TWI690103B

TWI690103B - 有機發光二極體顯示器

Info

Publication number: TWI690103B
Application number: TW105102666A
Authority: TW
Inventors: 金炳箕; 金熙京; 徐壹勳; 申榮俊; 鄭胤謨
Original assignee: 南韓商三星顯示器有限公司
Priority date: 2015-01-28
Filing date: 2016-01-28
Publication date: 2020-04-01
Also published as: US20160218324A1; KR20160093203A; CN105826352A; TW201639213A; CN105826352B; KR102335112B1; US9935293B2

Abstract

本發明揭露一種有機發光二極體顯示器，其包括：基板；位於基板上之閘極線；與閘極線交錯之資料線；與閘極線或資料線中之至少其一平行延伸之驅動電壓線；耦合於閘極線及資料線且包括第一半導體層之第一薄膜電晶體；耦合於第一薄膜電晶體和驅動電壓線且包括第二半導體層之第二薄膜電晶體；耦合於第二薄膜電晶體之有機發光元件；其中，閘極線、資料線和驅動電壓線之中之至少其一包括複數個層，且複數個層中之最下層包括以反射金屬製成之第一金屬層。

Description

有機發光二極體顯示器

本發明實施例態樣與有機發光二極體顯示器相關。

顯示裝置包括如：液晶顯示器(LCD)、電漿顯示面板(PDP)、有機發光二極體裝置(OLED裝置)、場效應顯示器(FED)、電泳顯示裝置(electrophoretic display device)等。

有機發光二極體裝置包括兩個電極及置於其間之有機發光層，其中有機發光層在從一電極注入的電子與從另一電極注入的電洞在有機發光層相互耦合以形成的激子並放射能量時發光。

有機發光二極體裝置與液晶顯示器不同，因為有機發光二極體裝置具有自體發光特性而不需要另外的光源，因此與液晶顯示器相比，有機發光二極體裝置的厚度重量可相對地小。再者，因為有機發光二極體裝置具有如低功率消耗、高亮度及高反應速度等高品質特性，有機發光二極體裝置受重視而成為次世代的顯示裝置。

然而，在有機發光二極體裝置中，像素往往會隨時間而劣化，而為了增進或維持影像品質，有機發光二極體裝置會修正或補償像素的劣化。舉例來說，像素所發射的光會由光學感測單元接收以分析及修正。

然而，若像素發射的光沒有傳送到光學感測單元，則劣化的像素無法被修正。

以上於“先前技術”中所揭露的訊息僅用於增進對本發明背景技術的瞭解，因此可能包含不構成先前技術的訊息。

本發明致力於提供有機發光二極體裝置，係具有將像素發出的光無消散地傳輸到光學感測單元，從而修正劣化的像素的特性。

根據示例實施例的樣態，有機發光二極體顯示器包括：基板、在基板上之閘極線、與閘極線交錯之資料線、至少與閘極線或資料線其中之一平行延伸之驅動電壓線、與閘極線及資料線耦合且包括第一半導體層之第一薄膜電晶體、與第一薄膜電晶體及驅動電壓線耦合且包括第二半導體層之第二薄膜電晶體、以及與第二薄膜電晶體耦合之有機發光元件，其中閘極線、資料線及驅動電壓線中之至少其一包括複數個層，且複數個層之最下層包括由反射金屬製成的第一金屬層。

複數個層可進一步包括形成於第一金屬層上之第二金屬層。

第一金屬層可包括鋁(Al)、銀(Ag)或銅(Cu)中之至少其一。

第二金屬層可包括鉬(Mo)或鈦(Ti)中之至少其一。

複數個層的第一金屬層及第二金屬層可以交替的順序配置。

有機發光二極體顯示器可進一步包括透明金屬層於第一金屬層下。

透明金屬層可包括氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅(IZO)中之至少其一。

有機發光二極體顯示器可進一步包括光反射圖樣於基板上未與閘極線、資料線及驅動電壓線重疊的區域上。

光反射圖樣可與閘極線、資料線、驅動電壓線中之至少其一形成於相同層上。

光反射圖樣可包括由反射金屬製成之第三金屬層及置於第三金屬層上之第四金屬層。

第三金屬層可包括鋁(Al)、銀(Ag)或銅(Cu)中之至少其一。

第四金屬層可包括鉬(Mo)或鈦(Ti)中之至少其一。

光反射圖樣的第三及第四金屬層可以交替的順序配置。

有機發光二極體可進一步包括透明金屬層於光反射圖樣下方。

根據本發明示例實施例之態樣，其可避免或減少像素發出的光在傳輸至光學感測單元時被消散。

110、210:基板

120:緩衝層

121、121a:閘極線

125a:切換閘極電極

125b:驅動閘極電極

128:第一電容電極

1355:通道區域

1356:源極區域

1357:汲極區域

135a、135b:半導體層

140:閘極絕緣層

160:層間絕緣層

171:資料線

172:驅動電壓線

176a:切換源極電極

176b:驅動源極電極

177a:切換汲極電極

177b:驅動汲極電極

178:第二電容電極

180:鈍化層

181:接觸孔

220、LD:有機發光元件

230:窗

300、310、400:光反射圖樣

30a:第一金屬層

30b:第二金屬層

33:透明金屬層

350:像素定義層

500:光學感測單元

600:光導板

61:源極接觸孔

62:汲極接觸孔

63:儲存接觸孔

70:有機發光二極體

710:像素電極

720:有機發光層

730:共同電極

Cst:電容

ELVSS:共同電壓

Id:輸出電流

N1:控制端

N2、N4:輸入端

N3:端

N5:輸出端

PX:像素

PX1、PX2、PX3:子像素

T1:切換電晶體

T2:驅動電晶體

第1圖為根據本發明示例實施例，描繪有機發光二極體顯示器的佈局示意圖。

第2圖為根據本發明示例實施例，描繪有機發光二極體顯示器之導線的層疊結構之剖面圖。

第3圖為根據本發明示例實施例，描繪有機發光二極體顯示器之導線的層疊結構之圖式。

第4圖為根據本發明示例實施例，描繪將有機發光元件中所產生之光傳遞到光學感測單元的過程圖。

第5圖為根據本發明示例實施例之有機發光二極體顯示器之一個像素的等效電路圖。

第6圖為描繪根據本發明示例實施例，描繪有機發光二極體顯示器之一個像素的佈局圖。

第7圖為沿著第6圖之線VII-VII截取之有機發光二極體顯示器的剖面圖。

第8圖為沿著第6圖之線VIII-VIII截取之有機發光二極體顯示器的剖面圖。

第9圖為根據如第8圖所示的本發明示例實施例之有機發光二極體顯示器的剖面圖。

第10圖為根據本發明示例實施例，描繪有機發光二極體顯示器之一個像素的佈局圖。

第11圖為沿著第10圖之線XI-XI截取之有機發光二極體顯示器的剖面圖。

第12圖為根據如第11圖所示的本發明示例實施例之有機發光二極體顯示器的剖面圖。

在下文中將參照附圖詳細說明示例實施例。如所屬技術領域具有通常知識者可瞭解的，在不偏離本發明的精神與範疇下，所述實施例可以各種不同之方式修改。反之，提供本文所引用之示例實施例以使所揭露的內容全面且完整，並充分的將本發明的精神傳遞給所屬技術領域具有通常知識者。

在圖式中，層、膜、面板、區域等的厚度為了明確而誇大。應瞭解當層被稱為在其他層或基板“上”時，其可以直接在其他層或基板之上或亦可存在中間元件。在整份說明書中，相同的元件符號表示相同的元件。

應瞭解當元件或層被稱為在另一元件或層“上”或“連接於”或“耦合於”另一元件或層時，其可直接地在另一元件或層上或直接地連接於或耦合於另一元件或層，或可存在一或多個中間元件或層。此外，亦應瞭解當元件或層被稱為在兩個元件或層之間時，其可為兩個元件或層之間之唯一元件或層，但亦可存在一或多個中間元件或層。

這裡所使用的專業術語，其目的只是為了描述特定的實施例，而不意圖為本發明的限制。在此所使用的單數型“一(a)”及“一(an)”，其也意在包括複數型，除非在上下文中有其他明確的指示。將更進一步瞭解的是，當用語“包括(comprises)”、“包括(comprising)”、“包含(includes)”或“包含(including)”使用於說明書中時，表明所述特徵、整體、步驟、操作、元件及/或構件的存在，但並不排除存在或增加一個或多個其他特徵、整體、步驟、操作、元件、構件及/或其群組。在此所使用的“及/或(and/or)”包括一個或多個相關所列項目的任何和所有組合。措辭如“中之至少其一(at least one of)”當綴於元件列表後時，其修飾整個元件列表而非修飾元件列表中的單一元件。

在此所使用的用語“實質上(substantially)”、“大約(about)”等係用作為近似用語而非程度用語，其意在計入所屬技術領域具有通常知識者所認識的量測或計算值的固有誤差。再者，在描述本發明的實施例時所用的“可(may)”係指“本發明一個或多個實施例(one or more embodiments of the present invention)”。本文中所用的“使用(use)”、“使用(using)”及“使用(used)”可分別被認為係“利用(utilize)”、“利用(utilizing)”及“利用(utilized)”的同義詞。用語“例示性(exemplary)”意指示例或舉例。

除非另外定義，此處所有用詞(包括技術和科學用詞)具有與本發明所屬技術領域具通常技能者所通知的用詞相同之意義。將更進一步瞭解到的是，定義在常用字典的用語應理解成與相關技術領域或本發明說明書上下文具一致性的意義，而不應理解成理想化或過於正式的意義，除非在說明書中如此明確的定義。

在下文中將參考第1-4圖描述根據示例實施例之有機發光二極體顯示器。

第1圖為描繪有機發光二極體顯示器之佈局示意圖；第2圖為描繪根據本發明第一示例實施例之有機發光二極體顯示器之導線的層疊結構之剖面圖；第3圖為描繪根據本發明第一示例實施例之修改例的有機發光二極體顯示器之導線的層疊結構之圖式；及第4圖為描繪將有機發光元件中產生之光傳遞到光學感測單元的過程圖。

參照第1圖，根據示例實施例的有機發光二極體顯示器，包括：有機發光元件、閘極線121、資料線171及驅動電壓線172。

有機發光元件係耦合至閘極線121、資料線171及驅動電壓線172以發光，從而顯示影像。有機發光元件由複數個子像素PX1、PX2及PX3所配置而成。子像素PX1、PX2及PX3可分別對應為紅色子像素、綠色子像素及藍色子像素。

有機發光元件可包括有機材料，其僅發射如紅色、綠色及藍色三原色中之任何一種原色或一或多種原色；有機發光二極體顯示器藉由顏色在空間的加總，顯示出所需的影像。

傳輸掃描訊號且實質上延伸於列方向之閘極線121實質上平行於彼此地配置，且可用具有導電性之金屬或其他合適的導電材料所製成。此外，資料線171傳輸資料訊號，與閘極線121交錯而於實質上行方向延伸且可實質上平行於彼此地配置。與閘極線121類似地，資料線171亦可由具導電性的金屬或其他合適的導電材料所製成。

驅動電壓線172傳輸驅動電壓，且可與閘極線121或資料線171中之至少其一平行配置。在本發明之示例實施例中，驅動電壓線172與資料線171平行配置以於實質上行方向延伸。在本例中，驅動電壓線172亦可由具導電性的金屬所製成。

根據本發明第一示例實施例，閘極線121、資料線171及驅動電壓線172中之至少其一可由複數個層形成。在本例中，反射金屬層形成或配置在複數個層的最下層上。反射金屬層係形成或配置在複數個層的最下層上以反射自有機發光元件射出的光。有機發光元件射出的光不被吸收，而是被反射金屬層反射以將光傳輸至光學感測單元500，其將於以下說明。將光傳輸至光學感測單元500的過程將於下說明。

參照第2圖(A)，根據第一示例實施例之有機發光二極體顯示器的一個導線包括：於基板上110的第一金屬層30a及第二金屬層30b。

第一金屬層30a作為位於導線最底部的金屬層，可以上述之反射金屬製成。舉例來說，第一金屬層30a可包括鋁(Al)、銀(Ag)或銅(Cu)中之至少其一。亦即，第一金屬層可僅由所述金屬中之其中一種金屬形成或由兩種或兩種以上之所述金屬結合形成。

第二金屬層30b可包括鉬(Mo)或鈦(Ti)中之至少其一。亦即，第二金屬層30b可由所述金屬中之其中一種金屬形成或可由兩種或兩種以上之所述金屬結合形成。

舉例來說，根據本發明的一些示例實施例，第一金屬層和第二金屬層各可由鋁(Al)和鉬(Mo)所製成。

同時，在本發明的第一示例實施例中，上述第一金屬層30a及第二金屬層30b可交替形成。參照第2圖(B)，第一金屬層及第二金屬層可交替層疊兩次。舉例來說，導線可藉由依序層疊鋁/鉬/鋁/鉬而形成。如第2圖(C)所示，第一金屬層30a及第二金屬層30b可交替層疊三次。在本例中，導線可藉由依序層疊鋁/鉬/鋁/鉬/鋁/鉬而形成。因為第一金屬層30a及第二金屬層30b可交替形成，在形成導線圖樣的蝕刻製程中，可減少或避免在金屬層上產生的底切或類似的情況。

同時參照第3圖，可進一步包括透明金屬層33於第一金屬層30a下。透明金屬層33避免或減少第一金屬層30a中包含的金屬材料擴散至下部的情況。透明金屬層33避免或減少位於導線最下部的第一金屬層30a直接接觸位於下部的絕緣層的情況。亦即，藉由透明金屬層33，可避免第一金屬層30a中包含的金屬材料擴散至絕緣層。舉例來說，透明金屬層33可避免或減少在第一金屬層30a中包含的鋁(Al)擴散進入位於導線下的絕緣層的情況。

在本例中，透明金屬層33由透明金屬製成以仍反射從有機發光元件發出的光。在本發明中，透明金屬層33可由氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅(IZO)所製成。

參照回第1圖，根據第二及第三示例實施例之有機發光二極體顯示器可進一步包括光反射圖樣300及400。光反射圖樣300及400配置在有機發光二極體顯示器中不與閘極線121、資料線171及驅動電壓線172重疊的區域。光反射圖樣300及400可反射自有機發光元件所發出的光。如上所述，除了閘極線121、資料線171及驅動電壓線172中之至少其一的最下層是由反射金屬所製成以外，額外地配置光反射圖樣300及400在區域中，從而更有效率的反射自有機發光元件所發出的光。其中配置有光反射圖樣300及400的有機發光二極體顯示器的佈局圖，將參照第5至12圖於下更仔細地說明。

光反射圖樣300及400可與閘極線121、資料線171及驅動電壓線172中之至少其一形成在同一層上。舉例來說，光反射圖樣300及400可形成在與閘極線121所在的相同層上。在此例中，光反射圖樣300及400可藉由與閘極線121相同的結構形成，其由前述之第一金屬層30a與第二金屬層30b所構成。

此外，光反射圖樣300及400也可藉由與前述相同之結構形成在與資料線171或驅動電壓線172所在之相同層上。

根據本發明之一些實施例，光反射圖樣300及400包括：第三金屬層和第四金屬層。光反射圖樣300及400之第三金屬層和第四金屬層分別對應於上述之第一金屬層30a和第二金屬層30b。

亦即，第三金屬層可以反射金屬製成。舉例來說，第三金屬層可包含鋁(Al)、銀(Ag)或銅(Cu)中之至少其一。亦即，第三金屬層可由所述金屬中之其中一種金屬所形成或可由所述金屬中之兩種或兩種以上結合形成。

第四金屬層可包含鉬(Mo)或鈦(Ti)中之至少其一。亦即，第四金屬層可由所述金屬中之其中一種金屬所形成或可由所述金屬中之兩種或兩種以上結合形成。

根據本發明的一些實施例，第三金屬層和第四金屬層各可由鋁(Al)和鉬(Mo)所製成。

同時，在本發明第二及第三示例實施例中，上述第三金屬層和第四金屬層可交替形成，如第3圖(A)。舉例來說，第三金屬層和第四金屬層可交替層疊兩次，如第3圖(B)。在本例中，光反射圖樣300及400可依序或以交替的順序層疊鋁/鉬/鋁/鉬而形成。或者，第三金屬層和第四金屬層亦可交替層疊三次。在本例中，光反射圖樣可依序或以交替的順序層疊鋁/鉬/鋁/鉬/鋁 /鉬而形成。因為第三金屬層及第四金屬層可交替形成，在其中形成圖樣的蝕刻製程中，可避免或減少形成在金屬層上的底切情況。

再者，透明金屬層可形成於光反射圖樣300及400的第三金屬層之下。光反射圖樣300及400之透明金屬層對應於位在前述導線下的透明金屬層33。

亦即，透明金屬層可避免或減少第三金屬層中包含之金屬材料擴散進下部的情況。透明金屬層可避免或減少位於導線最下部的第三金屬層直接接觸位於下部的絕緣層的情況。透明金屬層可避免或減少第三金屬層中包含的金屬材料擴散進絕緣層的情況。舉例來說，透明金屬層可避免或減少第三金屬層中包含的鋁(Al)擴散進位於導線下的絕緣層的情況。

在此例中，透明金屬層由透明金屬或導電材料製成以反射自有機發光元件所發出的光。在本發明中，透明金屬或導電材料層可由氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅(IZO)所製成。

同時參照第4圖，有機發光二極體顯示器可包含光學感測單元500。光學感測單元500配置在有機發光二極體顯示器的顯示面板的周邊以接收自有機發光元件所發出的光。光學感測單元500通過所接受的光量測光的亮度以偵測複數個有機發光元件中具體的劣化有機發光元件或判斷具體的劣化有機發光元件的位置。同時，劣化的有機發光元件可藉由與光學感測單元500耦合(電性耦合或電子通信)的控制器來校正以發出正常光。

在頂部發光顯示器中，自有機發光元件220發出的光可向前方經過窗230放出。此外，自有機發光元件220放射的光的一部分可向後放出。藉由重複向後發出的光被反射至位於最下部的的光導板600，且經反射的光被由前述反射層製成的金屬導線所在之基板210再次反射之過程，光可到達光學感測單元500。

根據本發明第一至第三示例實施例，閘極線121、資料線171、驅動電壓線172中之至少其一的下部是由反射金屬或反射導體材料所製成，光反射圖樣300及400配置在未形成有閘極線121、資料線171、和驅動電壓線172的區域，且因此自有機發光元件發出的光可到達光學感測單元500。

在下文中，根據本發明第四示例實施例的有機發光二極體顯示器中，其中形成光反射圖樣300及400的結構將參照第5至9圖更詳細說明。

第5圖為有機發光二極體顯示器的一個像素的等效電路圖，第6圖為顯示根據本發明第四示例實施例之有機發光二極體顯示器的一個像素的佈局圖，第7圖為沿著第6圖之線VII-VII截取之有機發光二極體顯示器的剖面圖，第8圖為沿著第6圖之線VIII-VIII截取之有機發光二極體顯示器的剖面圖，而第9圖為根據如第8圖所示的第四示例實施例的修改例之有機發光二極體顯示器的剖面圖。

參照第5圖，有機發光二極體顯示器包括複數個訊號線及與其耦合的像素PX。此處，像素PX可為紅色像素R、綠色像素G和藍色像素B的其中之一。

訊號線包括：傳輸掃描訊號的閘極線121、傳輸資料訊號的資料線171及傳輸驅動訊號的驅動電壓線172等。

閘極線121在實質上列方向上延伸且彼此實質上平行，資料線171在實質上行方向上延伸且彼此實質上平行。驅動電壓線172在實質上行方向上延伸，但亦可在行或列方向延伸或形成為網狀。

在本例中，一個像素PX包括：切換電晶體T1及驅動電晶體T2、儲存電容Cst和有機發光元件LD。像素可進一步包括：薄膜電晶體和電容，以補償提供至有機發光元件的電流。

切換電晶體T1包括控制端N1、輸入端N2及輸出端N3。在本例中，控制端N1耦合於閘極線121；輸入端N2耦合於資料線171；輸出端N3耦合驅動電晶體T2。

響應自閘極線121接收的掃描訊號，切換電晶體T1將自資料線171接收的資料訊號傳輸至驅動電晶體T2。

此外，驅動電晶體T2亦包括控制端N3、輸入端N4及輸出端N5。在本例中，控制端N3耦合至切換電晶體T1；輸入端N4耦合至驅動電壓線172；輸出端N5耦合至有機發光元件LD。

根據施加於控制端N3與輸出端N5之間的電壓，驅動電晶體T2傳輸不同大小的輸出電流Id。

在此例中，電容Cst耦合於驅動電晶體T2的控制端N3與輸入端N4之間。此處，電容Cst充入施加到驅動電晶體T2的控制端N3的資料訊號，並在即使切換電晶體T1關閉時，仍保持充入的資料訊號。

同時，有機發光元件LD，如有機發光二極體(OLED)，具有耦合至驅動電晶體T2的輸出端N5之陽極，及係耦合至共同電壓ELVSS之陰極。有機發光元件LD藉由根據驅動電晶體T2之輸出電流Id改變發出之光強度以顯示影像。

有機發光元件LD可包括：僅發射如紅色、綠色及藍色三原色中之任何一種原色或一或多種原色之有機材料，且有機發光二極體藉由顏色在空間的加總，顯示所需的影像。

切換電晶體T1和驅動電晶體T2為n通道場效電晶體(FET)，但其中之至少其一可為p通道場效電晶體(FET)。再者，可以改變電晶體T1、電晶體T2、電容Cst和有機發光元件LD間的連接關係。

將參照第6至9圖更仔細的說明根據第四示例實施例的有機發光二極體顯示器的結構。

參照第6至8圖，基板110可由絕緣基板所構成，其由任何合適的絕緣基板材料如玻璃、石英、陶瓷、塑膠等所製成。

此外，緩衝層120形成在基板110上。緩衝層120可形成為由氮化矽(SiNx)之單層結構或其中層疊氮化矽(SiNx)及氧化矽(SiO₂)的雙層結構。緩衝層120係用以平坦化表面同時避免不必要的成分如雜質或水分滲入。

切換半導體層135a和驅動半導體層135b形成於緩衝層120上並相互分隔開。

半導體層135a及135b可由多晶矽和氧化物半導體所製成。在本例中，氧化物半導體可包括以鈦(Ti)、鉿(Hf)、鋯(Zr)、鋁(Al)、鉭(Ta)、鍺(Ge)、鋅(Zn)、鎵(Ga)、錫(Sn)、或銦(In)中之任一為基礎之氧化物及氧化銦鎵鋅(InGaZnO4)、氧化銦鋅(Zn-In-O)、氧化鋅錫(Zn-Sn-O)、氧化銦鎵(In-Ga-O)、氧化銦錫(In-Sn-O)、氧化銦-鋯(In-Zr-O)、氧化銦-鋯-鋅(In-Zr-Zn-O)、氧化銦-鋯-錫(In-Zr-Sn-O)、氧化銦-鋯-鎵(In-Zr-Ga-O)、氧化銦-鋁(In-Al-O)、氧化銦-鋅-鋁(In-Zn-Al-O)、氧化銦-錫-鋁(In-Sn-Al-O)、氧化銦-鋁-鎵(In-Al-Ga-O)、氧化銦鉭(In-Ta-O)、氧化銦-鉭-鋅(In-Ta-Zn-O)、氧化銦-鉭-錫(In-Ta-Sn-O)、氧化銦-鉭-鎵(In-Ta-Ga-O)、氧化銦-鍺(In-Ge-O)、氧化銦-鍺-鋅(In-Ge-Zn-O)、氧化銦-鍺-錫(In-Ge-Sn-O)、氧化銦-鍺-鎵(In-Ge-Ga-O)、氧化鈦-銦-鋅(Ti-In-Zn-O)或氧化鉿-銦-鋅(Hf-In-Zn-O)之其氧化物複合物。

在半導體層135a及135b以氧化物半導體構成的例子中，另可增加鈍化層以保護易受外界環境如高溫所影響的氧化物半導體。

半導體層135a及135b包括未摻雜質的通道區域及當雜質摻雜在通道兩側所形成的源極區域和汲極區域。此處，雜質根據薄膜電晶體的種類而改變，其可為N型雜質或P型雜質。

切換半導體層135a和驅動半導體層135b被劃分成通道區域1355及形成在通道區域1355兩側的源極區域1356與汲極區域1357。

切換半導體層135a和驅動半導體層135b的通道區域1355可包括其上未摻雜雜質的多晶矽，也就是本徵半導體。

此外，切換半導體層135a和驅動半導體層135b的源極區域1356與汲極區域1357可包括其上摻雜有雜質的多晶矽，也就是雜質半導體。

閘極絕緣層140形成在切換半導體層135a和驅動半導體層135b上。閘極絕緣層140可為單層或多層，其包括氮化矽及氧化矽中之至少其一。

參照第7圖，形成閘極線121a、切換閘極電極125a及第一電容電極128於閘極絕緣層140上。

閘極線121在水平方向延伸以傳輸掃描訊號至切換電晶體T1。在本例中，閘極線121包括突出至切換半導體層135a的切換閘極電極125a。

驅動閘極電極125b從第一電容電極128突出至驅動半導體層135b。切換閘極電極125a及驅動閘極電極125b各與通道區域1355重疊。

同時，形成層間絕緣層160在閘極線121、驅動閘極電極125b及第一電容電極128上。與閘極絕緣層140相同，層間絕緣層160可以氮化矽或氧化矽等形成。

層間絕緣層160和閘極絕緣層140中，分別形成暴露源極區域1356及汲極區域1357之源極接觸孔61及汲極接觸孔62，並形成暴露第一電容電極128之儲存接觸孔63。

在層間絕緣層160上形成：具有切換源極電極176a的資料線171、具有驅動源極電極176b及第二電容電極178之驅動電壓線172及與第一電容電極128耦合的切換汲極電極177a及驅動汲極電極177b。

資料線171傳輸資料訊號，並於一方向上延伸以與閘極線121交錯。驅動電壓線172傳輸驅動電壓，並與資料線171分開以在與資料線171相同之方向上延伸。

切換源極電極176a從資料線171向切換半導體層135a突出，驅動源極電極176b從驅動電壓線172向驅動半導體層135b突出。

切換源極電極176a及驅動源極電極176b各藉由源極接觸孔61與源極區域1356耦合。切換汲極電極177a面向切換源極電極176a，且驅動汲極電極177b面向驅動源極電極176b。

此外，切換汲極電極177a和驅動汲極電極177b各藉由汲極接觸孔62與汲極區域1357耦合。

切換汲極電極177a延伸以藉由形成於層間絕緣層160中之儲存接觸孔63與第一電容電極128及驅動閘極電極125b耦合。

第二電容電極178從驅動電壓線172突出以與第一電容電極128重疊。據此，第一電容電極128及第二電容電極178利用層間絕緣層160作為介電材料以形成儲存電容Cst。

切換半導體層135a、切換閘極電極125a、切換源極電極176a和切換汲極電極177a形成切換電晶體T1。同時，驅動半導體層135b、驅動閘極電極125b、驅動源極電極176b和驅動汲極電極177b形成驅動電晶體T2。

切換電晶體T1和驅動電晶體T2對應於切換元件。

在切換源極電極176a、驅動源極電極176b、切換汲極電極177a和驅動汲極電極177b上形成鈍化層180。

像素電極710形成於鈍化層180上。在本例中，像素電極710可以透明導電材料形成，如氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)或氧化銦(In₂O₃)，或以反射金屬形成，如鋰(Li)、鈣(Ca)、氟化鋰/鈣(LiF/Ca)、氟化鋰/鋁(LiF/Al)、鋁(Al)、銀(Ag)、鎂(Mg)或金(Au)。

像素電極710經由形成在鈍化層180中之接觸孔181電性耦合於驅動電晶體T2的驅動汲極電極177b以變成有機發光二極體70之陽極。

像素定義層350形成在鈍化層180及像素電極710的邊緣部上。像素定義層350具有暴露像素電極710之開口。像素定義層350可包括樹脂(resin)如：聚丙烯酸酯(polyacrylates)或聚亞醯胺(polyimides)、二氧化矽類無機材料等。

有機發光層720形成在像素定義層350的開口中。有機發光層720以多層構成，其包括：電洞注入層(HIL)、電洞傳輸層(HTL)、電子傳輸層(ETL)、電子注入層(EIL)及發光層中之一或多層。

當有機發光層720包括所有所述之層時，電洞注入層位於為陽極的像素電極710上，而電洞傳輸層、發光層、電子傳輸層及電子注入層可依序層疊於其上。

有機發光層720可包括發出紅光之紅色有機發光層、發出綠光之綠色有機發光層、及發出藍光之藍色有機發光層。紅色有機發光層、綠色有機發光層及藍色有機發光層分別形成在紅色像素、綠色像素及藍色像素中，從而實現彩色影像。

再者，在有機發光層720中，所有紅色有機發光層、綠色有機發光層及藍色有機發光層一起層疊在紅色像素、綠色像素及藍色像素上，且紅色色彩濾光器、綠色色彩濾光器及藍色色彩濾光器形成在各像素，從而實現彩色影像。

在其他例子中，形成發出白光的白色有機發光層在紅色像素、綠色像素及藍色像素中之每一個中，並形成紅色色彩濾光器、綠色色彩濾光器及藍色色彩濾光器在每一個像素，從而實現彩色影像。在使用白色有機發光層和色彩濾光器以實現彩色影像的例子中，則不需要使用用以沉積紅色有機發光層、綠色有機發光層及藍色有機發光層在個別像素，即紅色像素、綠色像素及藍色像素的沉積遮罩。

在其他例子中所描述的白色有機發光層可以由一層有機發光層所構成，亦可包括藉由層疊複數個有機發光層形成以發出白光的配置。舉例來說，白色有機發光層可包含：可藉由組合至少一黃色有機發光層和至少一藍色有機發光層以發出白光的配置、藉由組合至少一青色有機發光層和至少一紅色有機發光層以發出白光的配置、藉由組合至少一品紅色(magenta)和至少一綠色有機發光層以發出白光的配置等。

共同電極730形成在像素定義層350及有機發光層720上。共同電極730可以透明導電材料製成，如：氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅、氧化鋅(ZnO)、氧化銦(In₂O₃)或以反射金屬製成，如：鋰(Li)、鈣(Ca)、氟化鋰/鈣(LiF/Ca)、氟化鋰/鋁(LiF/Al)、鋁(Al)、銀(Ag)、鎂(Mg)或金(Au)。共同電極730成為有機發光二極體70之陰極。像素電極710、有機發光層720及共同電極730構成有機發光二極體70。

保護有機發光二極體70之覆蓋層可形成在共同電極730上。

參照第6及8圖，在本發明之第四示例實施例中，光反射圖樣300形成在像素中不與閘極線121、資料線171及驅動電壓線172重疊的區域。在本例中，光反射圖樣300可置於像素電極710和閘極線121之間。

此外，光反射圖樣300可與資料線171形成在相同層上。光反射圖樣300及400可藉由與資料線171相同之結構形成，其藉由前述之第一金屬層30a及第二金屬層30b構成。

光反射圖樣300及400包括如前述之第三金屬層和第四金屬層。第三金屬層可以反射金屬製成。舉例來說，第三金屬層可包含鋁(Al)、銀(Ag)或銅(Cu)中之至少其一。亦即，第三金屬層可僅由所述金屬中之其中一種金屬形成或由兩種或兩種以上之所述金屬結合形成。

第四金屬層可包含鉬(Mo)或鈦(Ti)中之至少其一。亦即，第四金屬層可僅由所述金屬中之其中一種金屬形成或由兩種或兩種以上之所述金屬結合形成。

根據本發明之一些示例實施例，第三金屬層和第四金屬層各可由鋁(Al)和鉬(Mo)所製成。

同時，第三金屬層和第四金屬層可交替形成。舉例來說，第三金屬層和第四金屬層可交替層疊兩次。在本例中，光反射圖樣300及400可依序或以交替的順序層疊鋁/鉬/鋁/鉬層疊而形成。或者，第三金屬層和第四金屬層亦可交替形成三次。在本例中，光反射圖樣可依序或以交替的順序層疊鋁/鉬/鋁/鉬/鋁/鉬而形成。因為第三金屬層及第四金屬層可交替形成，在形成圖樣的蝕刻製程中，可避免或減少形成在金屬層上的底切的情況。

再者，透明金屬層可形成於光反射圖樣300及400的第三金屬層之下。亦即，透明金屬層避免或減少第三金屬層中所包含之金屬材料擴散進下部的情況。透明金屬層避免或減少位於導線最下部的第三金屬層直接接觸位於下部的絕緣層的情況。透明金屬層可避免或減少第三金屬層中所包含的金屬材料擴散進絕緣層的情況。舉例來說，透明金屬層可避免或減少第三金屬層中所包含的鋁(Al)擴散進位於導線下的絕緣層的情況。

在本例中，透明金屬層以透明金屬製成以反射自有機發光元件所發出的光。在本發明中，透明金屬層可由氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅(IZO)所製成。

參照第9圖，作為本發明第四示例實施例的修改例，光反射圖樣310可與閘極線121形成在相同層上。亦即，在第9圖中光反射圖樣310形成的位置與在第8圖中不同。然而，光反射圖樣310的層疊結構與前述的光反射圖樣300相同。因此省略其詳細說明。

在下文中，將參照第10至12圖說明根據第五實施例的有機發光二極體顯示器。當描述根據本發明第五示例實施例的有機發光二極體顯示器時，將省略與前之有機發光二極體顯示器相同配置的詳細說明。

第10圖為根據本發明第五示例實施例之有機發光二極體顯示器的一個像素之佈局圖，第11圖為沿著第10圖之線XI-XI截取之有機發光二極體顯示器的剖面圖，而第12圖為根據第11圖所示之第五示例實施例之修改例之有機發光二極體顯示器之剖面圖。

參照第10及11圖，可額外配置光反射圖樣400於一像素的驅動電壓線172和相鄰像素的資料線171之間。亦即，在第四示例實施例中，光反射圖樣300僅形成在像素電極710和閘極線121之間，但在第五示例實施例中，額外的光反射圖樣400，且可形成於一像素的驅動電壓線172和相鄰像素的資料線171之間。

參照第11圖，光反射圖樣400可與資料線171或驅動電壓線172形成在相同層上。舉例來說，光反射圖樣400可藉由以資料線171或驅動電壓線172相同之結構形成，其以前述之第一金屬層30a及第二金屬層30b構成。

光反射圖樣400包括如前述之第三金屬層和第四金屬層。第三金屬層可由反射金屬或導電材料製成。此外，第三金屬層和第四金屬層可交替形成。再者，透明金屬層可形成於光反射圖樣400的第三金屬層之下。亦即，透明金屬層避免或減少第三金屬層中包含之金屬材料擴散進下部的情況。

參照第12圖，作為本發明第五示例實施例的修改例，光反射圖樣400可與閘極線121形成在相同層上。亦即，在第12圖中光反射圖樣410形成的位置與在第11圖中不同。然而，光反射圖樣410的層疊結構與前述的光反射圖樣400相同。因此省略其詳細說明。

根據本發明示例實施例的有機發光二極體顯示器中，閘極線121、資料線171和驅動電壓線172由複數個層構成，其中其下層係由反射金屬所製成，從而有效率地將自有機發光元件發出的光傳輸至光學感測單元500。

再者，在有機發光二極體顯示器中，在與閘極線121、資料線171及驅動電壓線172不重疊的區域，配置具有與導線相同結構的光反射圖樣300及400以更有效率的將自有機發光元件發出的光傳輸至光學感測單元。

雖然本發明以結合目前認為可行的例示實施例作說明，但應理解的是，本發明並不局限於所揭露的實施例，而是相反的，其意旨在涵蓋包含於所附的申請專利範圍的精神及範疇內之各種修改及等效配置。

121:閘極線

171:資料線

172:驅動電壓線

300、400:光反射圖樣

PX1、PX2、PX3:子像素

Claims

一種有機發光二極體顯示器，其包括：一基板；一閘極線，位於該基板上；一資料線，與該閘極線交錯；一驅動電壓線，與該閘極線及該資料線中之至少其一平行延伸；一第一薄膜電晶體，耦合於該閘極線及該資料線，且包括一第一半導體層；一第二薄膜電晶體，耦合於該第一薄膜電晶體和該驅動電壓線，且包括一第二半導體層；一有機發光元件，耦合於該第二薄膜電晶體；以及一光反射圖樣，設置於該基板上不與該閘極線、該資料線、該驅動電壓線、該第一薄膜電晶體及該第二薄膜電晶體重疊的區域；其中該閘極線、該資料線或該驅動電壓線中之至少其一包括複數個層，且該複數個層的一最下層包括由一反射金屬製成之一第一金屬層。
如申請專利範圍第1項所述之有機發光二極體顯示器，其中該複數個層進一步包括形成於該第一金屬層上的一第二金屬層。
如申請專利範圍第2項所述之有機發光二極體顯示器，其中該第一金屬層包括鋁(Al)、銀(Ag)及銅(Cu)中之至少其一。
如申請專利範圍第2項所述之有機發光二極體顯示器，其中該第二金屬層包括鉬(Mo)及鈦(Ti)中之至少其一。
如申請專利範圍第2項所述之有機發光二極體顯示器，其中該複數個層的該第一金屬層和該第二金屬層係以交替的順序配置。
如申請專利範圍第1項所述之有機發光二極體顯示器，其進一步包括一透明金屬層於該第一金屬層之下。
如申請專利範圍第6項所述之有機發光二極體顯示器，其中該透明金屬層包括氧化銦錫(ITO)和氧化銦鋅(IZO)中之至少其一。
如申請專利範圍第1項所述之有機發光二極體顯示器，其中該光反射圖樣係與該閘極線、該資料線及該驅動電壓線中之至少其一形成在相同層上。
如申請專利範圍第1項所述之有機發光二極體顯示器，其中該光反射圖樣包括：一第三金屬層，係以一反射金屬製成；及一第四金屬層，位於該第三金屬層上。