TWI698691B

TWI698691B - 顯示裝置及調整顯示裝置之光學結構的方法

Info

Publication number: TWI698691B
Application number: TW107135273A
Authority: TW
Inventors: 郭冠甫
Original assignee: 凌巨科技股份有限公司
Priority date: 2018-10-05
Filing date: 2018-10-05
Publication date: 2020-07-11
Also published as: TW202014782A

Abstract

顯示裝置包括一顯示面板、一遮光層、一光學調整層以及一蓋板。遮光層配置於顯示面板以形成至少一顯示區。光學調整層配置並覆蓋遮光層及至少一顯示區。遮光層位於光學調整層與顯示面板之間。蓋板配置於光學調整層。光學調整層位於蓋板與遮光層之間，其中一光源由蓋板朝光學調整層及遮光層照射以分別產生一第一反射光及一第二反射光，且第一反射光及第二反射光在CIELAB色彩空間下的色差值小於等於4。

Description

顯示裝置及調整顯示裝置之光學結構的方法

本發明是有關於一種電子裝置及調整電子裝置之結構的方法，且特別是有關於一種顯示裝置及調整顯示裝置之光學結構的方法。

近年來，各式消費性電子產品已由功能性為主轉變成以設計、新奇與時尚為主的藝術性發展。為此，業界研發出各種樣式的顯示器，藉由調整顯示器外觀上的需求。在一般未使用的情況下，顯示器會有顯示區與非顯示區之間的邊界容易被觀察出問題。

但在目前的技術中，較為常見的有使用具反射光調整層的透明導電疊層體或改變觸控電極層為同側的配置方式來改善顯示器中顯示區與非顯示區的顯示差異。然而，這些方式實際上皆未降低整體觸控顯示器的邊框油墨層與顯示區層的光學色差。同時，亦有成本居高不下的問題。因此，如何設計出不提高過多成本且有效改變顯示區與非顯示區之光學色差的結構配置，是本領域技術人員致力於研究的。

本發明提供一種顯示裝置及調整顯示裝置之光學結構的方法，可有效減少顯示區與遮光層所顯示的色差，使得顯示裝置的顯示側具有一致的外觀效果。

本發明的顯示裝置包括一顯示面板、一遮光層、一光學調整層以及一蓋板。遮光層配置於顯示面板以形成至少一顯示區。光學調整層配置並覆蓋遮光層及至少一顯示區。蓋板配置於光學調整層。光學調整層位於蓋板與遮光層之間，其中一光源由蓋板朝光學調整層及遮光層照射以分別產生一第一反射光及一第二反射光，且第一反射光及第二反射光在CIELAB色彩空間下的色差值小於等於4。

在本發明的一實施例中，上述的第一反射光及第二反射光在波長為550奈米的反射率差值介於2%至3%之間。

在本發明的一實施例中，上述的光學調整層包括多個調整子層，且各調整子層的折射率不同。

在本發明的一實施例中，上述的調整子層包括一第一調整子層及一第二調整子層，且第二調整子層位於遮光層與第一調整子層之間。第一調整子層的折射率大於第二調整子層的折射率。

在本發明的一實施例中，上述的第一調整子層的折射率介於1.8至2.4之間。

在本發明的一實施例中，上述的第二調整子層的折射率介於1.3至1.5之間。

在本發明的一實施例中，上述的第一調整子層的厚度小於第二調整子層的厚度。

在本發明的一實施例中，上述的第一調整子層的厚度介於5奈米至20奈米之間。

在本發明的一實施例中，上述的第二調整子層的厚度介於50奈米至150奈米之間。

在本發明的一實施例中，上述的光學調整層以蒸鍍、濺鍍或塗佈方式形成在蓋板上。

在本發明的一實施例中，上述的顯示裝置還包括一光學功能層，配置於蓋板上。蓋板位於光學調整層與光學功能層之間，光學功能層具有抗反射、抗眩光或抗指紋等功能性效果。

本發明的調整顯示裝置之光學結構的方法包括下列步驟：提供一顯示裝置光學資料以顯示一顯示裝置的光學結構資訊，其中顯示裝置包括一顯示面板、一遮光層及一光學調整層，遮光層配置於顯示面板以形成至少一顯示區，且光學調整層配置並覆蓋遮光層及至少一顯示區；依據顯示裝置光學資料計算出一光源朝光學調整層及遮光層照射以分別產生一第一反射光的一第一波長光譜及一第二反射光的一第二波長光譜；依據第一波長光譜及第二波長光譜計算出第一反射光及第二反射光的一色差值；以及依據色差值調整顯示裝置的光學結構。

在本發明的一實施例中，上述的調整顯示裝置之結構的方法還包括：依據色差值產生一光學數值模擬結果。

在本發明的一實施例中，上述的依據色差值調整顯示裝置的光學結構的步驟包括：依據光學數值模擬結果修改顯示裝置光學資料。

在本發明的一實施例中，上述的依據色差值調整顯示裝置的光學結構的步驟還包括：依據調整後的顯示裝置光學資料計算出一模擬色差值；以及比較模擬色差值與顯示裝置的色差值以產生一誤差色差值，其中誤差色差值小於等於0.3。

基於上述，本發明的顯示裝置具有光學調整層，可有效改變顯示裝置中光線對顯示區與遮光層的反射率，進而改善色差，使顯示裝置的顯示側具有一致的外觀效果。此外，本發明的調整顯示裝置之光學結構的方法，可進一步藉由所測得的反射光譜而調整顯示裝置中的光學結構，以降低反射光線的色差值以獲得更佳的外觀顯示效果。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

圖1為本發明一實施例的顯示裝置的剖面示意圖。請參考圖1。本實施例提供一種顯示裝置100，可有效減少顯示區與遮光層所顯示的色差，使得顯示裝置100的顯示側具有一致的外觀效果。在本實施例中，顯示裝置100包括一顯示面板110、一遮光層120、一光學調整層130以及一蓋板140。遮光層120配置於顯示面板110。光學調整層130配置並覆蓋遮光層120。蓋板140配置於光學調整層130，且光學調整層130位於蓋板140與遮光層120之間。

具體而言，顯示裝置100由下至上依序由顯示面板110、一屏蔽層160、一觸控電極層180、遮光層120、光學調整層130、蓋板140所堆疊而成。顯示裝置100例如是液晶顯示器、有機發光二極體顯示器或其他種類顯示器，但本發明並不限於此。在其他實施例中，顯示裝置100可為其他種類的顯示器，且結構可隨不同種類的顯示器而有所調整，本發明亦不限於此。

詳細而言，顯示面板110例如是液晶面板、有機發光二極體面板或其他種類顯示面板，但本發明並不限於此。屏蔽層160配置於顯示面板110的上方以避免顯示面板110的電壓等電子訊號干擾位於屏蔽層160上方的觸控電極層180。

觸控電極層180配置於屏蔽層160的上方。在本實施例中，觸控電極層180包括一基板182以及配置於基板182相對兩側的一上電極陣列184及一下電極陣列186。而在本實施例中，顯示裝置100還包括一第一光學層170_1以及一第二光學層170_2，用以加強顯示裝置100的結構強度以及使顯示面板110所發出的光有更好的輸出效果。第一光學層170_1及第二光學層170_2例如是光學透明黏接劑（Optical Clear Adhesive，OCA）。第二光學層170_2配置於屏蔽層160與下電極陣列186之間，用以固定並連接屏蔽層160與觸控電極層180。而第一光學層170_1配置於遮光層120與上電極陣列184之間，用以固定並連接遮光層120與觸控電極層180。

遮光層120配置於觸控電極層180，且與觸控電極層180形成至少一顯示區D。舉例而言，遮光層120例如是框型油墨層，用以形成顯示面板110的邊框。在本實施例中，遮光層120分佈於顯示面板110的邊緣，且至少一顯示區D為單一顯示區。但在一些實施例中，至少一顯示區D可為多個顯示區，且這些顯示區D之間分佈有遮光層120。換句話說，遮光層120可以是不同型式的網格狀邊框，以應用在多畫面顯示器上，本發明並不限於此。此外，在其他不具有觸控電極層180的實施例中，遮光層120亦可選擇性地直接配置於顯示面板110以形成顯示區D，本發明亦不限於此。

光學調整層130配置並覆蓋遮光層120及至少一顯示區D，且遮光層120位於光學調整層130與顯示面板110之間。而蓋板140配置於光學調整層130，且光學調整層130位於蓋板140與遮光層120之間。在本實施例中，光學調整層130是以蒸鍍、濺鍍或塗佈方式形成在蓋板140上，但本發明並不限於此。因此，當顯示面板110未啟動時，使用者可從顯示裝置100的外部觀察來自遮光層120及顯示區D的反射光線。具體而言，光源由蓋板140朝光學調整層130及遮光層120照射光線L以分別產生一第一反射光L1及一第二反射光L2。光源例如是環境光或者是外部的其他發光體，本發明並不限於此。

圖2為習知技術的顯示裝置之不同波長對應反射率的曲線圖。請參考圖2。在圖2中，曲線C1表示為習知技術之顯示裝置中由顯示區所反射出第一反射光，而曲線C2表示為習知技術之顯示裝置中由非顯示區所反射出第二反射光。詳細而言，在傳統技術中，當環境光或者是外部的其他發光體朝顯示裝置照射時，將分別由顯示區以及非顯示區反射出第一反射光以及第二反射光，其中非顯示區即是指螢幕的邊框或其他遮光等光學結構。而第一反射光及第二反射光在波長為550奈米的反射率差值大於3%或更高，如圖2所繪示。因此，將使得使用者可從外觀上明顯地觀察出顯示裝置上的顯示區及非顯示區。意即，使用者可清楚地觀察出顯示區與非顯示區的界線。

圖3為圖1的顯示裝置之不同波長對應反射率的曲線圖。請參考圖1及圖3。在圖3中，曲線C3表示為顯示裝置100中由顯示區D所反射出第一反射光L1，而曲線C4表示為顯示裝置100中由非顯示區（即遮光層120）所反射出第二反射光L2。詳細而言，在本實施例中，由於顯示裝置100包括光學調整層130，因此可調控使由顯示區D所反射出的第一反射光L1及由非顯示區（即遮光層120）所反射出的第二反射光L2在波長為550奈米的反射率差值介於2%至3%之間，如圖3所繪示。因此，可有效減少顯示區D與遮光層120所顯示的色差，使得顯示裝置100的顯示側具有一致的外觀效果。如此一來，將使得使用者不易從外觀上觀察出顯示裝置100上的顯示區D及非顯示區的顏色差異，即不易觀察出顯示區D與非顯示區的界線，進而可得到良好的觀感效果。在此需說明的是，波長為550奈米的可見光為人眼感受較為明顯之可見光波長，故在此以調控波長為550奈米的反射率差為首要。但實際而言，還可進一步調控其他可見光的波長範圍。在本實施例中，可進一步調控波長越短所得反射率差越大，如圖3所繪示。

詳細而言，在本實施例中，光學調整層130包括多個調整子層，且各調整子層的折射率不同，可用以調整由顯示區D所反射出的第一反射光L1及由遮光層120所反射出的第二反射光L2。具體而言，這些調整子層包括一第一調整子層132及一第二調整子層134，且第二調整子層134位於遮光層120與第一調整子層132之間。第一調整子層132的折射率大於第二調整子層134的折射率，且第一調整子層132的厚度小於第二調整子層134的厚度。

更詳細而言，在本實施例中，第一調整子層132的折射率介於1.8至2.4之間。而第一調整子層132的厚度介於5奈米至20奈米之間。第一調整子層132的材料例如為二氧化鈦、氧化鈮、氧化鉭、氧化鉿、氮化矽或氮氧化矽，但本發明並不限於此。而第二調整子層134的折射率介於1.3至1.5之間，而第二調整子層134的厚度介於50奈米至150奈米之間。第二調整子層134的材料例如為氟化鎂或二氧化矽。換句話說，第一調整子層132與第二調整子層134的折射率、厚度以及材料可隨著需調整的色差需求而改變，本發明並不限制其折射率、厚度以及材料。如此一來，可進一步藉由第一調整子層132與第二調整子層134的調配來減少由顯示區D所反射出的第一反射光L1與由遮光層120所反射出的第二反射光L2所造成的色差。在本實施例中，第一反射光L1及第二反射光L2在CIELAB色彩空間下的光學色差值小於等於4。

上述第一反射光L1及第二反射光L2在CIELAB色彩空間下的光學色差值，可利用在國際標準建立的CIELAB色彩空間中所測量的數值代入下列公式(1)而定義： ∆E=((L1-L2)² +(a1-a2)² +(b1-b2)² )^1/2 ……… (1) 其中： L1：標準光源的第一反射光中顏色的亮度； L2：標準光源的第二反射光中顏色的亮度； a1：標準光源的第一反射光中紅綠對立的程度； a2：標準光源的第二反射光中紅綠對立的程度； b1：標準光源的第一反射光中黃藍對立的程度； b2：標準光源的第二反射光中黃藍對立的程度。

圖4為本發明另一實施例的顯示裝置的剖面示意圖。請參考圖4。本實施例的顯示裝置100A類似於圖1的顯示裝置100，惟兩者不同之處在於，在本實施例中，顯示裝置100A還包括一光學功能層150，配置於蓋板140上。蓋板140位於光學調整層130與光學功能層150 之間。光學功能層150具有抗反射、抗眩光或抗指紋等功能性效果。一般而言，由於光學功能層150具有抗反射、抗眩光、抗指紋之效果，故會造成提高第一反射光L1及第二反射光L2的光學色差值。

圖5為另一習知技術的顯示裝置之不同波長對應反射率的曲線圖。圖6為圖4的顯示裝置之不同波長對應反射率的曲線圖。請同時參考圖5及圖6。在圖5中，曲線C5表示為具有光學功能層的另一習知技術之顯示裝置中由顯示區所反射出第一反射光，而曲線C6表示為具有光學功能層的習知技術之顯示裝置中由非顯示區所反射出第二反射光。在圖6中，曲線C7表示為顯示裝置100A中由顯示區D所反射出第一反射光L1，而曲線C8表示為顯示裝置100A中由非顯示區（即遮光層120）所反射出第二反射光L2。比較圖5與圖6可知，本實施例中具有光學功能層150的顯示裝置100A仍可進一步藉由第一調整子層132與第二調整子層134的調配來減少由顯示區D所反射出的第一反射光L1與由遮光層120所反射出的第二反射光L2所造成的色差。在本實施例中，第一反射光L1及第二反射光L2在CIELAB色彩空間下的光學色差值小於等於4。

圖7為本發明一實施例的調整顯示裝置之光學結構的步驟流程圖。請參考圖1、圖3及圖7。本實施例所公開調整顯示裝置之光學結構的方法至少可應用於圖1的顯示裝置100中，故以下說明將以圖1的顯示裝置100為例，但本發明並不限於此。在本實施例中，調整顯示裝置100之光學結構的方法，首先執行步驟S300，提供一顯示裝置光學資料以顯示圖1的顯示裝置100的光學結構資訊。詳細而言，在本實施例中，上述光學結構資訊即是指顯示裝置100的光學調整層130的折射率、厚度、材料或其他光學數值等。

接著，在完成上述步驟S300之後，執行步驟S310，依據顯示裝置資料計算出光源朝光學調整層130及遮光層120照射以分別產生第一反射光L1的第一波長光譜及第二反射光L2的一第二波長光譜，如圖3所顯示。具體而言，在此步驟中，可利用後端軟體的模擬以得出顯示裝置100的外觀顯示效果，其顯示效果可由第一反射光L1及第二反射光L2各自的波長光譜表現。

接著，在完成上述步驟S310之後，執行步驟S320，依據上述的第一波長光譜及第二波長光譜計算出第一反射光L1及第二反射光L2的色差值。具體而言，在此步驟中，進一步利用後端軟體對上述步驟中所得的光學結果進行上述公式(1)的運算以求得出第一反射光L1及第二反射光L2的色差值。

最後，在完成上述步驟S320之後，執行步驟S330，依據所求得的色差值調整顯示裝置100的光學結構。具體而言，在此步驟中，進一步依據色差值而修改光學調整層130的折射率、厚度、材料或其他光學數值等，進而降低色差值以獲得更佳的外觀顯示效果。而在本實施例中進行上述的步驟S330時，還可以先依據上述求得的色差值產生一光學數值模擬結果，且進一步依據此光學數值模擬結果修改調整顯示裝置資料，進而利用後端軟體先行針對調整後顯示裝置資料模擬先求得可獲得較佳的外觀顯示效果的光學調整層130調整數值。換句話說，本實施例可利用模擬的方式得出光學調整層130的較佳改善方案。如此一來，可進一步優化調整光學結構後的外觀顯示結果。

或者是，在上述產生光學數值模擬結果的步驟後，可先依據此模擬結果修改前述的顯示裝置光學資料，進而可依據調整後的顯示裝置光學資料計算出一模擬色差值。因此，可進一步在調整光學結構前，先行比較模擬色差值與前述測量顯示裝置100所得的色差值以產生一誤差色差值，從而可得知在此步驟中修改顯示裝置光學資料的改善成效。經由上述的步驟，在本實施例中，誤差色差值小於等於0.3。如此一來，可有效減少顯示區D與遮光層120所顯示的色差，使得顯示裝置100的顯示側具有一致的外觀效果。

綜上所述，本發明的顯示裝置具有光學調整層，可有效改變顯示裝置中光線對顯示區與遮光層的反射率，進而改善色差，使顯示裝置的顯示側具有一致的外觀效果。此外，本發明的調整顯示裝置之光學結構的方法，可進一步藉由所測得的反射光譜而調整顯示裝置中的光學結構，以降低反射光線的色差值以獲得更佳的外觀顯示效果。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100、100A:顯示裝置110:顯示面板120:遮光層130:光學調整層132:第一調整子層134:第二調整子層140:蓋板150:光學功能層160:屏蔽層170_1:第一光學層170_2:第二光學層180:觸控電極層182:基板184:上電極陣列186:下電極陣列C1~C8:曲線D:顯示區L:光線L1:第一反射光L2:第二反射光S300~S330:步驟

圖1為本發明一實施例的顯示裝置的剖面示意圖。圖2為習知技術的顯示裝置之不同波長對應反射率的曲線圖。圖3為圖1的顯示裝置之不同波長對應反射率的曲線圖。圖4為本發明另一實施例的顯示裝置的剖面示意圖。圖5為另一習知技術的顯示裝置之不同波長對應反射率的曲線圖。圖6為圖4的顯示裝置之不同波長對應反射率的曲線圖。圖7為本發明一實施例的調整顯示裝置之光學結構的步驟流程圖。

100:顯示裝置

110:顯示面板

120:遮光層

130:光學調整層

132:第一調整子層

134:第二調整子層

140:蓋板

150:光學功能層

160:屏蔽層

170_1:第一光學層

170_2:第二光學層

180:觸控電極層

182:基板

184:上電極陣列

186:下電極陣列

D:顯示區

L:光線

L1:第一反射光

L2:第二反射光

Claims

一種顯示裝置，包括：一顯示面板；一遮光層，配置於該顯示面板以形成至少一顯示區；一光學調整層，配置並覆蓋該遮光層及該至少一顯示區；以及一蓋板，配置於該光學調整層，該光學調整層位於該蓋板與該遮光層之間，其中一光源由該蓋板朝該光學調整層及該遮光層照射以分別產生一第一反射光及一第二反射光，且該第一反射光及該第二反射光在CIELAB色彩空間下的色差值小於等於4。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中該第一反射光及該第二反射光在波長為550奈米的反射率差值介於2%至3%之間。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中該光學調整層包括多個調整子層，且各該調整子層的折射率不同。
如申請專利範圍第3項所述的顯示裝置，其中該些調整子層包括一第一調整子層及一第二調整子層，且該第二調整子層位於該遮光層與該第一調整子層之間，該第一調整子層的折射率大於該第二調整子層的折射率。
如申請專利範圍第4項所述的顯示裝置，其中該第一調整子層的折射率介於1.8至2.4之間。
如申請專利範圍第4項所述的顯示裝置，其中該第二調整子層的折射率介於1.3至1.5之間。
如申請專利範圍第4項所述的顯示裝置，其中該第一調整子層的厚度小於該第二調整子層的厚度。
如申請專利範圍第7項所述的顯示裝置，其中該第一調整子層的厚度介於5奈米至20奈米之間。
如申請專利範圍第7項所述的顯示裝置，其中該第二調整子層的厚度介於50奈米至150奈米之間。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中該光學調整層以蒸鍍、濺鍍或塗佈方式形成在該蓋板上。
如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，還包括：一光學功能層，配置於該蓋板上，該蓋板位於該光學調整層與該光學功能層之間，該光學功能層具有抗反射、抗眩光或抗指紋等功能性效果。
一種調整顯示裝置之光學結構的方法：提供一顯示裝置光學資料以顯示一顯示裝置的光學結構資訊，其中該顯示裝置包括一顯示面板、一遮光層及一光學調整層，該遮光層配置於該顯示面板以形成至少一顯示區，且該光學調整層配置並覆蓋該遮光層及該至少一顯示區；依據該顯示裝置光學資料計算出一光源朝該光學調整層及該遮光層照射以分別產生一第一反射光的一第一波長光譜及一第二反射光的一第二波長光譜，其中該第一反射光及該第二反射光在 CIELAB色彩空間下的色差值小於等於4；依據該第一波長光譜及該第二波長光譜計算出該第一反射光及該第二反射光的一色差值；以及依據該色差值調整該顯示裝置的光學結構。
如申請專利範圍第12項所述的調整顯示裝置之光學結構的方法，其中依據該色差值調整該顯示裝置的光學結構的方法包括：依據該色差值產生一光學數值模擬結果。
如申請專利範圍第13項所述的調整顯示裝置之光學結構的方法，其中依據該色差值調整該顯示裝置的光學結構的方法包括：依據該光學數值模擬結果修改該顯示裝置光學資料。
如申請專利範圍第14項所述的調整顯示裝置之光學結構的方法，還包括：依據調整後的該顯示裝置光學資料計算出一模擬色差值；以及比較該模擬色差值與該顯示裝置的該色差值以產生一誤差色差值，其中該誤差色差值小於等於0.3。