TWI696587B

TWI696587B - 奈米微氣泡製造和清洗系統

Info

Publication number: TWI696587B
Application number: TW108100002A
Authority: TW
Inventors: 呂鴻圖; 德毅施; 銘恩戴; 吳彥澤
Original assignee: 英屬開曼群島商納諾股份有限公司
Priority date: 2019-01-02
Filing date: 2019-01-02
Publication date: 2020-06-21
Also published as: TW202026251A; JP2020108878A; JP2021184991A

Abstract

本發明係揭露一種奈米微氣泡製造和清洗系統能夠清洗於一物件，其包含一水泵、一電解單元、一奈米微氣泡單元與一清洗槽。水泵輸出奈米離子水至電解單元，藉由電解單元電解奈米離子水以生成複數氣泡(例如氣泡尺寸為小尺寸氣泡與微尺寸氣泡)；前述奈米離子水藉由奈米微氣泡單元進一步產生複數奈米微氣泡；清洗槽提供一容置空間設置物件和注入具有奈米微氣泡的奈米離子水以清洗物件。其中，奈米離子水藉由在電解單元、奈米微氣泡單元與清洗槽之間循環流動，而能夠持續地以具有奈米微氣泡的奈米離子水清洗物件。

Description

奈米微氣泡製造和清洗系統

本發明為一種清洗設備的技術領域，特別是一種循環式強效清洗的奈米微氣泡製造和清洗系統。

傳統的物件(例如玻璃、藍寶石、矽、金屬、電子元件、陶瓷、晶圓片等)需要利用清洗設備進行清洗。

一般工業用清洗設備中提供單槽式、多槽式或噴淋式的清洗方式。在清洗的過程中，工業用清洗設備使用化學藥劑與強酸鹼清洗，使得在清洗過程中需要使用大量純水沖洗，以藉由大量純水沖洗與洗滌殘留在物件之表面的清洗液及污垢。

有鑑於此，本發明提出一種奈米微氣泡製造和清洗系統，其可以有效率地且環保地提升清洗後物件的乾淨程度以及減少污染物的產生。

本發明之第一目的係根據一種奈米微氣泡製造和清洗系統，係透過循環的流體(例如奈米離子水、鹼性不含COD液体、去離子水等)進行清洗，且前述流體能夠持續地產生奈米微氣泡，另外可再配合或選用超聲波的振動、加熱單元的溫度調整或噴淋清洗方式，達到有效地清洗物件。

本發明之第二目的係根據上述奈米微氣泡製造和清洗系統，利用電解過程所產生的氣體生成氣泡(例如氣泡的尺寸可為小氣泡與微氣泡等)，前述氣泡經過奈米微氣泡單元提供高壓壓力與剪切力，讓氣泡轉變成更小的奈米微氣泡，以達到有效地清潔的目的。

本發明之第三目的係根據上述奈米微氣泡製造和清洗系統，藉由水泵形成流體循環系統，其能夠持續地在清洗槽內製造與補充奈米微氣泡，並在另一實施例中，藉由例如設置在清洗槽的超聲波與加熱單元(提供加熱或恆溫)提升對物件的清潔能力。

本發明之第四目的係根據上述奈米微氣泡製造和清洗系統，經由電解單元持續地電解流體以產生包含小氣泡與微氣泡等氣體，能夠讓後端之奈米微氣泡單元產生奈米微氣泡，而毋需額外地注入氣體就能夠自主地產生氣體以產生奈米微氣泡。

本發明之第五目的係根據上述奈米微氣泡製造和清洗系統，進一步提供輔助清洗件與輔助位移件，用以擺動、移動與轉動物件，進而輔助例如LED藍寶石基板進行均勻、全面與完整地清洗。

本發明之第六目的係根據上述奈米微氣泡製造和清洗系統，進一步透過加熱單元作用於流體，讓流體加溫及/或維持溫度(或稱恆溫)，除了加速奈米微氣泡或奈米離子水作用於物件之外，也能夠提高電解單元產生氣泡的數量，進而達到提升清洗能力的功效。

本發明之第七目的係根據上述奈米微氣泡製造和清洗系統，進一步在循環過程中利用過濾單元過濾奈米離子水，以達到保護奈米微氣泡製造和清洗系統和延長流體的使用壽命，並能夠避免已經被清除的污垢再次附著或污染物件。

為達到上述目的與其他目的，本發明提供一種奈米微氣泡製造和清洗系統係供清洗一物件。奈米微氣泡製造和清洗系統包含一水泵、一電解單元、一奈米微氣泡單元與一清洗槽。水泵輸出一奈米離子水。電解單元連接水泵。電解單元電解奈米離子水，以產生氣體而生成包含複數微氣泡的氣泡。奈米微氣泡單元連接電解單元，以接收奈米離子水與氣泡，讓奈米離子水產生複數奈米微氣泡。清洗槽包含一輸出端與一輸入端。清洗槽形成一容置空間供設置物件。容置空間設置在輸出端與輸入端之間。輸入端連接奈米微氣泡單元以接收包含該等奈米微氣泡的奈米離子水，且具有該等奈米微氣泡的奈米離子水注入容置空間以清洗物件，以及輸出端連接水泵，以輸出位於容置空間的奈米離子水。其中，奈米離子水藉由在電解單元、奈米微氣泡單元與清洗槽之間循環流動，而持續地讓該等奈米微氣泡的奈米離子水清洗物件。此外，奈米微氣泡製造和清洗系統還可以藉由加熱單元、在清洗槽內擺動、移動或轉動物件以更加地提升清洗能力。

相較於習知的技術，本發明提供的奈米微氣泡製造和清洗系統，可以藉由電解單元電解奈米離子水以產生包含例如氫氣、氧氣和臭氧的小氣泡與微氣泡，其中前述氫氣、氧氣和臭氧所佔的比例是氫氣大於氧氣與臭氧。小氣泡與微氣泡經過奈米微氣泡單元，其能夠在奈米離子水增加奈米等級的氣泡(也有可能伴隨產生其他等級的氣泡)。由於含有氫氣的氫氣奈米微氣泡具有更強的負電極性，其能夠吸附附著在物件的污垢，進而起到清潔的作用，相較於一般以空氣產生的奈米氣泡，本發明所提供含有氫氣的氫氣奈米微氣泡有著更強大的清潔力。

在本發明中，藉由電解單元持續地電解奈米離子水，進而產生源源不絕的氣體以產生小氣泡與微氣泡，並再經過奈米微氣泡單元把小氣泡與微氣泡加工成奈米微氣泡，使得本發明無需再外接任何氣體供應裝置或是注入其他氣體。再者，電解單元產生的氣體是小氣泡和微氣泡，所以後段產生奈米微氣泡所須要的氣體量大大減少，亦可讓產生奈米微氣泡的速度明顯提升。由於氣體用量的減少，產生奈米微氣泡所須要的氫氣用量也能大幅地降低，減少大量氫氣使用所造成例如易燃燒的危險性。

另外，經實驗與驗證，本發明能在短時間之內快速將水中氧化還原值(ORP)從-200mV提高至-500mV，並且在清洗過程能夠一直被維持。前述數值代表了奈米離子水中負離子以及負電極性氣泡數量，其表示本發明能夠一直在保持清洗過程中保持應有的清潔能力。

再者，由於本發明產生的氣泡大部份是奈米等級的微氣泡，相較於微米級以上的氣泡上升到液面並消逝在大氣的時間與速度，奈米等級的微氣泡可停留在水中的時間更長，使得本發明能夠不使用外部的氣體供應裝置。

於另一實施例中，電解單元以及奈米微氣泡單元能快速地補充例如在超聲波或噴淋清洗過程中快速消失的奈米微氣泡，進而在奈米離子水中保持有效的奈米微氣泡數量，以能夠維持相當的清潔能力。

總言之，本發明能夠藉由奈米微氣泡提高奈米離子水的清潔能力與效能，進而代替化學藥劑清洗和減少純水的使用量，更甚至能夠減少清潔的時間。

為充分瞭解本發明之目的、特徵及功效，茲藉由下述具體之實施例，並配合所附之圖式，對本發明做一詳細說明，說明如後。

於本發明中，係使用「一」或「一個」來描述本文所述的單元、元件和組件。此舉只是為了方便說明，並且對本發明之範疇提供一般性的意義。因此，除非很明顯地另指他意，否則此種描述應理解為包括一個、至少一個，且單數也同時包括複數。

於本發明中，用語「包含」、「包括」、「具有」、「含有」或其他任何類似用語意欲涵蓋非排他性的包括物。舉例而言，含有複數要件的一元件、結構、製品或裝置不僅限於本文所列出的此等要件而已，而是可以包括未明確列出但卻是該元件、結構、製品或裝置通常固有的其他要件。除此之外，除非有相反的明確說明，用語「或」是指涵括性的「或」，而不是指排他性的「或」。

請參考圖1，係本發明一第一實施例之奈米微氣泡製造和清洗系統的方塊示意圖。在圖1中，奈米微氣泡製造和清洗系統10能夠清洗一物件2，例如物件2可以是基板或電子元件。其中，前述基版的材質可為玻璃、藍寶石、矽、金屬、陶瓷、晶圓片等。

奈米微氣泡製造和清洗系統10包含一水泵12、一電解單元14、一奈米微氣泡單元16與一清洗槽18。

為便於說明，在本實施例中是以水泵12開始說明，實際上奈米微氣泡製造和清洗系統10是一個循環系統，有其因果關係，故下方的說明不因為從水泵12開始說明而被限制必須由水泵12起始作動。

水泵12輸出一奈米離子水4。

電解單元14連接水泵12。電解單元14電解奈米離子水4，以產生氣體6，且氣體6用於生成小氣泡與微氣泡等尺寸的氣泡8。於本實施例中，氣泡6的尺寸除了微氣泡之外，還可以是其他尺寸的小氣泡。

奈米微氣泡單元16連接電解單元14，以接收奈米離子水4與氣泡8。奈米微氣泡單元16讓奈米離子水4產生複數奈米微氣泡162。舉例而言，前述產生奈米微氣泡162的方式，係可由奈米微氣泡單元16透過例如調節閥(圖未示)控制適當的速度和壓力，並藉由速度和壓力所產生的例如剪切力，將持續地製造奈米微氣泡162。又於另一實施例中，奈米微氣泡162還進一步控制奈米微氣泡162與其從電解單元14產生的氣體6進行混合，以製造含有特殊氣體的奈米氣泡，而能應付不同的產品清洗需要及增加清洗能力。由於電解單元14產生的氣體是小氣泡與微氣泡級，所以產生奈米微氣泡所須要的氣體量需求大幅減少，也讓奈米微氣泡單元16產生奈米微氣泡162的速度也明顯地提高。舉例而言，由於氣體用量的減少與產生奈米微氣泡162所須要的氫氣用量也降低，進而減少大量氫氣使用的危險性。

值得注意的是，選用奈米微氣泡單元16的優勢如下：

從氣泡的體積公式(V=4π/3r³)與表面積公式(A=4πr²)中可以了解到，在氣泡總體積(V)不變的情況下，氣泡總表面積與單個氣泡的直徑成反比。舉例而言，直徑10微米的氣泡相較於直徑1毫米的氣泡，在一定體積的前提之下，前者表面積應是後者表面積的100倍，因而，前者的接觸面積就增加100倍，也促使各種反應速度也同時增加100倍。

此外，奈米微氣泡單元16所產生的奈米微氣泡162，其氣泡等級為奈米(10 ^-9)等級。根據斯托克斯定律，氣泡在水中的上升速度與氣泡直徑的平方成正比。因此，氣泡直徑越小則氣泡的上升速度越慢。舉例而言，當直徑1mm的氣泡在水中上升的速度為6mm/min，而直徑10µm的氣泡在水中的上升速度為3mm/min。後者是前者的1/2000。若考慮到表面積的增加，奈米微氣泡162的溶解能力比一般空氣增加20萬倍。

再者，當奈米微氣泡162破裂瞬間，由於氣液界面消失的劇烈變化，界面上集聚的高濃度離子將積蓄的化學能一下子釋放出來，此時可激發產生大量的羥基自由基。前述羥基自由基具有超高的氧化還原電位，其產生的超強氧化作用可清除水中正常條件下的污染物。

在相關的時間中，奈米微氣泡製造和清洗系統10能將水中氧化還原值(ORP)從-200mV迅速地提升至-500mV，並且在清時過程中一直地維持。此數值代表了奈米離子水中負離子以及負電極性氣泡數量，其表示能一直保持清洗過程中的清潔能力。

清洗槽18包含一輸出端182與一輸入端184。清洗槽18形成一容置空間SP以設置物件2。容置空間SP設置在輸入端182與輸出端184之間。輸入端182連接奈米微氣泡單元16以接收具有奈米微氣泡162的奈米離子水4，並將奈米離子水4注入容置空間SP以清洗物件2。清洗槽14的形狀與數量不受任何限制，只要能夠容置物件2，即屬於本發明之清洗槽14之發明範疇。

因此，當奈米離子水4藉由水泵12在電解單元14、奈米微氣泡單元16與清洗槽18之間循環流動，其能夠持續地以具有奈米微氣泡162的奈米離子水4清洗物件2。

值得注意的是，清洗槽14可進一步包含振動產生單元(圖未示)或噴淋單元(圖未示)，其分別說明如下：

關於振動產生單元：振動產生單元能夠提供一振動力，例如振動產生單元可以是超音波。振動產生單元驅動具有奈米微氣泡162的奈米離子水4作用於物件2，可以將奈米微氣泡162的污垢清除，或者奈米微氣泡162受到振動力的影響，其可以加速奈米微氣泡162清除物件2上的污垢。舉例而言，振動產生單元設置在清洗槽18的左方、右方和下方，並將其振動頻率設定在例如 25~120 kHz，以因應物件2的不同清洗需要。藉由調整振動產生單元設置在清洗槽18的位置，可以讓物件2進行例如超音波清洗時，能夠均衡地覆蓋清洗槽14內的每一區域，達到全面地且無死角的清洗。

關於噴淋單元：噴淋單元可根據頻率及/或壓力輸出具有奈米微氣泡162的奈米離子水4並作用於物件2，亦即，噴淋單元將奈米微氣泡162的奈米離子水4以某一壓力噴灑作用在物件2，可以有效地清除物件2上的污垢。舉例而言，噴淋單元可設置在清洗槽18的左右兩側，讓物件2得以均衡地受到噴淋清洗。其中，噴淋單元之噴淋角度可以根據物件2的外觀或形狀進行調整，或者噴淋單元可以藉由機電組件改變其噴淋的位置。

值得注意的是，本發明之電解單元14及奈米微氣泡單元16能快速地補充例如在超聲波或噴淋清洗過程中快速消失的奈米微氣泡162，進而保持奈米離子水4的有效奈米微氣泡數量，以能夠維持相當的清潔能力。

又於另外一實施例中，為了適應特殊的物件2，例如藍寶石晶圓片/基材。清洗槽18又可進一步包含一輔助位移件(圖未示)與一輔助清洗件(圖未示)。

關於輔助位移件：輔助位移件能夠用於設置物件2，並且擺動、移動、轉動物件2，即是改變物件2在清洗槽18的設置位置、方向、角度。舉例而言，輔助位移件可以安裝在清洗槽18的底部，且輔助位移件可採用不會損壞藍寶石晶圓片的塑膠物料，藉由小距離的旋轉與移動，能夠讓藍寶石晶圓片之每個部位都可以均衡地被清洗。

關於輔助清洗件：輔助清洗件能夠接觸物件2，以一接觸物件(例如刷頭等)接觸物件2，以清除位於物件2之表面或邊緣的異物/污垢。

請參考圖2，係本發明一第二實施例之奈米微氣泡製造和清洗系統的方塊示意圖。在圖2中，奈米微氣泡製造和清洗系統10’除包含第一實施例的水泵12、電解單元14、奈米微氣泡單元16與清洗槽18之外，更包含一副槽體20、一加熱單元22與一過濾單元24。

副槽體20設置於清洗槽18與水泵12之間，用以接收來自於清洗槽18的奈米離子水4和將奈米離子水4輸出至水泵12，其係可用以例如調節/緩衝進入水泵12的水量。於本實施例中，副槽體20的數量係以一個為例說明，於其他實施例中，副槽體20的數量可為多個。

加熱單元22可用於加熱奈米離子水4或具有奈米微氣泡162的奈米離子水4。於本實施例中，加熱單元22是以設置在奈米微氣泡單元16為例說明，於其他實施例中可以設置在本系統內的任一組件中，也可不只侷限在一個組件。加熱單元22作用於奈米離子水4，可以加溫或衡溫，不管加溫或是恆溫，其目的都是用於加速奈米微氣泡162或奈米離子水4作用於物件2時的清洗反應，除此之外，還可以提高電解單元14產生氣泡8的數量，進而提升清洗能力。

過濾單元24設置於水泵12與電解單元14之間，以過濾來自水泵12的奈米離子水4和將奈米離子水4輸出至電解單元14。於本實施例中，過濾單元24可以用以過濾具有雜質的奈米離子水4。故在循環過程中，藉由過濾單元24過濾奈米離子水4，除了保護系統和延長使用壽命之外，更能夠避免已清除的污垢再次附著/污染物件2。

本發明在上文中已以較佳實施例揭露，然熟習本項技術者應理解的是，實施例僅用於描繪本發明，而不應解讀為限制本發明之範圍。應注意的是，舉凡與實施例等效之變化與置換，均應設為涵蓋於本發明之範疇內。因此，本發明之保護範圍當以申請專利範圍所界定者為準。

2:物件 4:奈米離子水 6:氣體 8:氣泡 10、10’:奈米微氣泡製造和清洗系統 12:水泵 14:電解單元 16:奈米微氣泡單元 162:奈米微氣泡 18:清洗槽 182:輸出端 184:輸入端 20:副槽體 22:加熱單元 24:過濾單元 SP:容置空間

圖1係本發明一第一實施例之奈米微氣泡製造和清洗系統的方塊示意圖。圖2係本發明一第二實施例之奈米微氣泡製造和清洗系統的方塊示意圖。

2:物件

4:奈米離子水

6:氣體

8:氣泡

10:奈米微氣泡製造和清洗系統

12:水泵

14:電解單元

16:奈米微氣泡單元

162:奈米微氣泡

18:清洗槽

182:輸出端

184:輸入端

SP:容置空間

Claims

一種奈米微氣泡製造和清洗系統，係供清洗一物件，該奈米微氣泡製造和清洗系統包含：一水泵，係輸出一奈米離子水；一電解單元，係連接該水泵，該電解單元電解該奈米離子水，以產生一氣體供生成包含複數微氣泡的氣泡；一奈米微氣泡單元，係連接該電解單元，接收該奈米離子水、該氣體與該氣泡，該奈米微氣泡單元讓該奈米離子水產生複數奈米微氣泡，讓該氣體混合該等奈米微氣泡；以及一清洗槽，係具有一輸出端與一輸入端，該清洗槽形成一容置空間供設置該物件，該容置空間設置在該輸出端與該輸入端之間，該輸入端連接該奈米微氣泡單元以接收包含該等奈米微氣泡的該奈米離子水，且具有該等奈米微氣泡的該奈米離子水注入該容置空間以清洗該物件，以及該輸出端連接該水泵，以輸出位於該容置空間的該奈米離子水；其中，該奈米離子水藉由在該電解單元、該奈米微氣泡單元與該清洗槽之間循環流動，而持續地讓該等奈米微氣泡的奈米離子水清洗該物件。
如申請專利範圍第1項所述之奈米微氣泡製造和清洗系統，其中該電解單元電解該奈米離子水以產生氫氣、氧氣與臭氧之至少一者的一氣體，以供在該奈米離子水產生該氣泡。
如申請專利範圍第2項所述之奈米微氣泡製造和清洗系統，其中該奈米微氣泡單元接收來自該電解單元的該奈米離子水與該氣體，該奈米微氣泡單元提供一剪切力，讓該氣體融入該奈米離子水以形成具有該奈米微氣泡的奈米離子水。
如申請專利範圍第1項所述之奈米微氣泡製造和清洗系統，其中該清洗槽更包含一振動產生單元，該振動產生單元產生一振動力並驅動具有該等奈米微氣泡的奈米離子水作用於該物件。
如申請專利範圍第1項所述之奈米微氣泡製造和清洗系統，其中該清洗槽更包含一噴淋單元，該噴淋單元根據一頻率與一壓力之至少一者輸出具有該奈米微氣泡的奈米離子水並作用於該物件。
如申請專利範圍第4或5項所述之奈米微氣泡製造和清洗系統，其中該清洗槽更包含一輔助位移件，該輔助位移件供設置該物件，以改變設置該物件的位置或讓該物件旋轉一角度。
如申請專利範圍第4或5項所述之奈米微氣泡製造和清洗系統，其中該清洗槽更包含一輔助清洗件，該輔助清洗件供接觸該物件，以清洗該物件。
如申請專利範圍第1項所述之奈米微氣泡製造和清洗系統，其中更包含一副槽體，係設置於該清洗槽與該水泵之間，以接收來自於該清洗槽的奈米離子水和將該奈米離子水輸出至該水泵。
如申請專利範圍第1或8項所述之奈米微氣泡製造和清洗系統，更包含一加熱單元以加熱該奈米離子水或具有該等奈米微氣泡的奈米離子水。
如申請專利範圍第1項所述之奈米微氣泡製造和清洗系統，其中更包含一過濾單元，係設置於該水泵與該電解單元之間，以過濾來自該水泵的奈米離子水和將該奈米離子水輸出至該電解單元。