JP4734416B2 - 硫酸の電解装置、電解方法及び基板の処理装置 - Google Patents

Description

この発明は硫酸を電気分解して酸化性の化学種を含む溶液を生成する硫酸の電気分解装置、電気分解方法及び上記溶液を用いて基板を処理する処理装置に関する。

半導体や液晶ディスプレイ用のパネルなどの基板にリソグラフィーによって回路パターンを形成する場合、その過程で基板に付着残留する有機物、金属不純物、パーティクル或いはレジストなどの付着物を洗浄除去する洗浄工程がある。

洗浄工程においては、基板を処理液によって処理することで、その基板に付着した付着物を除去する。ついで、基板を純水などの洗浄液によって洗浄処理することで、基板に付着する付着物や処理液を洗浄するということが行なわれている。

基板を処理する処理液としてはペルオキソ一硫酸やペルオキソ二硫酸などの酸化性の化学種を含む溶液が適しており、その溶液を得るためには硫酸に過酸化水素水を混合して生成するということが知られている。

しかしながら、混合装置で硫酸に過酸化水素水を混合して上記処理液を生成するようにすると、過酸化水素水はたとえば３５％程度の水溶液であるから、硫酸の濃度が大きく低下するということがある。そのため、使用した処理液を回収し、新たに生成された処理液と混合して繰り返して使用するような場合、処理液の濃度低下が著しくなり、処理液としての性能が大きく低下してしまうということがある。

そこで、過酸化水素水を用いずに、硫酸を電気分解して酸化性の化学種を含む溶液を生成することが実用化されている。特許文献１にはそのような溶液の製造方法が示されている。

すなわち、特許文献１に示された電気分解装置は電解槽を有する。電解槽は隔膜によって陽極が設けられた陽極室と、陰極が設けられた陰極室とに隔別されている。そして、陽極室と陰極室とにそれぞれ硫酸を供給し、陽極室で電気分解されることで生成された酸化性の化学種を含む溶液を処理液として利用するようにしている。
特開２００１−１９２８７４号公報

特許文献１に示されるように、硫酸を電気分解して処理液を生成するようにすれば、新たに生成された処理液と混合して繰り返して使用するような場合であっても、処理液の濃度がほとんど低下することがないから、処理液の性能を維持することができるという利点を有する。

しかしながら、特許文献１の構成では陽極室と陰極室との両方に硫酸を別々の供給系統によって供給するようにしている。そのため、電解槽の陽極室と陰極室に対してそれぞれ上記供給系統を構成する硫酸タンク、配管及び供給ポンプを接続しなければならないから、２つの供給系統が必要となることによって構成の複雑化や大型化を招くということがあった。

この発明は、電解槽の陽極室と陰極室とに対して硫酸を１つの供給系統によって供給して電気分解できるようにすることで、構成の簡略化や小型化を図ることができるようにした硫酸の電解装置、電解方法及び基板の処理装置を提供することにある。

上記課題を解決するためにこの発明は、硫酸を電気分解する電解装置であって、
隔膜によって陰電極が設けられた陰極室と陽電極が設けられた陽極室とが隔別形成された電解槽と、
上記硫酸が貯えられる硫酸タンクと、
この硫酸タンクと上記陰極室の流入口を接続した給液管と、
上記陰極室の流出口と上記陽極室の流入口を接続した接続管と、
上記給液管に設けられ上記硫酸タンクの硫酸を上記陰極室に上記給液管を通じて供給する第１の供給ポンプと、
上記陽極室の流出口に接続され電気分解によって上記陽極室で生成された酸化性の化学種を含む溶液を貯液槽に供給する排出管と
を具備したことを特徴とする硫酸の電解装置にある。

また、この発明は隔膜によって陰電極が設けられた陰極室と陽電極が設けられた陽極室とが隔別形成された電解槽を用いて硫酸を電気分解する電解方法であって、
上記硫酸を上記陰極室に供給する工程と、
陰極室に供給された硫酸をこの陰極室から上記陽極室に供給する工程と、
上記陽極室で生成された酸化性の化学種を含む溶液を上記陽極室から排出する工程と
を具備したことを特徴とする硫酸の電気分解方法にある。

また、この発明は、硫酸を電気分解して生成された処理液によって基板を処理する処理装置であって、
上記硫酸を電気分解して酸化性の化学種を含む溶液からなる上記処理液を生成する電解装置と、
この電解装置で生成された酸化性の化学種を含む溶液を貯える貯液槽と、
この貯液槽に貯えられた処理液によって上記基板を処理する処理部を具備し、
上記電解装置は請求項１に記載された構成であることを特徴とする基板の処理装置にある。

図１は、この発明の一実施の形態を示す電解槽及びスピン処理装置の概略的構成図である。 図２は、電解槽の拡大断面図である。

以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。

図１は硫酸を電気分解する電解槽１、及びこの電解槽１で生成された処理液を用いて基板Ｗを処理する処理部としてのスピン処理装置２を示す。上記電解槽１は図２に示すように一対の容器状部材３ａがシール３ｂを介して液密に一体化された槽本体３を有し、この槽本体３の内部空間は陽イオン交換膜などの隔膜４によって陰極室５と陽極室６とに隔別されている。上記陰極室５には陰電極５ａが設けられ、上記陽極室６には陽電極６ａが設けられている。

上記陽電極６ａとしては、不溶性陽極（ＤＳＡ）、白金、二酸化鉛、導電性ダイヤモンドなどが使用できる。電解槽１にて電気分解により生成された電解硫酸は、そのままレジスト付シリコンウエハなどの高清浄性を要求される被洗浄物に適用される。そのためには、陽電極６ａとしては上述した陽電極６ａのうち、不純物溶出が少ない、不溶性陽極（ＤＳＡ）、白金、導電性ダイヤモンドなどを用いることが好ましく、特に高酸素過電圧を有するためにペルオキソ一硫酸やペルオキソ二硫酸などの高い酸化力を有する酸化性物質の生成能力が高い導電性ダイヤモンドがより好ましい。また、陰電極５ａとしては不溶性陽極（ＤＳＡ）、白金、カーボン、導電性ダイヤモンドなどが使用できる。

上記陰極室５の上下方向の下端には流入口を形成する第１の流入管８が接続され、上端には流出口を形成する第１の流出管９が接続されている。上記陽極室６の上下方向の下端には流入口を形成する第２の流入管１１が接続され、上端には流出口を形成する第２の流出管１２が接続されている。

上記陰極室５に設けられた第１の流入管８には中途部に第１の供給ポンプ１３が設けられた給液管１４の一端が接続されている。この給液管１４の他端は硫酸タンク１５の内底部に位置している。上記硫酸タンク１５には後述するように濃度がたとえば７０〜９８ｗｔ％（質量百分率）に設定された硫酸Ｓが収容されている。したがって、上記第１の供給ポンプ１３が作動すれば、上記硫酸タンク１５内の硫酸Ｓが上記電解槽１の陰極室５に供給されるようになっている。

上記陰極室５に接続された第１の流出管９と、上記陽極室６に接続された第２の流入管１１は接続管１７によって連通接続されている。それによって、上記給液管１４を通じて上記硫酸タンク１５から上記陰極室５に供給された硫酸Ｓは上記接続管１７を通って上記陽極室６に流入する。

このようにして陰極室５から陽極室６に流れる硫酸は陰電極５ａと陽電極６ａに電圧が印加されることによって電気分解される。硫酸Ｓが電気分解されると、陰極室５では水素が発生し、陽極室６では酸素やペルオキソ一硫酸やペルオキソ二硫酸などの酸化性の化学種を含む溶液が生成される。その溶液は、陰極室５で生成された水素や陽極室６で生成された酸素とともに上記第２の流出管１２に接続された排出管１８から流出して貯液槽１９に処理液Ｌとして貯蔵される。

なお、上記陰極室５で生成された水素や陽極室６で生成された酸素は上記貯液槽１９に接続された開放弁２１を有する放散管２２から図示しない触媒塔を通って大気に放散されるようになっている。
上記陽極室６で生成された溶液が流れる上記排出管１８には測定手段としての第１のモニタ２３が接続されている。この第１のモニタ２３は上記排出管１８を流れる溶液の導電率や酸化性化学種の量、或いは硫酸濃度などのうちの１つ或いは複数の特性を検出する。

上記第１のモニタ２３の検出信号は制御装置２４に出力される。制御装置２４はモニタ２３からの検出信号を解析し、上記電解槽１の陽極室６で生成された溶液の特性を判定する。そして、制御装置２４はその判定に基いて上記第１の供給ポンプ１３によって上記電解槽１を流れる硫酸Ｓの単位時間当たりの流量を制御する。それによって、上記陽極室６で電気分解によって生成される溶液の特性（性能）が一定に維持される。

上記給液管１４には、上記第１の供給ポンプ１３の吐出側に第１の流路制御弁１４１が設けられ、吸込み側には冷却器１４２が設けられている。さらに、冷却器１４２よりも上流側には硫酸の濃度を測定する第２のモニタ１４３が給液管１４と並列に設けられている。

上記給液管１４の上記第１の供給ポンプ１３の吐出側と上記第１の流路制御弁１４１との間には戻り管１４４の一端が接続されている。この戻り管１４４の他端は上記硫酸タンク１５に接続されている。この戻り管１４４の中途部には第２の流路制御弁１４５が設けられている。

上記第１の流路制御弁１４１と第２の流路制御弁１４５は、上記第２のモニタ１４３が検出する硫酸の濃度に応じて上記制御装置２４によって後述するように開閉制御されるようになっている。

上記硫酸タンク１５には硫酸供給管１５１と、超純水などの硫酸を希釈するための希釈液供給管１５２とが接続されている。上記硫酸供給管１５１には第１の流量積算計１５３と第１の供給制御弁１５４が設けられている。上記希釈液供給管１５２には第２の流量積算計１５５と第２の供給制御弁１５６が設けられている。

上記第１の流量積算計１５３によって硫酸供給管１５１を流れる硫酸の流量が計測され、第２の流量積算計１５５によって希釈液供給管１５２を流れる希釈液の流量が計測され、それらの計測値は上記制御装置２４に出力される。

制御装置２４は予め設定された流量に基いて上記第１の供給制御弁１５４と第２の供給制御弁１５６を開放して硫酸と希釈液を上記硫酸タンク１５に供給するようになっている。

硫酸タンク１５に硫酸と希釈液を供給するとき、上記制御装置２４は第１の流路制御弁１４１を閉じ、第２の流路制御弁１４５を開放して第１の供給ポンプ１３を作動させる。それによって、硫酸タンク１５に供給された硫酸と希釈液は給液管１４、戻り管１４４及び硫酸タンク１５内を流れて循環するから、硫酸と希釈液が十分に攪拌されて硫酸タンク１５内の硫酸濃度が一定となる。

硫酸は循環の途中で冷却器１４２によって冷却される。それによって、硫酸が希釈液で希釈されることで発生する希釈熱によって高温度になり、高温度の硫酸が電解槽１に流れることで、この電解槽１が損傷するのを防止している。

また、電解槽１は電気分解により発生する熱でも高温になってしまうので、電解槽１の温度は図２に示すように電解槽１の陰電極５ａ側の外壁中央に設けられた第１の温度センサ１５８と、陽電極６ａ側の外壁中央に設けられた第２の温度センサ１５９によって検出される。これら温度センサ１５８，１５９の検出信号は上記制御装置２４に出力される。

そして、どちらか一方の温度センサが検出する温度が電解槽１の耐久温度以上、たとえば８０℃以上になったならば、第１の流路制御弁１４１を閉じ、第２の流量制御弁１４５を開放して上記電解槽１への硫酸の供給が停止されるようになっている。また、第１の流路制御弁１４１は電解槽１に過大な液圧力が印加されないようにする機能も備えている。

上記給液管１４を流れる硫酸の濃度は第２のモニタ１４３によって検出され、その検出信号が制御装置２４に出力される。そして、検出された硫酸の濃度が設定濃度と比較され、その比較に基いて硫酸或いは希釈液の供給量が制御される。それによって、硫酸タンク１５に貯えられる硫酸の濃度は設定値、たとえば７０〜９８ｗｔ％、好ましくは９０ｗｔ％に設定されるようになっている。

上記硫酸タンク１５に貯えられる硫酸の液面は、一対の液面センサ１６１，１６２によって上限と下限とが検出される。液面センサ１６１，１６２の検出信号は上記制御装置２４に出力される。硫酸タンク１５の液面が下限になると、硫酸と希釈液とが供給され、上限になると硫酸と希釈液とが供給が停止される。それによって、硫酸タンク１５内の硫酸の量が一定の範囲に維持されるようになっている。

上記貯液槽１９には供給管２５が一端をこの貯液槽１９の内底部に位置させて接続されている。この供給管２５の中途部には第２の供給ポンプ２６が設けられ、他端は上記スピン処理装置２の第１の供給ノズル２７に切り換え弁２８を介して接続されている。

上記供給ノズル２７は揺動アーム３１の先端に設けられている。この揺動アーム３１は上記スピン処理装置２の半導体ウエハなどの基板Ｗを保持した回転テーブル３２の上方に配置されていて、図示しない駆動源によって上記基板Ｗの径方向に沿って揺動駆動されるようになっている。

上記第１の供給ノズル２７には所定の圧力に加圧された窒素などの不活性ガスを供給する加圧管３３が接続されている。上記第２の供給ポンプ２６が作動すると、上記貯液槽１９に貯えられた溶液が上記供給管２５を通じて上記第１の供給ノズル２７に供給される。

上記第１の供給ノズル２７には不活性ガスが同時に供給される。それによって、上記第１の供給ノズル２７からは上記基板Ｗの上面に向けて上記溶液、つまり基板Ｗを処理する処理液Ｌが上記不活性ガスによって霧化されて上記基板Ｗの上面に噴射されるようになっている。

上記回転テーブル３２の上方には第２の供給ノズル３４が配置されている。この第２の供給ノズル３４には純水などの洗浄液が供給される。すなわち、上記処理液Ｌによって上記基板Ｗに付着した汚れが除去された後、上記基板Ｗは上記第２の供給ノズル３４から供給される洗浄液によって洗浄されるようになっている。
なお、第２の供給ノズル３４は第１の供給ノズル２７とともに上記揺動アーム３１に設けるようにしてもよい。

上記回転テーブル３２はカップ体３５内に設けられている。このカップ体３５内には環状の内カップ３６が図示しない駆動機構によって上下駆動可能に設けられている。内カップ３６はカップ体３５内を内側空間部３７と外側空間部３８に隔別している。

内側空間部３７の底部には処理液排出管３９が接続され、外側空間部３８の底部には洗浄液排出管４１が接続されている。基板Ｗを処理液によって処理するときには上記内カップ３６が上端を基板Ｗよりも上方に位置させた上昇位置に駆動されている。

それによって、第１の供給ノズル２７から回転する基板Ｗの上面に供給された処理液Ｌは基板Ｗの周辺部から周囲に飛散し、内カップ３６の内周面に衝突して落下し、内側空間部３７に接続された処理液排出管３９を通じて排出されるようになっている。処理液排出管３９から排出された処理液は第１のドレンタンク４０に貯えられるようになっている。

基板Ｗを第２の供給ノズル３４から供給される洗浄液で洗浄する場合、上記内カップ３６は上端が基板Ｗの上面よりも低くなる下降位置に駆動されている。それによって、上記第２の供給ノズル３４から基板Ｗに供給された洗浄液は基板Ｗの周辺部から飛散して上記カップ体３５の外側空間部３８に落下し、この外側空間部３８に接続された洗浄液排出管４１を通じて排出される。

基板Ｗを処理液Ｌによって処理しないときには上記供給管２５に設けられた切り換え弁２８が閉じられる。上記供給管２５には上記切り換え弁２８の近傍の、流れ方向の上流側に第１の戻り管４３の一端が接続されている。

上記第１の戻り管４３の他端は上記貯液槽１９に接続されている。この第１の戻り管４３にはヒータ４４とフィルタ４５が設けられている。上記切り換え弁２８が閉じられると、第２の供給ポンプ２６によって供給管２５に供給された貯液槽１９内の処理液Ｌは上記第１の戻り管４３を通じて上記貯液槽１９に戻される。その過程で、処理液Ｌはヒータ４４によって加熱されるとともに、フィルタ４５によって塵埃が除去されるから、清浄で、所定の温度に管理された処理液Ｌが上記貯液槽１９に貯えられることになる。

上記第１のドレンタンク４０には第２の戻り管４７の一端が接続されている。この第２の戻り管４７の他端は上記貯液槽１９に接続されている。第２の戻り管４７の中途部には第３の供給ポンプ４８とフィルタ４９が設けられている。それによって、上記カップ体３５から上記第１のドレンタンク４０に排出された処理液Ｌを上記貯液槽１９に戻すことができるようになっている。

上記硫酸タンク１５、貯液槽１９及び上記第１のドレンタンク４０はそれぞれ中途部に開閉弁５１を有するドレン配管５２によって第２のドレンタンク５３に接続されている。不要となった処理液Ｌは上記第２のドレンタンク５３に排出される。第２のドレンタンク５３には希釈液としての工業用水を供給する希釈管５４が接続されている。この希釈管５４から供給される希釈液によって処理液はたとえば２０倍程度に希釈及び冷却されてから廃棄されるようになっている。

上記硫酸タンク１５の底部と上記貯液槽１９の底部は、中途部に第４の供給ポンプ５７が設けられた戻り管５８によって接続されている。上記第４の供給ポンプ５７は制御装置２４に設けられた図示しないタイマによって所定時間毎に作動し、貯液槽１９の処理液Ｌを硫酸タンク１５に戻すようになっている。

上記貯液槽１９に貯えられた処理液Ｌは、経時変化によって酸化性の化学種が別の物質に変化し、洗浄効果が低下することがある。したがって、貯液槽１９の処理液Ｌを上記第４の供給ポンプ５７によって所定時間毎に硫酸タンク１５へ戻すことで、再生使用することができる。つまり、貯液槽１９に貯えられて経時変化した処理液Ｌは、再生使用したり、ドレン管５２によって廃棄することができる。

なお、上記第１乃至第３の供給ポンプ１３，２６，４８、開放弁２１、切換え弁２８及び各ドレン配管５２に設けられた開閉弁５１は上記制御装置２４によって開閉が制御されるようになっている。

上述した構成の電解槽１によれば、この電解槽１に形成された陰極室５と陽極室６とが接続管１７によって直列に接続されている。そのため、給液管１４に設けられた第１の供給ポンプ１３を作動させれば、硫酸タンク１５に収容された硫酸Ｓを上記陰極室５に供給してから、上記陽極室６に流して電気分解することができる。

すなわち、硫酸Ｓを第１の供給ポンプ１３によって陰極室５に供給するだけで、その硫酸Ｓを陽極室６に流して電気分解することができるから、陰極室５と陽極室６にそれぞれ硫酸Ｓを別々に供給する場合に比べて全体の構成を簡略化及び小型化することができる。

陽極室６で電気分解によって生成された溶液はモニタ２３によって特性が検出される。モニタ２３の検出信号によって制御装置２４は溶液の導電率や硫酸濃度などの特性を判定し、その判定に基いて上記第１の供給ポンプ１３によって上記電解槽１を流れる硫酸Ｓの単位時間当たりの流量を制御する。

それによって、硫酸Ｓが上記陽極室５で受ける単位流量当たりの電気分解の時間が制御されるから、その制御によって陽極室５で電気分解によって生成される溶液の特性が一定に維持されることになる。つまり、電解槽１によって硫酸Ｓを電気分解することで、一定の特性を備えた溶液を処理液Ｌとして貯液槽１９に貯えることができる。

上記貯液槽１９に貯えられた処理液Ｌは、スピン処理装置２の回転テーブル３２に保持された基板Ｗに向けて供給される。処理液Ｌによって処理された基板Ｗは洗浄液によって洗浄される。

上記処理液Ｌによる基板Ｗの処理は、硫酸タンク１５に貯えられる硫酸濃度が７０〜９８ｗｔ％であるときに好結果が得られ、とくに９０ｗｔ％のときの処理結果が最も良くなることが実験によって確認された。

上記スピン処理装置２のカップ体３５内には内カップ３６が設けられ、基板Ｗを処理液Ｌによって処理するときには内カップ３６を上昇させ、洗浄液によって処理するときには下降させることで、処理液Ｌと洗浄液を分離して回収することができる。そのため、回収された処理液Ｌは第２の戻り管４７によって貯液槽１９に戻して繰り返して使用することができるから、経済的である。

処理液Ｌを基板Ｗに供給しないときには、切換え弁２８を閉じることで、貯液槽１９から第２の供給ポンプ２６によって供給管２５に供給された処理液Ｌを第１の戻り管４３を通じて上記貯液槽１９に戻すことができる。つまり、処理液Ｌは使用されないときには第１の戻り管４３を流れて循環し、この第１の戻り管４３に設けられたヒータ４４によって所定の温度に維持される。

そのため、処理液Ｌが供給管２５に滞留して温度低下することがないから、切換え弁２８を開いて処理液Ｌの使用を再開するときには基板Ｗに所定の温度の処理液Ｌを直ちに供給することが可能となる。

この発明は上記一実施の形態に限定されるものでなく、たとえば基板を処理する処理装置はスピン処理装置に限られず、基板を水平搬送しながら処理する処理装置あるいは複数の基板を一度に処理液に浸漬させて処理するバッチ式処理装置などの他の処理装置であっても差し支えない。

この発明によれば、陰極室の硫酸の流出口と陽極室の流入口を接続管で接続し、この接続管を通じて硫酸タンクからポンプによって加圧された硫酸を陰極室に供給することで、この陰極室から陽極室に流れて電気分解されるようにした。

そのため、硫酸を陰極室に供給するだけで、その硫酸を陽極室で電気分解して酸化性の溶液を生成することができるから、硫酸を陰極室と陽極室とに別々に供給する場合に比べて構成の簡略化や小型化を図ることができる。

また、硫酸を陰極室から陽極室へ流すことで、陽極酸化により生成された酸化性の化学種が、その後に陰極に接触して還元され元の硫酸イオンに戻るということがないから、酸化性の化学種の生成効率が向上する。

Claims (9)

1. 硫酸を電気分解する電解装置であって、
   隔膜によって陰電極が設けられた陰極室と陽電極が設けられた陽極室とが隔別形成された電解槽と、
   上記硫酸が貯えられる硫酸タンクと、
   この硫酸タンクと上記陰極室の流入口を接続した給液管と、
   上記陰極室の流出口と上記陽極室の流入口を接続した接続管と、
   上記給液管に設けられ上記硫酸タンクの硫酸を上記陰極室に上記給液管を通じて供給する第１の供給ポンプと、
   上記陽極室の流出口に接続され電気分解によって上記陽極室で生成された酸化性の化学種を含む溶液を貯液槽に供給する排出管と
   を具備したことを特徴とする硫酸の電解装置。
2. 電気分解によって生成されて上記排出管を流れる酸化性の化学種を含む溶液の特性を測定する測定手段と、この測定手段の測定に基いて上記硫酸が上記電解槽によって電気分解される時間を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項１記載の硫酸の電解装置。
3. 上記制御手段は上記測定手段の測定に基いて上記溶液の特性が一定に維持されるよう上記供給ポンプによる上記硫酸の供給量を制御することを特徴とする請求項２記載の硫酸の電解装置。
4. 上記硫酸タンクに硫酸を供給する硫酸供給管と、上記硫酸タンクに硫酸を希釈する希釈液を供給する希釈液供給管と、上記硫酸供給管から供給される硫酸と上記希釈液供給管から供給される希釈液との量を制御して上記硫酸タンクに貯えられる硫酸の濃度を制御する制御手段を備えていることを特徴とする請求項１記載の硫酸の電解装置。
5. 隔膜によって陰電極が設けられた陰極室と陽電極が設けられた陽極室とが隔別形成された電解槽を用いて硫酸を電気分解する電解方法であって、
   上記硫酸を上記陰極室に供給する工程と、
   陰極室に供給された硫酸をこの陰極室から上記陽極室に供給する工程と、
   上記陽極室で生成された酸化性の化学種を含む溶液を上記陽極室から排出する工程と
   を具備したことを特徴とする硫酸の電気分解方法。
6. 硫酸を電気分解して生成された処理液によって基板を処理する処理装置であって、
   上記硫酸を電気分解して酸化性の化学種を含む溶液からなる上記処理液を生成する電解装置と、
   この電解装置で生成された酸化性の化学種を含む溶液を貯える貯液槽と、
   この貯液槽に貯えられた処理液によって上記基板を処理する処理部を具備し、
   上記電解装置は請求項１に記載された構成であることを特徴とする基板の処理装置。
7. 上記貯液槽に貯えられた処理液は第２の供給ポンプを有する供給管によって上記処理部に供給されるようになっているとともに、処理部で使用されないときには第１の戻り管を通じて上記貯液槽に戻されるようになっていて、
   上記戻り管には上記貯液槽に戻される処理液の温度を制御する加熱手段が設けられていることを特徴とする請求項６記載の基板の処理装置。
8. 上記処理部は上記基板を回転させながら上記処理液によって処理してから洗浄液で洗浄処理するスピン処理装置であって、
   上記処理液と洗浄液とは分離して回収され、回収された処理液は上記貯液槽に第２の戻り管を通じて戻される構成であることを特徴とする請求項６記載の基板の処理装置。
9. 酸化性の化学種はペルオキソ一硫酸またはペルオキソ二硫酸であることを特徴とする請求項６記載の基板の処理装置。

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