控顯示面板或上述與指壓板的組合。舉例而言，顯示元件20例如為有機發光顯示面板（Organic Light-Emitting Diode display panel，OLED display panel），但本發明並不限於此。替代地，顯示元件20可以是觸控顯示面板，如具有多個觸控電極的有機發光顯示面板。所述多個觸控電極可以形成在有機發光顯示面板的外表面上或是內嵌於有機發光顯示面板中，且多個觸控電極可以藉由自容或互容的方式進行觸控偵測。或者，顯示元件20可以是指壓板與顯示面板的組合或指壓板與觸控顯示面板的組合。

在本實施例中，導光模組40例如是光學透鏡組、具有準直器（collimators）結構，以及/或是包含有微透鏡（micro-lens）層及/或微孔（pin-holes）層。光學透鏡組可以包含具有屈光度的一或多個光學鏡片的組合，例如包含雙凹透鏡、雙凸透鏡、凹凸透鏡、凸凹透鏡、平凸透鏡以及平凹透鏡等非平面鏡片的各種組合，以應用於成像式指紋感測裝置。舉例而言，導光模組40由兩片透鏡所組成。但在其他實施例中，亦可以是三片透鏡或四片透鏡組成，本發明並不限於此。在一些實施例中，導光模組40亦可以包含準直器結構、光圈、及/或遮光元件等光學元件，以應用於非成像式指紋感測裝置。故本發明導光模組40的型態及其種類並不加以限制。

在本實施例中，指紋感測模組60例如為由多個光電二極體（photodiode）陣列排列而成的感測裝置，但本發明並不限於此。在進行感測時，使用者將手指10放置於或接近顯示元件20的指紋感測區域22的上方，而顯示元件20的指紋感測區域22所發出的照射光束B照射至手指10後反射，且依序通過顯示元件20以及導光模組40，並且傳遞至指紋感測模組60，指紋感測模組60會感測反射光，並據以產生指紋影像以進行指紋辨識。指紋感測模組60的感測面積A2可以小於或等於指紋感測區域22的顯示面積A1。

總括地說，指紋感測模組60是安裝在顯示元件20的下方，並且其位置對應於顯示元件20的指紋感測區域22。而指紋感測區域22所發出的光，經使用者手指10反射後，會傳遞到達指紋感測模組60。因此，當顯示元件20中指紋感測區域22所發出的光源亮度不均勻時，會形成一非均勻的光源圖樣。而上述光源圖樣的中心必須與指紋感測模組60的中心對齊，以增加指紋感測效能。指紋感測模組60的所有感測畫素所感測到的光亮度總和越小，則感測效能越佳。

在本實施例中，電子裝置100還包含一控制器80電性連接於指紋感測模組60及顯示元件20，用以處理或計算指紋感測模組60所接收到的反射光信號，並據以控制光源圖樣的顯示位置，也就是指紋感測區域22在顯示元件20中的位置。控制器80例如為中央處理單元（central processing unit, CPU)、微處理器（microprocessor）、數位訊號處理器（digital signal processor, DSP）、可程式化控制器、可程式化邏輯裝置（programmable logic device, PLD）或其他類似裝置或這些裝置的組合，本發明並不加以限制。此外，在一實施例中，控制器80的各功能可被實作為多個程式碼。這些程式碼會被儲存在一個記憶體中，由控制器80來執行這些程式碼。或者，在一實施例中，控制器80的各功能可被實作為一或多個電路。本發明並不限制用軟體或硬體的方式來實作控制器80的各功能。

圖3為本發明一實施例中顯示元件的指紋感測區域所發出的照射光束的光信號強度分佈圖。圖4A至圖4I為本發明一實施例中將光源圖樣對齊指紋感測模組的示意圖。請先參考圖1、圖2、圖3及圖4A。首先，執行步驟S100，控制器80啟動顯示元件20以自指紋感測區域22發出一照射光束B，照向位於指紋感測區域22上方之一手指10，其中照射光束B具有一光源圖樣L，且光源圖樣L的光信號強度分佈離中心較近的一第一區域的光信號強度小於離中心較遠的一第二區域的光信號強度，例如，呈現離中心C越近則光信號強度越低的分佈。詳細而言，在本實施例中，顯示元件20包含有多個顯示畫素排列成陣列，藉由控制施加至顯示元件20的指紋感測區域22的每一個顯示像素的電壓值或電流值，可以控制每個顯示像素的發光亮度。因此，當這些顯示畫素的電壓值或電流值有所不同時，則可形成在不同位置具有不同發光亮度的光源圖樣L，例如，光源圖樣L呈現離中心較近的一第一區域的光信號強度小於離中心較遠的一第二區域的光信號強度。如圖4A所繪示，光源圖樣L劃分為四個區域，而離中心較近的區域的光信號強度會低於離中心較遠的區域的光信號強度。也就是說，光源圖樣L呈現離中心處C越近則光信號強度越低的非均勻光源圖樣L，其中光源圖樣L中不同位置的光信號強度差異在圖4A至圖4L中是以灰階樣式呈現疏密效果，若點狀樣式越密集則表示光信號強度越低。

在另一實施例中，光信號強度分佈係根據三維空間的高斯函數分佈呈漸層光信號強度分佈，如圖3所繪示高斯函數分佈曲面200，其中曲面200在垂直方向（Z軸）上的數值是表示在光源圖樣L中相對應的座標位置（X與Y軸）的光信號強度。

接著，執行步驟S101，指紋感測模組60感測照射光束B經手指10反射後之反射光，以得到一原始資料。具體而言，指紋感測模組60會感測照射光束B經手指反射後的反射光信號強度，而原始資料即為指紋感測模組60所感測到的反射光信號強度的總和。在本實施例中，指紋感測模組60的面積小於顯示元件20的指紋感測區域22的面積。但本發明並不限於此，例如，在其他實施例中，指紋感測模組60的面積可以等於顯示元件20的指紋感測區域22的面積。具體而言，指紋感測模組60例如對應於顯示元件20的指紋感測區域22中的六乘六矩陣排列的顯示畫素所涵蓋的範圍，如圖4A所繪示。需說明的是，由於照射光束B的光源圖樣L呈現離中心較近的一第一區域的光信號強度小於離中心較遠的一第二區域的光信號強度，或是呈現離中心C越近則光信號強度越低的非均勻光源圖樣L，因此當指紋感測模組60所感測到的反射光信號強度總和達到最小時，則表示照射光束B的光源圖樣L的中心C已經對齊於指紋感測模組60的中心，因此指紋感測模組60可以具有最佳的感測效能。在圖4A中，照射光束B的光源圖樣L的中心C並未對齊於指紋感測模組60的中心，因此尚需調整光源圖樣L的位置以達到最佳的感測效能。

請同時參考圖1、圖2及圖4B。接著，執行步驟S102，控制器80調整照射光束B的光源圖樣L位於顯示元件20之位置。詳細而言，在步驟S102中，將光源圖樣L沿一第一方向D1上移動，如圖4B所繪示由左至右的方向，但本發明並不限於此。在一些實施例中，第一方向D1亦可以是由右至左的方向或其他方向。具體而言，在此步驟中，利用調整顯示元件20的指紋感測區域22的發光以調整照射光束B的光源圖樣L的位置。也就是說，使顯示元件20的指紋感測區域22的多個顯示畫素的光信號強度產生改變以使光源圖樣L在顯示元件20上產生位移。舉例而言，藉由控制顯示元件20的指紋感測區域22中的顯示畫素的光信號強度，可將光源圖樣L向右位移一個顯示畫素，如圖4B所繪示。

接著，執行步驟S103，指紋感測模組60感測調整後之照射光束B經手指10反射後之光強度，以得到一調整後資料，其中調整後資料為在調整照射光束B的光源圖樣L位置之後，指紋感測模組60所感測到的反射光信號強度的總和。舉例而言，在圖4B中，指紋感測模組60所感測到的反射光信號強度的總和即為調整後資料。

請同時參考圖1、圖2及圖4C至圖4F。接著，執行步驟S104，依據原始資料以及調整後資料調整照射光束B的光源圖樣L的位置。詳細而言，在步驟S104中，可比較原始資料以及調整後資料並判斷指紋感測模組60的所有感測畫素所感測到的反射光信號強度的總和為減少或增加。若反射光信號強度值總和降低，則調整光源圖樣L繼續沿第一方向D1上移動直至反射光信號強度值的總和增加為止。此外，若反射光信號強度值總和增加，則調整照射光束B的光源圖樣L沿相反於第一方向D1的方向移動直至反射光信號強度值的總和增加為止。

舉例而言，在本實施例中，光源圖樣L的位置由圖4A位移至圖4B時，指紋感測模組60所感測到反射光信號強度總和較移動光源圖樣L前減少。故此，本實施例會將光源圖樣L繼續沿第一方向D1向右平移一個顯示畫素的距離，如圖4C所繪示。

光源圖樣L的位置由圖4B位移至圖4C後，指紋感測模組60所感測到的反射光信號強度總和會較移動光源圖樣L前減少。本實施例會繼續調整光源圖樣L的位置，以繼續沿第一方向D1向右平移一個顯示畫素的距離，如圖4D所繪示。

光源圖樣L的位置由圖4C位移至圖4D後，指紋感測模組60所感測到的反射光信號強度總和會較移動光源圖樣L前減少。本實施例會繼續調整光源圖樣L的位置，以繼續沿第一方向D1向右平移一個顯示畫素的距離，如圖4E所繪示。

光源圖樣L的位置由圖4D位移至圖4E後，指紋感測模組60所感測到的反射光信號強度總和會較光源圖樣L移動前增加。本實施例會調整光源圖樣L的位置，以沿反向於第一方向D1向左平移一個顯示畫素的距離，如圖4F所繪示。也就是說，光源圖樣L會回到與圖4D相同的位置。

因此，藉由上述的步驟，本實施例可完成光源圖樣L在第一方向D1所在的維度上的位置調整。如圖4F所示，光源圖樣L的中心C與指紋感測模組60的中心在第一方向D1上的座標位置是相同的。

請同時參考圖1、圖2、圖4F以及圖4G。接著，本實施例會進行光源圖樣L在垂直於第一方向D1的第二方向D2上的位置調整。詳細而言，本實施例會調整光源圖樣L的位置，使其沿第二方向D2或其反方向上移動。其中，第二方向D2垂直於第一方向D1，即如圖4F所示的由下至上的方向，但本發明並不限於此。在本實施例中，光源圖樣L會在沿第二方向D2的反方向向下平移一個顯示畫素的距離，如圖4G所繪示。

請同時參考圖1、圖2以及圖4F至圖4L。當光源圖樣L由圖4F的位置移到圖4G的位置時，指紋感測模組60所感測到反射光信號強度總和會增加，即高於光源圖樣L移動前反射光信號強度的總和，這表示光源圖樣L的中心C遠離了指紋感測模組60的中心位置。因此，本實施例會將光源圖樣L沿第二方向D2向上平移一個顯示畫素的距離，如圖4H所繪示，以回到與圖4F相同的位置。

接著，當光源圖樣L由圖4G的位置移到圖4H的位置時，指紋感測模組60所感測到的反射光信號強度總和會較移動光源圖樣L前減少。因此，本實施例會調整光源圖樣L沿第二方向D2向上平移一個顯示畫素的距離，如圖4I所繪示。

接著，當光源圖樣L由圖4H的位置移到圖4I的位置時，指紋感測模組60所感測到的反射光信號強度總合會較移動光源圖樣L前減少。故此，本實施例會調整光源圖樣L繼續沿第二方向D2上向上平移一個顯示畫素的距離，如圖4J所繪示。

接著，當光源圖樣L由圖4I的位置移到圖4J的位置時，指紋感測模組60所感測到的反射光信號強度總合會較移動光源圖樣L前減少。故此，在接續步驟中，調整光源圖樣L繼續沿第二方向D2上向上平移一個顯示畫素的距離，如圖4K所繪示。

接著，當光源圖樣L的位置由圖4J位移至圖4K時，指紋感測模組60所感測到的反射光信號強度總合會增加，即高於光源圖樣L移動前的反射光信號強度的總和，這表示光源圖樣L的中心處C遠離了指紋感測模組60的中心位置。故此，本實施例會將光源圖樣L沿第二方向D2的反方向向下平移一個顯示畫素的距離，如圖4L所繪示，以回到與圖4J相同的位置。因此，藉由上述的步驟，可完成光源圖樣L在第二方向D2所在維度上的位置調整。如圖4L所繪示，光源圖樣L的中心C係對齊於指紋感測模組60的中心位置。

圖5為本發明另一實施例的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法的步驟流程圖。請同時參考圖2及圖5。本實施例的對齊方法，至少可應用於圖2所繪示的電子裝置100，但本發明並不限於此。首先，執行步驟S200，啟動顯示元件20的指紋感測區域22以發出照射光束B，其中照射光束B具有一光源圖樣。接著，執行步驟S201，指紋感測模組60感測照射光束B經手指反射後的反射光信號強度總和。接著，執行步驟S202，調整光源圖樣沿第一方向或第二方向移動。在本實施例中，第一方向為水平方向，而第二方向為垂直方向，兩方向相互垂直。為了方便說明，以下以沿第一方向移動為例。接著，執行步驟S203，指紋感測模組60感測光源圖樣經手指反射後的反射光信號強度總和。

接著，執行步驟S204，根據感測結果，判斷反射光信號強度總和是否降低。若反射光信號強度總和降低，則執行步驟S205，繼續調整光源圖樣沿第一方向或第二方向移動，並且重覆執行步驟S203以及步驟S204，直至反射光信號強度總和增加為止。呈上述，若反射光信號強度的總和提升，則完成步驟S204。接著，執行步驟S206，調整光源圖樣沿第一方向的反向移動。接著，執行步驟S207，指紋感測模組60感測光源圖樣（照射光束B）經手指反射後的反射光信號強度總和。

接著，執行步驟S208，根據感測結果，判斷反射光信號強度總和是否降低。若反射光信號強度的總和提升，則回到步驟S203。若反射光信號強度總和降低，則執行步驟S209，結束第一方向或第二方向（在本實施例即第一方向）的位置調整，並判斷另一方向（在本實施例即第二方向）是否已調整。若另一方向（在本實施例即第二方向）尚未進行調整，則以類似的方式執行步驟S202至步驟S208以調整光源圖樣在第二方向上的位置。調整光源圖樣沿第二方向上移動的詳細步驟及方式可參考調整光源圖樣沿第一方向上移動的詳細步驟及方式，故不再贅述。呈上述，若另一方向（即第二方向）已調整，則完成步驟S209。最後，執行步驟S210，完成調整，也就是說，光源圖樣的中心已經對齊於指紋感測模組的中心。

綜上所述，在本發明的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法中，電子裝置會根據指紋感測模組所感測到的反射光信號強度總和，調整指紋感測區域所發出的光源圖樣在顯示元件中的位置，以將光源圖樣的中心（也就是指紋感測區域的中心）對齊於指紋感測模組的中心，進而提升指紋感測模組的感測效能。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

10:手指 20:顯示元件 22:指紋感測區域 40:導光模組 60:指紋感測模組 80:控制器 100:電子裝置 200:曲面 A1:顯示面積 A2:感測面積 B:照射光束 C:中心 D1:第一方向 D2:第二方向 L:光源圖樣 S100~S104、S200~S210:步驟

圖1為本發明一實施例的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法的步驟流程圖。圖2為本發明一實施例中使用電子裝置的示意圖。圖3為本發明一實施例中顯示元件的指紋感測區域所發出的照射光束的光信號強度分佈圖。圖4A至圖4L為本發明一實施例中將光源圖樣對齊指紋感測模組的示意圖。圖5為本發明另一實施例的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法的步驟流程圖。

S100~S104:步驟

Claims

一種顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，適於一電子裝置，該電子裝置包含一顯示元件、一控制器以及一指紋感測模組，該顯示元件具有一指紋感測區域，該控制器電性連接於該顯示元件以及該指紋感測模組，而該指紋感測模組是位於該顯示元件的下方，該對齊方法包含：該控制器啟動該顯示元件以自該指紋感測區域發出一照射光束，照向位於該指紋感測區域上方之一手指，其中該照射光束具有一光源圖樣，且該光源圖樣的光信號強度分佈呈現離中心較近的一第一區域的光信號強度小於離中心較遠的一第二區域的光信號強度；該指紋感測模組感測該照射光束經該手指反射後之反射光，以得到一原始資料，其中該原始資料為該指紋感測模組所感測到的反射光信號強度的總和；該控制器調整該照射光束的該光源圖樣位於該顯示元件之位置；該指紋感測模組感測調整後之該照射光束經該手指反射後之反射光，以得到一調整後資料，其中該調整後資料為在調整該照射光束的該光源圖樣的位置之後，該指紋感測模組所感測到的反射光信號強度的總和；以及依據該原始資料以及該調整後資料調整該照射光束的該光源圖樣的位置。
如申請專利範圍第1項所述的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，其中該控制器調整該照射光束的該光源圖樣位於該顯示元件之位置包含：調整該光源圖樣沿一第一方向上移動。
如申請專利範圍第2項所述的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，其中依據該原始資料以及該調整後資料調整該照射光束的該光源圖樣的位置包含：比較該原始資料以及該調整後資料以判斷反射光信號強度總和為降低或增加；若反射光信號強度值總和降低，則調整該光源圖樣沿該第一方向上移動直至反射光信號強度總和增加；以及若反射光信號強度值總和增加，則調整該光源圖樣沿相反於該第一方向的方向移動直至反射光信號強度總和增加。
如申請專利範圍第3項所述的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，其中依據該原始資料以及該調整後資料調整該照射光束的該光源圖樣的位置還包含：若反射光信號強度值總和在移動後由降低改為增加時，調整該光源圖樣移動回到前次位置。
如申請專利範圍第2項所述的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，其中該控制器調整該照射光束的該光源圖樣位於該顯示元件之位置還包含：調整該光源圖樣沿一第二方向上移動，其中該第二方向垂直於該第一方向。
如申請專利範圍第5項所述的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，其中依據該原始資料以及該調整後資料調整該照射光束的該光源圖樣的位置還包含：比較該原始資料以及該調整後資料以判斷反射光信號強度總和為降低或增加；若反射光信號強度值總和降低，則調整該光源圖樣沿該第二方向上移動直至反射光信號強度值總和增加；以及若反射光信號強度值總和增加，則調整該光源圖樣沿相反於該第二方向的方向移動直至反射光信號強度總和增加。
如申請專利範圍第6項所述的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，其中依據該原始資料以及該調整後資料調整該照射光束的該光源圖樣的位置還包含：若反射光信號強度值總和在移動後由降低改為增加時，調整該光源圖樣移動回到前次位置。
如申請專利範圍第1項所述的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，其中該顯示元件為一顯示面板，包含多個顯示畫素排列成一陣列。
如申請專利範圍第8項所述的顯示元件的指紋感測區域與指紋感測模組的對齊方法，其中該控制器調整該照射光束的光源圖樣位於該顯示元件之位置包含：該控制器調整該顯示面板的該指紋感測區域中的多個顯示畫素的發光亮度，使得該光源圖樣以單一個顯示畫素為單位進行位移。