TWI694847B - 發光裝置的控制方法 - Google Patents

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Abstract

一種發光裝置的控制方法，包含下列步驟：依皮表下的受光部位設定一合適的光劑量範圍(1~4J/cm2)；依據所設定的光劑量、受光時間、及該光源至皮表之間的光束之形狀變化的比例計算光源的一理想光強度範圍；建立理想光強度範圍與對應皮表的一理想皮表光照度範圍的對應關係；生產上可測量皮表的一皮表光照度；並由皮表光照度監測光源的輸出光強度，以確保光源所輸出的光強度為目標設定的理想光強度。藉此，只需控制皮表光照度在設定的照度範圍內的任一光照度，即可讓發光裝置傳遞到受光部位的光劑量維持於所設定的光劑量。

Description

發光裝置的控制方法
本發明係與發光裝置有關；特別是指一種發光裝置的控制方法。
隨著醫學及科技的進步，近來已發展出一種發光裝置，利用光線照射於人體的受光部位，例如皮表下的組識，對人體引發生物反應。
習知的發光裝置的控制方式，只是讓其光源輸出一定的光強度，配合控制照光的時間，來控制光線照射於人體的受光部位。然而，由於光線在人體皮表以下傳遞的過程之中，光線會與皮表下的組織發生吸收、散射、折射等交互作用，使得受光部位之組織無法獲得適合的光劑量。光劑量過小，受光部位之組織無法獲得適合的光劑量；光劑量過高，反而會對受光部位造成傷害。
是以，習用的發光裝置之設計仍未臻完善，尚有待改進之處。
有鑑於此，本發明之目的在於提供一種發光裝置的控制方法，可以讓發光裝置發出的光強度為目標設定的理想光強度。
緣以達成上述目的，本發明提供的一種發光裝置的控制方法，其中該發光裝置包括一光源，該光源係可受控制而改變其光強度；該控制方法包含下列步驟：A.設定人體皮表下的一受光部位所需的一光劑量範圍；B.依據該光劑量範圍、一受光時間、及該光源至與該受光部位之皮表之間的光束之形狀變化的比例計算該光源所需輸出的一理想光強度範圍；C.建立該理想光強度範圍與對應該受光部位之皮表的一理想皮表光照度範圍的一對應關係；D.測量對應該受光部位之皮表的一皮表光照度，並依據所測得的該皮表光照度及該對應關係取得所測得的該皮表光照度所對應的該光源的一輸出光強度；E.依據步驟D中所取得的該輸出光強度與步驟B中的該理想光強度範圍控制該光源，使該光源所輸出之光強度與該理想光強度範圍相符。
本發明之效果在於，藉由設定受光部位所需的光劑量，計算光源所需的理想光強度範圍，進而藉由監控皮表光照度調整光源輸出的光強度，確保皮表下受光部位所受的光劑量在合適的範圍內。
〔本發明〕
1:發光裝置
10:本體
12:容室
20:控制電路
30:光源
32:出光面
40:電池
50:勻光罩
60:光檢知器
70:測試設備
2:發光裝置
3:發光裝置
80:握把
82:光檢知器
r1,r2:半徑
S:皮表
T:受光部位
S01~S05:步驟
圖1為本發明第一較佳實施例之發光裝置示意圖。
圖2為本發明上述較佳實施例之控制方法的流程圖。
圖3為一示意圖，揭示上述較佳實施例之發光裝置連接光檢知器及測試設備。
圖4為本發明第二較佳實施例之發光裝置示意圖。
圖5為本發明第三較佳實施例之發光裝置示意圖。
為能更清楚地說明本發明，茲舉較佳實施例並配合圖式詳細說明如後。請參圖1所示，為本發明第一較佳實施例之發光裝置的控制方法所應用的發光裝置1，該發光裝置1包含一本體10、一控制電路20、一光源30、一電池40、及一勻光罩50，其中：該本體10內部具有一容室12。該控制電路20設置於該本體10的容室12中，該光源30結合於該控制電路20的一側，且該光源30具有一出光面32，於本實施例中，該光源30包括有複數個發光二極體，各該發光二極體為波長600~650nm的紅光二極體，該出光面32為該些發光二極體所其同構成的一等效的出光面，且該控制電路20可控制調整該光源30輸出的光強度。該電池40連接於該控制電路20的另一側，以提供該控制電路20及光源30所需之電力。該勻光罩50結合於該本體10且位於該光源30出光面32的一側，用以供該出光面32所發出的光均勻透出。於本實施例中，勻光罩50的外表面是供貼靠於人體的皮表S，光線經由皮表S穿透到皮表S下的受光部位T。實務上，該光源亦可為OLED形成的面光源而具有出光面，採用OLED作為光源則可以省略勻光罩50。
本發明的控制方法包含有圖2所示之下列步驟：
步驟S01，首先，設定人體的受光部位T受光所需的一光劑量範圍。由於發光裝置1是藉由發出特定波長的光線照射於人體，以使人 體於皮表S下之受光部位T(例如受傷組織)吸收光線。除了波長之外，光劑量過小，受光部位之組織無法獲得適合的光劑量；光劑量過高，反而會對受光部位T造成傷害，因此，需選擇一個合適的光劑量範圍。本實施例中，考量了受光部位T於皮表S以下一預定距離的光損失，所選擇的光劑量範圍是同時適合皮表S及皮表S以下的受傷組織修復的光劑量。較佳者，受光部位T以皮表以下的受傷組織為例，受光部位T在紅光的波段之中所需的光劑量範圍為1~4J/cm2。考量光在皮表S下傳遞時的光損失率，光損失率是隨著皮表S至皮表S下受光部位T的距離增大而增加，皮表S至受光部位T的距離小於1mm，光損失率以40%例，則皮表劑量應為1.67~6.67J/cm2，即1/(1-40%)~4/(1-40%)J/cm2。若皮表S至受光部位的距離約為3mm時，光損失率以為90%例，則皮表劑量應為10~40J/cm2，即1/(1-90%)~4/(1-90%)J/cm2。實務上，可依據不同的受光部位T及不同波長的光源30選擇合適的光劑量範圍。
步驟S02，確定光劑量範圍之後，即可依據光劑量範圍配合一受光時間、以及該光源30至與該受光部位T之皮表S之間的光束之形狀變化的比例，計算該光源30所需輸出的一理想光強度範圍。計算得出的光源30輸出的該理想光強度範圍，可確保皮表S以下之受光部位T(皮表下的受傷組織)的光劑量範圍符合前述所設定的合適的光劑量範圍1~4J/cm2的範圍。本實施例中，該理想光強度範圍為0.275~6.6mW/cm2。考量可同時應用於近皮表S及皮表S下較深距離之受光部位T更適合之理想光強度範圍為1.1~1.65mW/cm2。
理想光強度範圍係依據下列算式計算：
Figure 107131058-A0305-02-0006-1
其中，P為光源30於理想光強度範圍的一理想光強度，其單位為mW/cm2；Dt為該光劑量範圍的一光劑量，其單位為J/cm2；ε為皮表S下一特定距離的光損失率；t為該受光時間；r1為該光源30之出光面32所發出的光束之半徑；r2為該受光部位T之皮表S上光束之半徑。r2對r1的比例即為該光源30至與該受光部位T之皮表S之間的光束之形狀變化的比例。可分別設定Dt為1J/cm2及4J/cm2代入算式中，得到光源30的理想光強度P的上限及下限，構成理想光強度範圍。
除了以光束之半徑作為基礎計算之外，亦可如下列算式以光束之面積作為基礎計算：
Figure 107131058-A0305-02-0007-2
其中，A1為該光源30之一出光面32所發出之光束的面積；A2為該受光部位T之皮表S上光束的面積。A2對A1的比例即為該光源30至與該受光部位T之皮表S之間的光束之形狀變化的比例。
對於發散光束如LED、OLED光源r2>r1(A2>A1)；對於平行光束如雷射光源r2=r1(A2=A1)。
藉此，可將上述其中一算式及所使用的各參數設定於控制電路20中，即可讓控制電路20運算出光源30之理想光強度範圍。實務上，在計算光源理想光強度範圍之前，亦可預先建立皮表S至受光部位T於不同的特定距離時的光損失率，並建立於控制電路20中，並設定可由控制電路20中選擇所需的該特定距離，即可達到依不同的特定距離，得到不同的光源30之理想光強度範圍。
步驟S03，建立該光源30之理想光強度範圍內與對應該受光部位T之皮表S的一理想皮表光照度範圍的一對應關係。本實施例中， 係建立複數個不同的預定皮表光照度及對應該些預定皮表光照度的複數個預定輸出光強度之關係，以形成該對應關係。其中，該光源30之理想光強度範圍包括該些預定輸出光強度，該理想皮表光照度範圍包括該些預定皮表光照度。
本實施例中，係在該光源S於該理想光強度範圍時，測量該理想光強度範圍中的各該預定輸出光強度及對應的各該預定皮表光照度，而建立為該對應關係。該對應關係的形式可為對應表、運算式、或圖表。該對應關係可為預先建立儲存於一記憶體。本實施例中，該記憶體是位於發光裝置1之外的一測試設備70中。
由於發光裝置1的勻光罩50是貼靠於皮表S，請配合圖3，本實施例中，係在發光裝置1放置於皮表S之前，先透過一光檢知器60檢測勻光罩50外表面處的照度，以對應該皮表光照度。
步驟S04，測量對應該受光部位T之皮表S的一皮表光照度，並依據本步驟所測得的該皮表光照度由步驟S03之對應關係取得皮表光照度所對應的該光源30目前的一輸出光強度。
本實施例中，該測試設備70連接位於發光裝置1外部的該光檢知器60及該控制電路20，由光檢知器60監測皮表光照度，該測試設備70可以依據該光檢知器60所測得的該皮表光照度，與記憶體中的對應表比對、或是由對應運算式計算、或比對圖表，得到對應的該光源30目前的輸出光強度。
而後，步驟S05，依據所取得的該光源30目前的該輸出光強度與理想光強度範圍比對，進而控制該光源30，使該光源30所輸出之光強度與該理想光強度範圍相符。本實施例中，係由該測試設備70將該皮表光照度所對應的輸出光強度傳送到該控制電路20中，由控制電路20 進行該輸出光強度與理想光強度範圍比對，再依據比對結果控制該光源30，藉此，可對該光源的光強度進行校正，藉由監控該皮表光照度以調整對應的該光源30達所需的輸出光強度。
如此一來，光檢知器60所測的該皮表光照度為在合適的範圍內的特定值，光源30所輸出之光強度符合該理想光強度範圍內的特定值，即可確保光源30所輸出之光強度在皮表S下特定距離的受光部位T可以受到合適特定的光劑量。換言之，由光檢知器60偵測皮表光照度後，再找出對應的輸出光強度，即可藉由調整光源30的光強度，確保該光源達到所需的輸出光強度，及達到所需之理想皮表光照度範圍的一該預定皮表光照度，以使皮表S之受光部位T得到理想的光劑量。
本實施例中，如r1=1.5cm,r2=2cm，由步驟S02之算式計算，受光時間為3小時，皮表下<1mm的光損失率為40%，皮表1~3mm的光損失率為90%，則理想的紅光630nm之光源的理想光強度範圍為0.275~6.6mW/cm2，對應的理想皮表光照度範圍為220~6700Lux。考量可同時應用於近皮表S及皮表S下較深距離之受光部位T，更適合之光源的理想光強度範圍為1.1~1.65mW/cm2，則對應的理想光照度範圍為570~1050Lux。藉此，只要調整光源輸出光強度(光源功率)，使皮表光照度在220~6700Lux.，或更佳之570~1050Lux.的範圍之內，即可確保本實施例的發光裝置1作用到人體受光部位T為合適的光劑量範圍。
最後再將該測試設備70及該光檢知器60自發光裝置1移除後，即可將發光裝置1貼靠於人體的皮表(圖1參照)，以對人體的受光部位T進行照光，並在該受光時間到達時控制光源30停止發光。
圖4所示為本發明第二較佳實施例之發光裝置2，其係以第一實施例之結構為基礎，不同的是，該些預定皮表光照度與該些預定 輸出光強度之對應關係是預先建立於控制電路20之中的記憶體。此外，光檢知器60是以可拆離的方式連接於控制電路。藉此，本實施例的控制方法與第一實施例的控制方法相同，只是在校正完成後將光檢知器60拆離發光裝置2。
圖5所示為本發明第三較佳實施例之發光裝置3，其與前述各實施例不同的是，該發光裝置3為手持式發光裝置，更包含有一握把80供人員握持。並且發光裝置3非貼附於皮表S，由於發光裝置3與皮表S的距離因不同使用習慣會有變動，為使皮表S的光照度可以維持固定，讓皮表S下的受光部位T可以維持在合適的光劑量，本實施例中，該發光裝置3更包括一光檢知器82，該光檢知器82電性連接該控制電路20，且光檢知器82用以檢測皮表S的光照度，並將光照度回傳至該控制電路20中。
本實施例的控制方法與第二實施例的控制方法類似，不同之處在於皮表S與光源30的距離為變動值，由於光源30輸出的理想光強度與距離有關，距離會影響皮表S上光束的半徑或面積而使皮表S之皮表照度增加(距離減少)或減少(距離增加)，因此，為使皮表的照度維持固定值，本實施例中，在步驟S04及S05是在該光源30至皮表S之間於一固定距離時進行(例如讓勻光罩50貼著皮表S時的距離)，調整光源30的光強度符合理想光強度範圍，此際，皮表光照度為理想皮表光照度範圍中對應該固定距離的一該預定皮表光照度。
本實施例的控制方法在步驟S05之後，更包括由光檢知器82測量該受光部位T之皮表S的光照度(於後定義為另一皮表光照度)，在所測得的該另一皮表光照度與理想皮表光照度範圍中對應該固定距離的一該預定皮表光照度不同時，控制電路20控制該光源30的光強度， 使該另一皮表光照度與對應該固定距離的一該預定皮表光照度相同。藉此，在手持時，即使發生光源30至皮表S距離不一時，仍可讓受光部位T維持於相同的光劑量。
舉例而言，當光源30與皮表S之間的距離增加，光檢知器82所測得的該另一皮表光照度會減少，此時，光檢知器82將檢測到的該另一皮表光照度回饋給控制電路20，控制電路20則依據預先建立的另一對應關係，控制該光源30的光強度增加，使光檢知器82所測得的該另一皮表光照度提升至與對應該固定距離的一該預定皮表光照度維持相同。其中，該另一對應關係為維持固定的皮表光照度，光源30在不同距離之光照度與光強度的對應關係，其目的是藉由調整光源30的輸出光強度，使該另一皮表光照度維持於與對應該固定距離的預定皮表光照度相符。藉此，在光源30與皮表S的距離有變動時，可讓皮表S下的受光部位T維持於相同的光劑量。
除了依據該另一對應關係控制光源30，亦可將以該另一皮表光照度作為回授，控制電路20直接即時對應調整光源30的光強度，使該另一皮表光照度維持於與對應該固定距離的一該預定皮表光照度相符。
據上所述，本發明之發光裝置的控制方法，選定受光部位所需的光劑量範圍，藉由監控測得的皮表光照度在設定的合適光照度下，進而控制光源輸出的光強度使受光部位可以接收到所需的光劑量，避免無謂的照光或光劑量過高而造成傷害。
以上所述僅為本發明較佳可行實施例而已，舉凡應用本發明說明書及申請專利範圍所為之等效變化，理應包含在本發明之專利範圍內。
S01~S05:步驟

Claims (10)

  1. 一種發光裝置的控制方法，其中該發光裝置包括一光源，該光源係可受控制而改變其光強度；該控制方法包含下列步驟：A.設定人體皮表下的一受光部位所需的一光劑量範圍；B.依據該光劑量範圍、一受光時間、及該光源至與該受光部位之皮表之間的光束之形狀變化的比例計算該光源所需輸出的一理想光強度範圍；C.建立該理想光強度範圍與對應該受光部位之皮表的一理想皮表光照度範圍的一對應關係；D.測量對應該受光部位之皮表的一皮表光照度，並依據所測得的該皮表光照度及該對應關係取得所測得的該皮表光照度所對應的該光源的一輸出光強度；E.依據步驟D中所取得的該輸出光強度與步驟B中的該理想光強度範圍控制該光源，使該光源所輸出之光強度與該理想光強度範圍相符。
  2. 如請求項1所述之發光裝置的控制方法，其中於步驟C中係建立複數個不同的預定皮表光照度及對應該些預定皮表光照度的複數個預定輸出光強度之關係，以形成該對應關係，其中，該理想皮表光照度範圍包括該些預定皮表光照度，該理想光強度範圍包括該些預定輸出光強度；步驟D中，該皮表光照度是對應該些預定皮表光照度之一者，該輸出光強度是對應該些預定輸出光強度之一者。
  3. 如請求項2所述之發光裝置的控制方法，其中步驟C中係在該光源於該理想光強度範圍時，測量各該預定輸出光強度及對應的各該預定皮表光照度。
  4. 如請求項2所述之發光裝置的控制方法，其中步驟D中，該皮表光照度是以該光源至皮表於一固定距離時，測量皮表的光照度而得；步驟E之後包含，測量該受光部位之皮表的另一皮表光照度，在所測得的該另一皮表光照度與該理想皮表光照度範圍中對應該固定距離的一該預定皮表光照度不同時，控制該光源的光強度，使該另一皮表光照度與對應該固定距離的一該預定皮表光照度相同。
  5. 如請求項1所述之發光裝置的控制方法，其中步驟A該光劑量範圍為1~4J/cm2。
  6. 如請求項1所述之發光裝置的控制方法，其中步驟B中該理想光強度範圍為0.275~6.6mW/cm2；步驟C中該理想皮表光照度範圍為220~6700Lux。
  7. 如請求項6所述之發光裝置的控制方法，其中步驟B中該理想光強度範圍為1.1~1.65mW/cm2；步驟C中該理想皮表光照度範圍為570~1050Lux。
  8. 如請求項1所述之發光裝置的控制方法，其中步驟A該受光部位為皮表以下之組識；其中步驟B中包含有，選擇該受光部位至皮表之間的一特定距離，並依據該特定距離、該光劑量範圍、該受光時間、及該光源至與該受光部位之皮表之間的光束之形狀變化的比例，計算對應的該理想光強度範圍。
  9. 如請求項8所述之發光裝置的控制方法，其中步驟B中該理想光強度範圍係依據下列算式計算：
    Figure 107131058-A0305-02-0014-5
     其中，P為該理想光強度範圍的一理想光強度，其單位為mW/cm2；Dt為該光劑量範圍的一光劑量，其單位為J/cm2；ε為皮表下該特定距離的光損失率；t為該受光時間；r1為該光源之一出光面所發出的光束之半徑；r2為該受光部位之皮表上光束之半徑。
  10. 如請求項8所述之發光裝置的控制方法，其中步驟B中該理想光強度範圍係依據下列算式計算：
    Figure 107131058-A0305-02-0015-6
     其中，P為該理想光強度範圍的一理想光強度，其單位為mW/cm2；Dt為該光劑量範圍的一光劑量，其單位為J/cm2；ε為皮表下該特定距離的光損失率；t為該受光時間；A1為該光源之一出光面所發出之光束的面積；A2為該受光部位之皮表上光束的面積。
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