TWI679189B - 用於光聚合物之作為寫入單體的丙烯酸萘酯 - Google Patents

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Abstract

本發明關於一種萘基胺甲酸酯丙烯酸酯,其在用於全像媒介的光聚合物調配物中特別適用作為寫入單體。本發明進一步關於一種光聚合物調配物,其包含基體聚合物、寫入單體及光起始劑,其中該寫入單體包含一根據本發明的萘基胺甲酸酯丙烯酸酯;關於一種包含基體聚合物、寫入單體及光起始劑之全像媒介,其中該寫入單體包含根據本發明的萘基胺甲酸酯丙烯酸酯;還有關於一種包含根據本發明全像媒介之顯示器。

Description

用於光聚合物之作為寫入單體的丙烯酸萘酯
本發明關於一種丙烯酸萘酯,在用於全像媒介的光聚合物調配物中特別適用作為寫入單體。本發明進一步關於一種光聚合物調配物,包含基體聚合物、寫入單體及光起始劑,其中該寫入單體包含一根據本發明的丙烯酸萘酯;關於一種包含基體聚合物、寫入單體及光起始劑之全像媒介,其中該寫入單體包含一根據本發明的丙烯酸萘酯;還有關於一種包含一根據本發明的全像媒介之顯示器。
光聚合物調配物為先前技術中已知的。例如EP 2 154 128敘述一種光聚合物調配物,含有聚胺甲酸酯-系基體聚合物、丙烯酸酯-系寫入單體、還有光起始劑。在固化態中,該寫入單體及光起始劑形成一嵌在該聚胺甲酸酯基體中的空間上各向同性分布。
對於光聚合物調配物的用途,關鍵是由在藉全像曝光的光聚合物中所產生的折射率調變(refractive index modulation)Δn擔任。在全像曝光中,訊號光束與參考光束的干涉場(在最簡單情況 下的兩個平面波的干涉場)被映射入一由(例如)在該干涉場中在高強度的位點(loci)處的高折射丙烯酸酯類之局部光聚合反應之折射率光柵(refractive index grating)內。在該光聚合物中的折射率光柵其為全像圖及其含有在訊號光束中的全部資訊。藉只以該參考光束照射全像圖,然後可重建(reconstructed)訊號。由此重建的訊號強度相對於入射參考光強度稱之為繞射效率(diffraction efficiency),在下文稱為DE。
在由兩個平面波的疊加作用(superposition)產生的全像圖之最簡單情況下,該DE為在重建作用上繞射的光強度對入射參考光與繞射光的強度總和之比例。DE越高,關於可視化具固定亮度的訊號所需的參考光的量之全像圖效率越高。
高折射性丙烯酸酯類在具低折射率區域與具高折射率區域之間能夠產生具高振幅(amplitude)的折射率光柵,及因而使全像圖在光聚合物中能夠具高DE及高Δn。應注意的是於此DE取決於Δn與光聚合物層厚度d之乘積。該乘積越大,可行的DE越大(對於反射型全像圖)。在其全像圖為視覺性(重建的)之角度範圍的寬度,例如在單色光照射下,僅僅取決於層厚度d。
在以白光照射全像圖上,例如,能夠有助於全像圖重建的光譜範圍之寬度同樣僅僅取決於層厚度d。d越小,各個可接受的寬度越大。因此,若用意是產生明亮且容易看見的全像圖,其目標為一高Δn及一低厚度d,以使得最大化DE。這意指為,該Δn越高,則在沒有損失DE下對於明亮的全像圖有更多自由度來達到組態層厚度d。因此,最適化Δn在光聚合物調配物的最適化作用中極為重要(P.Hariharan,Optical Holography,2nd Edition,Cambridge University Press,1996)。
解決問題,係藉本發明提供一種在高折射率對比(△n)的全像媒介製造中適用作為寫入單體之化合物。該問題係藉一式(I)之化合物來解決
Figure TWI679189B_D0001
a)其碳原子1、2、3、4、5、6、7、8的至少一個以一式(II)之結構部分(moiety)R丙烯醯基(arcyl)取代
Figure TWI679189B_D0002
在此於所述式(II)中R1 為氫或一(C1-C6)-烷基基團,X 為一羧醯胺(-C(O)N-)或一羧酸酯(-C(O)O-)或一磺醯胺(-SO2N-)基團,Y 為一具有2至10個碳原子之飽和的或不飽和的或線性或分支的選擇性取代的結構部分或一具有一至多五個(-CH2-CH2-O-)-或 (-C(CH3)H-CH2-O-)-基團之聚醚或一具有一至五個氮原子之聚胺,及Z 為氧或硫,b)及該式(I)之化合物為在不少於一個其它碳原子,1、2、3、4、5、6、7、8上以一式(III)之結構部分取代
Figure TWI679189B_D0003
在此於所述式(III)中該式(III)化合物的碳原子為各自獨立地以氫、鹵素、氰基、硝基或一選擇性取代的烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或雜芳基基團或一選擇性取代的烷氧基或烷硫基基團或任意取代的胺甲醯基基團取代的,其還可架橋式連接至一式(I)之結構部分,或一三氟甲基基團或一三氟甲氧基基團或一式(IV)之結構部分R丙烯醯基'
Figure TWI679189B_D0004
在此於所述式(IV)中R1' 為氫或一(C1-C6)-烷基基團,X' 為一羧醯胺(-C(O)N-)或一羧酸酯(-C(O)O-)或一磺醯胺 (-SO2N-)基團,Y' 為一具有2至10個碳原子之飽和的或不飽和的或線性或分支的選擇性取代的結構部分或一具有一至五個(-CH2-CH2-O-)-或(-C(CH3)H-CH2-O-)基團之聚醚或一具有一至五個氮原子之聚胺,及Z 為氧或硫,c)該式(I)化合物的剩餘碳原子為各自獨立地以氫、鹵素、氰基、硝基或一選擇性取代的烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或雜芳基基團或一選擇性取代的烷氧基或烷硫基的基團或一三氟甲基基團或一三氟甲氧基基團取代的。
據此發現,令人驚訝地,該式(I)之化合物在非常高折射率對比(△n)且高光學品質的全像媒介製造中非常適用作為寫入單體。
1a,b‧‧‧原料儲存容器
2a,b‧‧‧計量單元
3a,b‧‧‧真空脫氣單元
4a,b‧‧‧過濾器
5‧‧‧靜態混合器
6‧‧‧塗覆單元
7‧‧‧循環空氣乾燥器
8‧‧‧載體基材
9‧‧‧覆蓋層
圖1為顯示全像媒介測試器之幾何圖。
圖2顯示根據耦合波理論的布拉格曲線η(破折線)、測得的繞射效率(實心圓)及透射的功率(黑色實線)針對角度失諧△Ω的繪圖。
圖3為所用之連續式膜-塗覆系統之配置示意圖(輥-對-輥法)。
根據本發明之式(I)化合物可如下述獲得例如:萘酚類 的氧化偶合可被用以製備相關於式(I)及式(III)之對稱的或非對稱的雙萘酚類及可選擇性分開製備及之後可,在一隨後的合成步驟中,與HO-反應性化合物反應以形成丙烯酸酯類。同樣可行是使商業上可取得的雙萘酚類與HO-反應性化合物反應以形成丙烯酸酯類。橋接二-或較高的-官能性HO-反應性合成子還可進一步被用在偶合兩個雙萘酚類以獲得之後進一步被轉換成式(I)的丙烯酸酯類之產物。
在根據本發明化合物之第一較佳具體實施中,於式(I)的位置5的碳原子上以式(III)之結構部分取代,其中該式(III)之結構部分較佳可經由於位置8'上的碳原子而被鍵結至位置5上的碳原子。
同樣較佳是當該化合物於式(I)的位置6的碳原子上以式(II)之結構部分R丙烯醯基取代時。
還有利的是當式(III)之結構部分於位置7'的碳原子上以式(IV)之結構部分R丙烯醯基'取代時。
一本發明之另外較佳具體實施提供了在結構部分R丙烯醯基中X表示羧醯胺及/或在結構部分R丙烯醯基'中X表示羧醯胺。
在一另外有利具體實施中,在結構部分R丙烯醯基中R1表示氫或CH3結構部分及/或在結構部分R丙烯醯基'中R1'表示氫或CH3結構部分。
在一另外較佳具體實施中,在結構部分R丙烯醯基中Y較佳可表示-CH2-CH2結構部分及/或在結構部分R丙烯醯基'中Y'可表示-CH2-CH2結構部分。
還較佳是Z及/或Z'各自為氧。
非常特佳是Z及/或Z'各自為氧及X及/或X'各自為羧醯胺基團。
還特佳是根據本發明之式(I)化合物為選自下述物質之組群:甲基丙烯酸2-[({[2'-({[2-(丙烯醯氧基)乙基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]乙基酯,2,2'-雙({[2-(甲基丙烯醯氧基)乙基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘基-3,3'-二羧酸二甲基酯,2,2'-雙({[2-(甲基丙烯醯氧基)乙基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘基-3,3'-二羧酸二乙基酯,1,1'-聯萘基-2,2'-二基雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,1,1'-聯萘基-2,2'-二基雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6,6'-二氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6,6'-二氟-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6,6'-二氯-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6,6'-二溴-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6,6'-二碘-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,二氟-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6,6'-二氯-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6,6'-二溴-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6,6'-二碘-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(7,7'-二甲氧基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(7,7'-二乙氧基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,丙烯酸2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯,丙烯酸2-{[({2'-[(丁基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯,2-甲基丙烯酸 2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯,2-甲基丙烯酸2-{[({2'-[(丁基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯,丙烯酸2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯,2-甲基-丙烯酸2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯,丙烯酸2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯,2-甲基丙烯酸2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯,丙烯酸2-{[({2'-[(丁基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]-胺基}乙基酯,2-甲基丙烯酸2-{[({2'-[(丁基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯,丙烯酸2-[({[2'-({[3-(甲基硫烷基(methylsulphanyl)苯基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]乙基酯,甲基丙烯酸2-[({[2'-({[3-(甲基硫烷基)苯基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]乙基酯,丙烯酸2-[({[2'-({[2-(甲基硫烷基)苯基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]乙基酯,甲基丙烯酸2-[({[2'-({[2-(甲基硫烷基)苯基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]乙基酯,丙烯酸2-[({[2'-({[4-(甲基硫烷基)苯基]-胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]乙基酯,甲基丙烯酸2-[({[2'-({[4-(甲基硫烷基)苯基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]乙基酯,丙烯酸2-{[({2'-[(1-萘基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]-胺基}乙基酯,甲基丙烯酸2-{[({2'-[(1-萘基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯,己烷-1,6-二基雙(胺甲醯氧基-1,1'-聯萘-2',2-二基氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,己烷-1,6-二基雙(胺甲醯氧基-1,1'-聯萘-2',2-二基氧基 羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(2,2,4-三甲基己烷-1,6-二基)雙(胺甲醯氧基-1,1'-聯萘-2',2-二基氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)-雙丙烯酸酯,(2,2,4-三甲基己烷-1,6-二基)雙(胺甲醯氧基-1,1'-聯萘-2',2-二基氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)-雙(2-甲基丙烯酸酯),丙烯酸2-({[(2'-{[(3-{[({[2'-({[2-(丙烯醯氧基)乙基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]甲基}-3,5,5-三甲基環己基)胺甲醯基]-氧基}-1,1'-聯萘-2-基)氧基]羰基}胺基)乙基酯,2-({[(2'-{[(3-{[({[2'-({[2-(甲基丙烯醯氧基)乙基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]甲基}-3,5,5-三甲基環己基)胺甲醯基]氧基}-1,1'-聯萘-2-基)氧基]羰基}胺基)乙基酸甲基丙烯酸酯),(6-氟-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6-氟-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6-氯-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6-氯-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6-溴-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6-溴-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6-碘-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6-碘-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6-氟-6'-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6-氟-6'-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基 羰基-亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6-氯-6'-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6-氯-6'-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6-溴-6'-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6-溴-6'-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯),(6-碘-6'-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯,(6-碘-6'-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯)。
本發明進一步提供一種光聚合物調配物,包含基體聚合物、寫入單體及光起始劑,其中該寫入單體包含一根據本發明之式(I)化合物。
根據本發明的光聚合物調配物之基體聚合物特別地可為在一交聯態及更佳地在三維交聯態。
還有利地是該基體聚合物為聚胺甲酸酯類,在其情況下該聚胺甲酸酯類特別地可藉使至少一種聚異氰酸酯成分a)與至少一種異氰酸酯-反應性成分b)反應而獲得。
該聚異氰酸酯成分a)較佳包含至少一種具有至少二個NCO基團之有機化合物。這些有機化合物尤其可為單體性二-及三異氰酸酯類、聚異氰酸酯類及/或NCO-官能性預聚物。該聚異氰酸酯成分a)還可含有或由單體性二-及三異氰酸酯類之混合物、聚異氰酸酯類及/或NCO-官能性預聚物構成。
所用的單體性二-及三異氰酸酯類可為本身是該項技術領域中熟悉者熟知的任何化合物,或其混合物。這些化合物可具 有芳香族、芳脂族、脂族或環脂族結構。該單體性二-及三異氰酸酯類還可包含微量的單異氰酸酯類,i.e.具有一個NCO基團之有機化合物。
適合的單體性二-及三異氰酸酯類實例為丁烷1,4-二異氰酸酯、戊烷1,5-二異氰酸酯、己烷1,6-二異氰酸酯(六亞甲基二異氰酸酯,HDI)、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯及/或2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯(TMDI)、異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)、1,8-二異氰酸基-4-(異氰酸基甲基)辛烷、雙(4,4'-異氰酸基環己基)甲烷及/或雙(2',4-異氰酸基環己基)甲烷及/或其具有任意異構物含量之混合物、環己烷1,4-二異氰酸酯、該異構性雙(異氰酸基甲基)環己烷化合物、2,4-及/或2,6-二異氰酸基-1-甲基環己烷(六氫伸甲苯基2,4-及/或2,6-二異氰酸酯,H6-TDI)、伸苯基1,4-二異氰酸酯、伸甲苯基2,4-及/或2,6-二異氰酸酯(TDI)、伸萘基1,5-二異氰酸酯(NDI)、二苯基甲烷2,4'-及/或4,4'-二異氰酸酯(MDI)、1,3-雙(異氰酸基甲基)苯(XDI)及/或該類似的1,4異構物或前述化合物的任何期望混合物。
適合的聚異氰酸酯類為具有胺甲酸酯、脲、碳二醯亞胺(carbodiimide)、醯基脲、醯胺、異氰脲酸酯、脲基甲酸酯(allophanate)、縮二脲、氧雜二
Figure TWI679189B_D0005
三酮(oxadiazinetrione)、脲二酮及/或亞胺氧雜二
Figure TWI679189B_D0006
二酮(iminooxadiazinedione)結構之化合物及可獲自前述二-或三異氰酸酯類。
更佳地,該聚異氰酸酯類為寡聚化的脂族及/或環脂族二-或三異氰酸酯類,可行的是使用尤其是上述脂族及/或環脂族二-或三異氰酸酯類。
非常特別適宜是予以具有異氰脲酸酯、脲二酮及/或 亞胺氧雜二
Figure TWI679189B_D0007
二酮結構之聚異氰酸酯類,及以HDI為基底的縮二脲類,或其混合物。
適合的預聚物含有胺甲酸酯及/或脲基團,及選擇性透過如上特定的NCO基團的改質作用所形成的其他結構。這類預聚物可(例如)藉上述單體性二-及三異氰酸酯類及/或聚異氰酸酯類a1)與異氰酸酯-反應性化合物b1)之反應而獲得。
所用的異氰酸酯-反應性化合物b1)可為醇類、胺基或巰基化合物,較佳為醇類。這些尤其可為多醇類。最佳地,所用的異氰酸酯-反應性化合物b1)可為聚酯多醇類、聚醚多醇類、聚碳酸酯多醇類、聚(甲基)丙烯酸酯多醇類及/或聚胺甲酸酯多醇類。
適合的聚酯多醇類為(例如)線性聚酯二醇類或分支的聚酯多醇類,其能夠以已知方式藉脂族、環脂族或芳香族二-或多羧酸或其酸酐與OH官能度
Figure TWI679189B_D0008
2的多元醇類之反應而獲得。適合的二-或多羧酸實例為多元羧酸諸如丁二酸、己二酸、辛二酸、癸二酸、癸烷二羧酸、鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、間苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸或偏苯三酸(trimellitic acid),及酸酐諸如鄰苯二甲酸酐、偏苯三酸酐或丁二酸酐,或其任何期望混合物。該聚酯多醇類還可以天然原料諸如蓖麻油為基底。同樣可行是該聚酯多醇類為以內酯之均-或共聚物為基底,其較佳能夠藉諸如丁內酯、ε-己內酯及/或甲基-ε-己內酯之內酯或內酯混合物加成至諸如OH官能度
Figure TWI679189B_D0009
2的多元醇類之羥基-官能性化合物上而獲得,例如以下本文提及的類型。
適合的醇類實例為全部的多元醇類,例如C2-C12二醇類、該異構性環己烷二醇類、甘油或其任何期望混合物。
適合的聚碳酸酯多醇類可以本身已知方式藉有機碳 酸酯類或光氣與二醇類或二醇混合物之反應獲得。
適合的有機碳酸酯類為二甲基、二乙基及二苯基碳酸酯。
適合的二醇類或混合物包含本身在聚酯段內文中提及的OH官能度
Figure TWI679189B_D0010
2的多元醇類,較佳為丁烷-1,4-二醇、己烷-1,6-二醇及/或3-甲基戊烷二醇。還可行是轉換聚酯多醇類為聚碳酸酯多醇類。
適合的聚醚多醇類為,選擇性嵌段式結構,環狀醚類聚加成至OH-或NH-官能性起動劑分子上之產物。
適合的環狀醚類為(例如)苯乙烯氧化物、環氧乙烷、環氧丙烷、四氫呋喃、環氧丁烷、環氧氯丙烷,及其任何期望混合物。
所用的起動劑可為本身在聚酯多醇類內文中提及的OH官能度
Figure TWI679189B_D0011
2的多元醇類,還有一級或二級胺類及胺醇類。
較佳的聚醚多醇類為彼等只有以環氧丙烷為基底的前述類型,或以環氧丙烷與其他1-環氧烷類為基底的無規或嵌段共聚物。特別適宜予以環氧丙烷均聚物及含有氧乙烯(oxyethylene)、氧丙烯(oxypropylene)及/或氧丁烯單元之無規或嵌段共聚物,在此該氧丙烯單元的比例以全部的氧乙烯、氧丙烯與氧丁烯單元量的總量為基準為至少20重量%,較佳至少45重量%。氧丙烯及氧丁烯於此涵蓋全部各個線性及分支的C3及C4異構物。
此外適合作為多醇成分b1)的組成,作為多官能性、異氰酸酯-反應性化合物,還有低分子量(i.e.具分子量
Figure TWI679189B_D0012
500g/mol)、短鏈(i.e.含有2至20個碳原子)、脂族、芳脂族或環脂族二-、三-或多 官能性醇類。
除了上述化合物之外,這些可(例如)為新戊二醇、2-乙基-2-丁基丙烷二醇、三甲基戊烷二醇、位置上異構性二乙基辛烷二醇類、環己烷二醇、1,4-環己烷二甲醇、1,6-己烷二醇、1,2-及1,4-環己烷二醇、氫化的雙酚A、2,2-雙(4-羥基環己基)丙烷或2,2-二甲基-3-羥基丙酸、2,2-二甲基-3-羥基丙酯。適合的三醇實例為三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷或甘油。適合的較高-官能度醇類為二(三羥甲基丙烷)、季戊四醇、二季戊四醇或山梨糖醇。
尤佳是當該多醇成分為二官能性聚醚、聚酯,或一聚醚-聚酯嵌段共聚酯或一具有一級OH官能的聚醚-聚酯嵌段共聚物。
同樣可行是使用胺類作為異氰酸酯-反應性化合物b1)。適合的胺類實例為乙二胺、丙二胺、二胺基環己烷、4,4'-二環己基甲烷二胺、異佛爾酮二胺(IPDA)、二官能性聚胺類,例如Jeff胺類®、胺-終端的聚合物,尤其是具有數目-平均莫耳質量
Figure TWI679189B_D0013
10000g/mol。同樣能夠使用前述胺類的混合物。
同樣可行是使用胺醇類作為異氰酸酯-反應性化合物b1)。適合的胺醇類實例為該異構性胺基乙醇類、該異構性胺基丙醇類、該異構性胺基丁醇類及該異構性胺基己醇類,或其任何期望混合物。
全部的前述異氰酸酯-反應性化合物b1)能夠如期望與彼此混合。
還較佳是當異氰酸酯-反應性化合物b1)具有一數目-平均莫耳質量為
Figure TWI679189B_D0014
200與
Figure TWI679189B_D0015
10000g/mol,另較佳地
Figure TWI679189B_D0016
500與
Figure TWI679189B_D0017
8000g/mol及最佳地
Figure TWI679189B_D0018
800與
Figure TWI679189B_D0019
5000g/mol。該多醇類的OH官能度 較佳為1.5至6.0,更佳為1.8至4.0。
該聚異氰酸酯成分a)之預聚物尤其可具有一游離的單體性二-及三異氰酸酯類的殘餘含量為<1重量%,更佳為<0.5重量%及最佳為<0.3重量%。
選擇地還可行是該聚異氰酸酯成分a)含有,全部地或部分地,它的NCO基團已完全地或部分地與塗層技術上已知的嵌段劑反應之有機化合物。嵌段劑的實例為醇類、內醯胺類、肟類、丙二酸酯類、吡唑類、及胺類,例如丁酮肟、二異丙基胺、丙二酸二乙基酯、乙醯乙酸乙酯、3,5-二甲基吡唑、ε-己內醯胺,或其混合物。
尤佳是當該聚異氰酸酯成分a)包含具有脂族性鍵結的NCO基團之化合物,脂族性鍵結的NCO基團據了解意指彼等被鍵結至一級碳原子之基團。該異氰酸酯-反應性成分b)較佳包含至少一種具有一平均為至少1.5及較佳地2至3個異氰酸酯-反應性基團之有機化合物。在本發明內文中,異氰酸酯-反應性基團被視為較佳是羥基、胺基或巰基基團。
該異氰酸酯-反應性成分尤其可包含具有一數平均為至少1.5及較佳地2至3個異氰酸酯-反應性基團之化合物。
成分b)之適合的多官能性異氰酸酯-反應性化合物為例如上述化合物b1)。
一另外較佳具體實施提供寫入單體包含一單-及/或一多-官能性(甲基)丙烯酸酯寫入單體。非常特佳是該寫入單體另外包含至少一種單-及/或一多-官能性胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。
適合的丙烯酸酯寫入單體尤其是通式(II)之化合物
Figure TWI679189B_D0020
其中n
Figure TWI679189B_D0021
1與n
Figure TWI679189B_D0022
4及R2為一未取代的或者是選擇性由雜原子取代之線性、分支的、環狀或雜環狀有機結構部分及/或R3為氫或一未取代的或者是選擇性由雜原子取代之線性、分支的、環狀或雜環狀有機結構部分。更佳地,R3為氫或甲基及/或R2為一未取代的或者是選擇性由雜原子取代之線性、分支的、環狀或雜環狀有機結構部分。
丙烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類係,個別地,指丙烯系酸及甲基丙烯系酸之酯類。可用的丙烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類實例適宜為丙烯酸苯基酯、甲基丙烯酸苯基酯、丙烯酸苯氧乙基酯、甲基丙烯酸苯氧乙基酯、丙烯酸苯氧乙氧基乙基酯、甲基丙烯酸苯氧乙氧基乙基酯、丙烯酸苯基硫代乙基酯、甲基丙烯酸苯基硫代乙基酯、丙烯酸2-萘基酯、甲基丙烯酸2-萘基酯、丙烯酸1,4-雙(2-硫代萘基)-2-丁基酯、甲基丙烯酸1,4-雙(2-硫代萘基)-2-丁基酯、雙酚A二丙烯酸酯、雙酚A二甲基丙烯酸酯、及其乙氧化的類似化合物、丙烯酸酯N-咔唑基類。
胺甲酸酯丙烯酸酯類據了解意指具有至少一種丙烯酸系酯基團與至少一種胺甲酸酯鍵之化合物。這類化合物能夠(例如)藉使一羥基-官能性丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯與一異氰酸酯-官能性化合物反應而獲得。
對於這目的可用的異氰酸酯-官能性化合物實例為單 異氰酸酯類、及該在a)中提及的單體性二異氰酸酯類、三異氰酸酯類及/或聚異氰酸酯類。適合的單異氰酸酯類實例為苯基異氰酸酯、該異構性甲基硫代苯基異氰酸酯類。二-、三-或聚異氰酸酯類已如上述及,還有三苯基甲烷4,4',4"-三異氰酸酯及參(p-異氰酸基苯基)硫代磷酸酯(thiophosphate)或其具胺甲酸酯、脲、碳二醯亞胺、醯基脲、異氰脲酸酯、脲基甲酸酯、縮二脲、氧雜二
Figure TWI679189B_D0023
三酮、脲二酮、亞胺氧雜二
Figure TWI679189B_D0024
二酮結構之衍生物及其混合物。適宜予以芳香族二-、三-或多異氰酸酯類.
適用於胺甲酸酯丙烯酸酯類製備的羥基-官能性丙烯酸酯類或甲基丙烯酸酯類包括(例如)化合物諸如(甲基)丙烯酸2-羥乙基酯,聚氧化乙烯單(甲基)丙烯酸酯類、聚氧化丙烯單(甲基)丙烯酸酯類、聚氧化烷烯單(甲基)丙烯酸酯類、聚(ε-己內酯)單(甲基)丙烯酸酯類,例如Tone® M100(Dow,Schwalbach,DE)、(甲基)丙烯酸2-羥丙基酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁基酯、(甲基)丙烯酸3-羥基-2,2-二甲基丙基酯、(甲基)丙烯酸羥丙基酯、丙烯酸2-羥基-3-苯氧丙基酯,多元醇類之羥基-官能性單-、二-或四丙烯酸酯類諸如三羥甲基丙烷、甘油、季戊四醇、二季戊四醇,乙氧化的、丙氧化的或烷氧化的三羥甲基丙烷、甘油、季戊四醇、二季戊四醇,或其技術性混合物。適宜予以丙烯酸2-羥乙基酯、丙烯酸羥丙基酯、丙烯酸4-羥丁基酯及聚(ε-己內酯)單(甲基)丙烯酸酯。
同樣可行是使用基本上已知的具有OH含量為20至300mg KOH/g的含有羥基的環氧基(甲基)丙烯酸酯類或具有OH含量為20至300mg KOH/g的含有羥基的聚胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯類或具有OH含量為20至300mg KOH/g的丙烯酸酯化的聚丙烯酸酯類及其 混合物,及與含有羥基的不飽和聚酯的混合物及與聚酯(甲基)丙烯酸酯類的混合物或含有羥基的不飽和聚酯與聚酯(甲基)丙烯酸酯類的混合物。
適宜為尤其予以胺甲酸酯丙烯酸酯類,其可獲自參(p-異氰酸基苯基)硫代磷酸酯及/或m-甲基硫代苯基異氰酸酯與醇-官能性丙烯酸酯類諸如(甲基)丙烯酸羥乙基酯、(甲基)丙烯酸羥丙基酯及/或(甲基)丙烯酸羥丁基酯之反應。
同樣可行是該寫入單體包含其他不飽和化合物諸如α,β-不飽和羧酸衍生物,例如順丁烯二酸酯類、反丁烯二酸酯類、馬來醯亞胺類、丙烯醯胺類,還有乙烯基醚類、丙烯基醚類、烯丙基醚類及含有二環戊二烯基單元之化合物,還有烯烴性不飽和化合物,例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯及/或烯烴類。
適用於本發明目的之光起始劑基本上可藉由光化輻射(actinic radiation)之方式活化的化合物,其能夠觸發該寫入單體之聚合反應。在該光起始劑之情況下,能夠在單分子(類型I)與雙分子(類型II)起始劑之間作區別。此外,彼等由它們作為用於自由基、陰離子性、陽離子性或混合型的聚合反應之光起始劑的化學本質來區分。
用於自由基光聚合反應之類型I光起始劑(Norrish類型I)以輻照方式透過單分子鍵斷裂(bond scission)形成自由基。類型I光起始劑的實例為三
Figure TWI679189B_D0025
類、肟類、苯偶姻醚類(benzoin ethers)、苯偶姻縮酮類(benzil ketals)、雙咪唑類、芳醯膦氧化物(aroylphosphine oxides)、鋶鹽及錪鹽。
用於自由基聚合反應之類型II光起始劑(Norrish類型 II)由一作為敏化劑之染料與一共起始劑(coinitiator)構成,及在以使染料調和的光輻照下進行一雙分子反應。首先,該染料吸收一光子及使從激態的能量轉移至該共起始劑。後者透過電子或質子轉移或直接氫抽取(hydrogen abstraction)釋放聚合反應-觸發自由基。
在本發明內文中,適宜者為予以使用類型II光起始劑。
該類型II光起始劑之染料與共起始劑或可直接與其他光聚合物成分共同混合或替代地與個別成分單獨地預混合。尤其是當該光聚合物為欲含有聚胺甲酸酯基體聚合物時,該染料可與該異氰酸酯-反應性成分及該共起始劑與該異氰酸酯成分預混合。然而,同樣還可行是使該共起始劑與該異氰酸酯-反應性成分及該染料與該異氰酸酯成分預混合。
這類光起始劑系統原則上敘述於EP 0 223 587 A及較佳由一或多個染料與烷基芳基硼酸銨鹽(類)之混合物構成。
連同一烷基芳基硼酸銨鹽一起形成一類型II光起始劑之合適的染料為敘述於WO 2012062655之陽離子性染料,組合有同樣敘述其中之陰離子。
陽離子性染料據了解較佳意指彼等選自下述類別:吖啶染料(acridine dyes),呫噸染料(xanthene dyes),噻噸染料(thioxanthene dyes),吩
Figure TWI679189B_D0026
染料(phenazine dyes),吩噁
Figure TWI679189B_D0027
染料(phenoxazine dyes),吩噻
Figure TWI679189B_D0028
染料,三(雜)芳基甲烷(tri(het)arylmethane)染料,-尤其是二胺基-及三胺基(雜)芳基甲烷染料,單-、二-、三-及五次甲基花青染料(pentamethinecyanine dyes),半花青染料(hemicyanine dyes),外部陽離子性部花青素染料,外部陽離子性中性花青素染料(neutrocyanine dyes),零次甲基染料 (zeromethine dyes)-尤其是萘並內醯胺染料(naphtholactam dyes),鏈球花青素染料(streptocyanine dyes)。這類染料被敘述(例如)於H.Berneth in Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry,Azine Dyes,Wiley-VCH Verlag,2008,H.Berneth in Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry,Methine Dyes and Pigments,Wiley-VCH Verlag,2008,T.Gessner,U.Mayer in Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry,Triarylmethane and Diarylmethane Dyes,Wiley-VCH Verlag,2000。
特別適宜予以吩
Figure TWI679189B_D0029
染料,吩噁
Figure TWI679189B_D0030
染料,吩噻
Figure TWI679189B_D0031
染料,三(雜)芳基甲烷染料-尤其是-二胺基-及三胺基(雜)芳基甲烷染料,單-、二-、三-及五次甲基花青素染料,半花青素染料,零次甲基染料-尤其是萘並內醯胺染料,鏈球花青素染料。
陽離子性染料的實例為Astrazon Orange G,Basic Blue 3,Basic Orange 22,Basic Red 13,Basic Violet 7,Methylene Blue,New Methylene Blue,Azure A,2,4-二苯基-6-(4-甲氧基苯基)吡喃鎓(pyrylium),Safranin O,Astraphloxin,Brilliant Green,Crystal Violet,Ethyl Violet及硫堇(thionine)。
較佳的陰離子尤其是C8-至C25-烷磺酸酯(alkanesulphonate)(較佳地C13-至C25-烷磺酸酯),C3-至C18-全氟烷磺酸酯,在該烷基鏈中帶有至少3個氫原子之C4-至C18-全氟烷-磺酸酯,C9-至C25-烷酸酯(alkanoate),C9-至C25-烯酸酯(alkenoate)、C8-至C25-烷基硫酸酯(較佳地C13-至C25-烷基硫酸酯),C8-至C25-烯基硫酸酯(較佳地C13-至C25-烯基硫酸酯),C3-至C18-全氟烷基硫酸酯,在烷基鏈中帶有至少3個氫原子之C4-至C18-全氟烷基硫酸酯,以至少4 個當量的環氧乙烷及/或4個當量的環氧丙烷為基底的聚醚硫酸酯,雙(C4-至C25-烷基,C5-至C7-環烷基,C3-至C8-烯基或C7-至C11-芳烷基)磺基丁二酸酯(sulphosuccinate),由至少8個氟原子取代的雙-C2-至C10-烷基磺基丁二酸酯,C8-至C25-烷基磺基乙酸酯類,由選自包括鹵素、C4-至C25-烷基、全氟-C1-至C8-烷基及/或C1-至C12-烷氧基羰基構成組群之至少一個自由基取代的苯磺酸酯,選擇地由硝基、氰基、羥基、C1-至C25-烷基、C1-至C12-烷氧基、胺基、C1-至C12-烷氧基羰基或氯取代的萘-或聯苯基磺酸酯,選擇地由硝基、氰基、羥基、C1-至C25-烷基、C1-至C12-烷氧基、C1-至C12-烷氧基羰基或氯取代的苯-、萘-或聯苯基二磺酸酯,由二硝基、C6-至C25-烷基、C4-至C12-烷氧基羰基、苯甲醯基、氯苯甲醯基或甲苯基取代的苯甲酸酯,萘二羧酸的陰離子,二苯基醚二磺酸酯,脂族C1至C8醇類或甘油之磺酸酯化的或硫酸酯化的、選擇地至少單不飽和的C8至C25脂肪酸酯類,雙(磺基-C2-至C6-烷基)C3-至C12-烷二羧酸酯類,雙(磺基-C2-至C6-烷基)衣康酸酯類,(磺基-C2-至C6-烷基)C6-至C18-烷羧酸酯類,(磺基-C2-至C6-烷基)丙烯酸酯類或甲基丙烯酸酯類,選擇地由至多12個鹵素自由基取代的參兒茶酚磷酸酯,一陰離子選自四苯基硼酸鹽、氰基三苯基硼酸鹽、四苯氧基硼酸鹽、C4-至C12-烷基三苯基硼酸鹽(其中該苯基或苯氧基自由基可由鹵素、C1-至C4-烷基及/或C1-至C4-烷氧基取代的)、C4-至C12-烷基三萘基硼酸鹽、四-C1-至C20-烷氧基硼酸鹽、7,8-或7,9-二碳-巢式-十一碳(dicarba-nido-undeca)硼酸鹽(1-)或(2-)(其在硼及/或碳原子上選擇地由一或二個C1-至C12-烷基或苯基基團取代的)、十二氫二碳十二硼酸鹽(2-)或B-C1-至C12-烷基-C-苯基十二氫二碳十二硼酸鹽(1-)之組群,在此於多價陰離子諸如 萘二磺酸酯之情況下,A-代表一個當量的此陰離子,及在此該烷及烷基可為分支的及/或可為由鹵素、氰基、甲氧基、乙氧基、甲氧基羰基或乙氧基羰基取代的。
還更適宜是當該染料的陰離子A-具有一AClogP於1至30範圍,更佳於1至12範圍及尤佳於1至6.5範圍。AClogP係根據J.Comput.Aid.Mol.Des.2005,19,453;Virtual Computational Chemistry Laboratory,http://www.vcclab.org計算得的。
合適的烷基芳基硼酸銨鹽類為,例如(Cunningham et al.,RadTech'98 North America UV/EB Conference Proceedings,Chicago,Apr.19-22,1998):三苯基己基硼酸四丁基銨鹽,三苯基丁基硼酸四丁基銨鹽,三萘基己基硼酸四丁基銨鹽,參(4-tert-丁基)苯基丁基硼酸四丁基銨鹽,參(3-氟苯基)己基硼酸基己基硼酸四丁基銨鹽([191726-69-9],CGI 7460,得自BASF SE,Basle,Switzerland的產品),二戊基二苯基硼酸1-甲基-3-辛基咪唑鎓鹽及參(3-氯-4-甲苯基)己基硼酸四丁基銨鹽([1147315-11-4],CGI 909,得自BASF SE,Basle,Switzerland的產品)。
可有利地使用這些光起始劑的混合物。根據所用的輻射源,光起始劑的種類及濃度係已依該項技術領域熟悉者已知的方式被調整。進一步詳細內容敘述(例如)於P.K.T.Oldring(Ed.),Chemistry & Technology of UV & EB Formulations For Coatings,Inks & Paints,Vol.3,1991,SITA Technology,London,p.61-328。
最佳是當該光起始劑包含一染料與至少一種搭配該染料的共起始劑之組合物,該染料的吸收光譜至少部分上涵蓋400至800nm的光譜範圍。
還較佳是當至少一種適用於選自藍色、綠色及紅色的雷射光顏色之光起始劑係存在於該光聚合物調配物中。
還另較佳是當該光聚合物調配物含有一種各自適用於選自藍色、綠色及紅色的至少二個雷射光顏色之光起始劑。
最後,最佳是當該光聚合物調配物含有一種各自適用於藍色、綠色及紅色的一個雷射光顏色之光起始劑。
在一另外較佳具體實施中,該光聚合物調配物另外含有單體性胺甲酸酯類作為添加劑,在其情況下該胺甲酸酯類尤其可為由至少一個氟原子取代的。
較佳地,該胺甲酸酯類可具有通式(III)
Figure TWI679189B_D0032
其中m
Figure TWI679189B_D0033
1與m
Figure TWI679189B_D0034
8及R4、R5及R6各自為一未取代的或者是選擇性由雜原子取代之線性、分支的、環狀或雜環狀有機結構部分及/或R5、R6為各自獨立地氫,在其情況下較佳地該R4、R5、R6結構部分的至少一個係由至少一個氟原子取代的及,更佳地,R4為一具有至少一個氟原子之有機自由基。更佳地,R5為一未取代的或者是選擇性由雜原子、例如氟取代之線性、分支的、環狀或雜環狀有機結構部分。
本發明同樣提供一種包含基體聚合物、寫入單體及光起始劑之全像媒介,其中該寫入單體包含一根據本發明之式(I)化合物。
上述對於本發明光聚合物調配物所述的另外較佳具 體實施還構成根據本發明的全像媒介之較佳具體實施。
該全像媒介的較佳具體實施提供了該基體聚合物為交聯的基體聚合物,較佳為三維交聯的基體聚合物及最佳為三維交聯的聚胺甲酸酯類。
還較佳是該全像媒介包含至少一氟胺甲酸酯作為添加劑。
該全像媒介特別是可為一薄膜,較佳為具一薄膜厚度為0.5μm至200μm,更佳為具一薄膜厚度為0.8μm至50μm及又更佳為具一薄膜厚度為1μm至25μm。
該全像媒介還可含有至少一個曝光的全像圖。
在整個可見光及在近UV範圍內(300至800nm)中藉由用於光學應用的適當曝光法之方式,能夠將本發明的全像媒介加工至全像圖內。可見的全像圖包括能夠藉該項技術領域熟悉者已知方法被記錄之全部的全像圖。這些包括線上(Gabor)全像圖、離軸全像圖、全孔徑轉移全像圖、白光透射全像圖("彩虹全像圖")、Denisyuk全像圖、離軸反射全像圖、邊緣光全像圖及全像立體圖。適宜予以反射全像圖、Denisyuk全像圖、透射全像圖。
全像圖之可行的光學功能對應於諸如透鏡、鏡子、折射鏡子、濾波器、漫射透鏡、指向漫射元件(directed diffusion elements)、繞射元件(diffraction elements)、光導件、波導件、投射透鏡及/或光罩(masks)之光元件的光學功能。同樣可行是對於這些光學功能的組合係彼此獨立地在一個全像圖中被組合的。根據如何使該全像圖已曝光及該全像圖的尺寸,這些光學元件經常具有一頻率選擇性。
此外,藉由本發明媒介之方式,還可產生全像影像(images)或表徵(representations),例如對個人肖像(personal portraits)、在安全文件中的生物識別表徵(biometric representations),或對廣告化、防偽標籤(security labels)、品牌保護(brand protection)、品牌化(branding)、標籤、設計元件、裝飾品(decorations)、插圖(illustrations)、收藏卡(collectable cards)、影像等等之一般性影像或影像結構,還有能夠表示數位資料(digital data)之影像,包括組合有詳述如上的產品。全像影像能夠具有三維影像之印象,而它們還可表示影像序列(sequences)、短的薄膜或許多種不同物體(objects),根據由其及利用其的光源(包括移動光源)等照射它們的角度。由於這各種可行的設計,全像圖(尤其是體積全像圖)構成一對上述應用之值得注意的技術解決方案。
依此本發明進一步提供一種本發明全像媒介之用途,係用於線上、離軸、全孔徑轉移、白光透射、Denisyuk、離軸反射或邊緣光全像圖還有全像立體圖之記錄,特別是用於光學元件、影像或影像描述(image depictions)之製造。
本發明同樣提供一種藉使用本發明光聚合物調配物製造全像媒介之方法。
該光聚合物調配物尤其能夠用在一薄膜形式的全像媒介之製造。在這情況下,對在可見光譜範圍內的光為透明(在400至780nm波長範圍內透射率大於85%)的一層(ply)的材料或材料複合物作為載體基材(carrier substrate)被塗覆在一或兩面上,及一覆蓋層係選擇地被施用至該光聚合物層或多層(plies)上。
對該載體基材之較佳材料或材料複合物為以聚碳酸 酯(PC)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯、聚乙烯、聚丙烯、纖維素乙酸酯、纖維素水合物、纖維素硝酸酯、環烯烴聚合物、聚苯乙烯、聚環氧化物、聚碸(polysulphone)、纖維素三乙酸酯(CTA)、聚醯胺(PA)、聚甲基丙烯酸甲基酯(PMMA)、聚氯乙烯、聚乙烯基丁醛或聚二環戊二烯或其混合物為基底。它們更佳為以PC、PET及CTA為基底。材料複合物可為薄膜層壓體或共擠壓體。較佳的材料複合物為根據架構A/B、A/B/A或A/B/C之一者所形成的雙層(duplex)及三層(triplex)薄膜。特別適宜者為予以PC/PET、PET/PC/PET及PC/TPU(TPU=熱塑性聚胺基甲酸酯)。
該載體基材之材料或材料複合物可在一或兩面上予以一抗黏性(antiadhesive)、抗靜電、疏水化的或親水化的加工。所提及的改質作用提供,在面向該光聚合物層的一面,製作可從該載體基材分開而沒有破壞的(detachable)光聚合物層之目的。該載體基材與該光聚合物層反向的面之改質作用提供確保本發明的媒介滿足存在的特定機械需求,例如,在以輥層壓機(roll laminator)加工之情況下,尤其是以輥-對-輥方法。
本發明另外提供一種顯示器,其包含一本發明全像媒介。
此類顯示器的實例敘述例如於US 2009/174919 A1、WO 2012/035058及於未公開申請案EP 14155599.5。
本發明現將藉由實施例之方式更具體說明。
量測方法:
OH數:記錄的OH數依DIN 53240-2測定。
NCO值:記錄的NCO值(異氰酸酯含量)依DIN EN ISO 11909定量。
固體含量:記錄的固體含量依DIN EN ISO 3251測定。
藉由在一反射配置中的雙光束干涉之方式量測全像媒介的全像性質DE及Δn
如在“用於全像性質測定之媒介製備”中所獲得的媒介使用根據圖1的測量配置測試它們的全像性質如下:借助於該空間濾波器(SF)及連同該準直透鏡(CL),一He-Ne雷射光束(發射波長633nm)被轉換成一平行均勻光束。藉虹膜式光圈(I)固定訊號及參考光束之最後橫截面。該虹膜式光圈開口的直徑為0.4cm。該偏振-依賴性分光器(PBS)使該雷射光束分成二個相同偏振化的同調光束(coherent beams)。藉由λ/2板之方式,將參考光束的功率設至0.5mW及訊號光束的功率設至0.65mW。該功率使用半導體偵測器(D)利用所移除的樣品測得的。該參考光束的入射角度(α0)為-21.8°;該訊號光束的入射角度(β0)為41.8°。該角度係從正交於該光束方向之樣品繼續進行測量的。根據圖1,因此,α0具有一負號及β0具有一正號。在該樣品(媒介)的位置,兩個重疊光束的干涉場產生一垂直於在該樣品上入射的二個光束的角度平分線的亮與暗條之圖案(反射全像圖)。條間距Λ,亦稱為光柵週期(grating period),在媒介為~225nm(假設該媒介的折射率為~1.504)。
圖1顯示一在λ=633nm(He-Ne雷射)的全像媒介測試器(HMT)之幾何圖:M=鏡子,S=快門,SF=空間濾波器,CL=準直透鏡,λ/2=λ/2板,PBS=偏振-敏感性分光器,D=偵測器,I=虹膜式光圈,α0=-21.8°、β0=41.8°為在該樣品外(該媒介外)測得的同調光束的入射角度。RD=轉盤的參考方向。使用如圖1所示 全像測試設置測量該媒介的繞射效率(DE)。
依下述方式記錄在該媒介中的全像圖:
˙打開兩個快門(S)曝光時間t。
˙其後,隨著快門(S)關閉,媒介被允許5分鐘對於尚未聚合的寫入單體之漫射(diffusion)。
寫入的全像圖之後依下述方式讀出:訊號光束的快門仍舊關閉。參考光束的快門為打開的。該參考光束的虹膜式光圈為接近於一直徑為<1mm。對該媒介的全部轉動角度(Ω)而言,這確保該光束始終完全地在先前記錄的全像圖之內。該轉盤,在電腦控制之下,以一角度步寬為0.05°從Ωmin至Ωmax之角度範圍掃過。Ω為從正交於該轉盤的參考方向之樣品測得的。當該參考光束與訊號光束的入射角度在該全像圖的記錄上具有相同的絕對值時,i.e.α0=-31.8°與β0=31.8°,獲得該轉盤的參考方向。在彼情況下,Ω記錄=0°。當α0=-21.8°與β0=41.8°時,Ω記錄因此為10°。一般,對於該干涉場在該全像圖的記錄過程中:α00記錄θ0為在實驗系統中媒介外的半角度(semiangle)及,在全像圖的記錄過程中:
Figure TWI679189B_D0035
因此,在這情況下,θ0=-31.8°。在對轉動角度Ω的各設定下,在第零階透射光束的功率藉由對應偵測器D之方式測得,及在第一階繞射光束的功率藉由該偵測器D之方式測得。在角度Ω的各設定下,依下述商式計算繞射效率:
Figure TWI679189B_D0036
P D 為在該偵測器中對於該繞射光束的功率及P T 為在該偵測器中對於該透射光束的功率。
藉由上述方法之方式,對於該記錄的全像圖,測得布拉格曲線(Bragg curve),其說明該繞射效率η為一轉動角度Ω的函數,及存在一電腦上。此外,透射入第零階內的強度還針對轉動角度Ω記錄及存在一電腦上。
全像圖的最大繞射效率(DE=ηmax),i.e.其峰值,在Ω重建下被測定。在一些情況下,為了測定這最大值,對這目的需要改變該用於繞射光束之偵測器位置。
折射率對比△n及光聚合物層的厚度d現藉由耦合波理論(見:H.Kogelnik,The Bell System Technical Journal,Volume 48,November 1969,Number 9 page 2909-page 2947)之方式由測得的布拉格曲線及透射強度的角度輪廓來測定的。在這內文中,應注意是,由於該光聚合反應的結果發生厚度縮量(shrinkage),該全像圖的條間距A'及該條的定向(斜向)與該干涉圖案的條間距Λ及其定向有所不同。依此,角度α0'及轉盤Ω重建在達到其最大繞射效率下的對應角度亦會與α0及對應Ω記錄不同。這更改了布拉格條件(Bragg condition)。在評估程序中慮及這更改作用。在下文中說明該評估程序:相關於記錄的全像圖而非干涉圖案的全部幾何參數示為含質數(primes)的參數。
對一反射全像圖的布拉格曲線η(Ω),根據Kogelnik:
Figure TWI679189B_D0037
與:
Figure TWI679189B_D0038
Figure TWI679189B_D0039
Figure TWI679189B_D0040
Figure TWI679189B_D0041
Figure TWI679189B_D0042
Figure TWI679189B_D0043
Figure TWI679189B_D0044
下述保留類似於上述解釋的全像圖之讀出(“重建”):
Figure TWI679189B_D0045
Figure TWI679189B_D0046
在該布拉格條件下,“移相(dephasing)”DP=0。及它相對上遵循:α00重建
sin(α'0)=n.sin(α')
尚未知的角度β'能夠由在該全像圖記錄過程中干涉場的布拉格條件與在該全像圖重建過程中的布拉格條件之比對來測定,假設只厚度上發生縮量。它則遵循下式:
Figure TWI679189B_D0047
ν為光柵強度,ξ為失諧參數(detuning parameter)及ψ'為所寫入的折射率光柵的定向(斜向)。在全像圖的記錄期間α'及β'對應至該干涉場的角度α0及β0,而在媒介中測量及對該全像圖的光柵(在厚度上縮量)為有效的。n為光聚合物的平均折射率及被設為等於1.504。λ為在一真空下雷射光的波長。
最大繞射效率(DE=ηmax),當ξ=0時,則被計算為:
Figure TWI679189B_D0048
圖2顯示測得的透射功率P T (右手邊y-軸)對角度失諧△Ω繪圖為實線;該測得的繞射效率η(左手邊y-軸)對角度失諧△Ω繪圖為實心圓(filled circles)(至該偵測器的有限大小所容許的程度),及配合Kogelnik理論為破折線(左手邊y-軸)。
測得的繞射效率數據,理論的布拉格曲線及透射強度為,如示於圖2,對轉動的中心角度繪圖△Ω≡Ω,重建
Figure TWI679189B_D0049
,亦稱為角度失諧。
因為DE為已知的,理論的布拉格曲線的形狀,根據Kogelnik,只藉光聚合物層的厚度d'測定。△n經由一給定的厚度d'之DE被校正,如此使DE的量測及理論值始終一致。d'則被調整直到 理論布拉格曲線的第一次級最小值的角度位置對應於透射強度的第一次級最大值的角度位置為止,及在對於該理論布拉格曲線與對於該透射強度在半峰全寬值(full width at half maximum,FWHM)另外存在一致性。
因為其中一還轉動的反射全像圖的方向,當藉由一Ω掃描之方式重建時,但繞射光的偵測器只能夠覆蓋一有限角度範圍,該寬廣全像圖(小d')的布拉格曲線在一Ω掃描中沒有被全部覆蓋,而僅僅在中央區域,給定合適的偵測器定位。因此,該透射強度的形狀,其互補於布拉格曲線,另外被用於層厚度d'的調整。
圖2顯示根據耦合波理論的布拉格曲線η(破折線)、測得的繞射效率(實心圓)及透射功率(黑色實線)對角度失諧△Ω的繪圖。
對於一調配物,重複這程序,可能地數次,對在不同媒介上不同曝光時間t,為了實測在該全像圖記錄過程中該入射雷射光束的平均能量劑量(mean energy dose),於其DE到達飽和值。該平均能量劑量E由分配到角度α0及β0的兩個成分光束(在此參考光束Pr=0.50mW及在此訊號光束Ps=0.63mW)之功率、曝光時間t及虹膜式光圈的直徑(0.4cm)計算如下:
Figure TWI679189B_D0050
調整該成分光束的功率,如此使在媒介中在所用的角度α0及β0下達到相同功率密度。
物質:
所用的溶劑及試劑為商業上可取得的。
BINOL (+/-)-1,1'-雙(2-萘酚)[602-09-5]可得自ABCR GmbH & Co.KG,Karlsruhe,Germany。
6,6'-二溴-1,1'-聯萘-2,2'-二醇[80655-81-8]可得自ABCR GmbH & Co.KG,Germany。
7-甲氧基-2-萘酚 [5060-82-2]可得自Aldrich Chemie,Steinheim,Germany。
3-羥基-2-萘酸甲基酯[883-99-8]可得自ABCR GmbH & Co.KG,Karlsruhe,Germany。
6-溴-2-萘酚 [15231-91-1]可得自ABCR GmbH & Co.KG,Karlsruhe,Germany。
6-氰基2-萘酚 [52927-22-7]可得自ABCR GmbH & Co.KG,Karlsruhe,Germany。
2-(苯基硫代)-苯基異氰酸酯[13739-55-4],可得自ABCR GmbH & Co.KG,Karlsruhe,Germany。
CGI-909 參(3-氯-4-甲基苯基)(己基)硼酸四丁基銨鹽[1147315-11-4]為由CIBA Inc.,Basle,Switzerland製造的產品。
Desmodur® N 3900 得自Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,DE的產品,己烷二異氰酸酯-系聚異氰酸酯,亞胺氧雜二
Figure TWI679189B_D0051
二酮的比例至少30%,NCO含量:23.5%。23.5%。
Desmodur® H 得自Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,DE的產品,單體性脂族二異氰酸酯,六亞甲基1,6-二異氰酸酯(HDI)或1,6-二異氰酸基己烷,NCO 含量:
Figure TWI679189B_D0052
49.7%。
Vestanat TMDI 得自Evonik Industries AG,Essen,DE的產品,單體性取代的脂族二異氰酸酯,一2,2,4-與2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯之大約1:1混合物。為清楚理由,這混合物在說明特定的2,2,4-異構物所作的實施例設計中不反射。該2,4,4-異構物,其同樣被形成,同樣為所意欲及涵蓋的。
Desmorapid Z 二月桂酸二丁基錫[77-58-7],得自Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,Germany的產品。
Fomrez UL 28 胺甲酸酯化觸媒(urethanization catalyst),Momentive Performance Chemicals,Wilton,CT,USA的商品。
Borchi® Kat 22 胺甲酸酯化觸媒,得自OMG Borchers GmbH,Langenfeld,Germany的產品。
KarenzAOI® 丙烯酸2-異氰酸基乙基酯,[13641-96-8],得自SHOWA DENKO K.K.,Fine Chemicals Group,Specialty Chemicals Department,Chemicals Division的產品。
KarenzMOI® 甲基丙烯酸2-異氰酸基乙基酯,[30674-80-7],得自SHOWA DENKO K.K.,Fine Chemicals Group,Specialty Chemicals Department,Chemicals Division的產品。
染料1 C.I.Basic Blue 3(為雙(2-乙基己基)磺基琥珀酸酯)係藉由WO2012062655,實施例9之已知方法製備。
除非另有指明,百分率全部為以重量計。
實施例1:甲基丙烯酸2-[({[2'-({[2-(丙烯醯氧基)乙基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]乙基酯
一100mL圓底燒瓶初始充裝有18.4g的BINOL、0.08g的Desmorapid Z與0.03g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的二氯甲烷。然後,逐滴添加一10.0g的KarenzMOI®與9.1g的KarenzAOI®之1:1混合物及該混合物於室溫下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在一旋轉蒸發器上釋放出二氯甲烷。獲得一呈無色固體之產物。
實施例2:二甲基2,2'-雙({[2-(甲基丙烯醯氧基)乙基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘基-3,3'-二羧酸酯
一25mL圓底燒瓶初始充裝有3.0g的二甲基2,2'-二羥基-1,1'-聯萘基-3,3'-二羧酸酯([47644-69-9],依於Tetrahedron Letters(1994),35(43),7983-4所述製備)、0.01g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於10mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加2.3g的KarenzMOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例3:1,1'-聯萘-2,2'-二基雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯
一250mL圓底燒瓶初始充裝有40.0g的BINOL、0.18g 的Desmorapid Z與0.06g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於80mL的二氯甲烷。然後,逐滴添加39.4g的KarenzAOI®及該混合物於室溫下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在一旋轉蒸發器上釋放出二氯甲烷。獲得一呈無色固體之產物。
實施例4:1,1'-聯萘-2,2'-二基雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯)
一100mL圓底燒瓶初始充裝有12.0g的BINOL、0.05g的Desmorapid Z與0.02g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的二氯甲烷。然後,逐滴添加13.0g的KarenzMOI®及該混合物於室溫下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在一旋轉蒸發器上釋放出二氯甲烷。獲得一呈無色固體之產物。
實施例5:(6,6'-二氰基-1,1'-聯萘-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯
一25mL圓底燒瓶初始充裝有3.0g的2,2'-二羥基-1,1'-聯萘基-6,6'-二甲腈(dicarbonitrile)([164171-19-1],依於Tetrahedron Letters(1994),35(43),7983-4所述製備自6-氰基-2-萘酚)、0.01g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於10mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加2.5g的KarenzAOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例6:(6,6'-二溴-1,1'-聯萘-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯
一25mL圓底燒瓶初始充裝有2.5g的6,6'-二溴-1,1'-聯萘-2,2'-二醇([80655-81-8],可得自ABCR GmbH & Co.KG, Karlsruhe,Germany)、0.01g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於10mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加1.6g的KarenzAOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例7:(6,6'-二溴-1,1'-聯萘-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯)
一25mL圓底燒瓶初始充裝有2.5g的6,6'-二溴-1,1'-聯萘基-2,2'-二醇([80655-81-8],可得自ABCR GmbH & Co.KG,Karlsruhe,Germany)、0.01g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於10mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加1.7g的KarenzMOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例8:(7,7'-二甲氧基-1,1'-聯萘-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯
一25mL圓底燒瓶初始充裝有3.0g的7,7'-二甲氧基-1,1'-聯萘基-2,2'-二醇([128702-28-3],依於Tetrahedron Letters(1994),35(43),7983-4所述製備自7-甲氧基-2-萘酚)、0.01g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於10mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加2.5g的KarenzAOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例9:丙烯酸2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'- 聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯
一250mL圓底燒瓶初始充裝有34.6g的BINOL與0.09g的Borchi® Kat 22於50mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加15.4g的異氰酸己基酯及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。此得到49.3g之呈無色固體的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基。
一100mL圓底燒瓶初始充裝有18.6g的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基己基胺甲酸酯、0.03g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加6.35g的KarenzAOI®及該混合物於80℃下攪拌直到該異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例10:甲基丙烯酸2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯
一100mL圓底燒瓶初始充裝有18.1g的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基己基胺甲酸酯(見實施例9)、0.03g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加6.81g的KarenzMOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例11:丙烯酸2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯
一250mL圓底燒瓶初始充裝有35.3g的BINOL與0.09g的Borchi® Kat 22於50mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加14.7g的異 氰酸苯基酯及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。此得到49.2g之呈無色固體的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基苯基胺甲酸酯。
一100mL圓底燒瓶初始充裝有18.5g的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基苯基胺甲酸酯、0.03g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加6.44g的KarenzAOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例12:丙烯酸2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯
一100mL圓底燒瓶初始充裝有18.0g的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基酯苯基胺甲酸(見實施例11)、0.03g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加6.90g的KarenzMOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例13:丙烯酸2-[({[2'-({[3-(甲基硫烷基)苯基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]乙基酯
一250mL圓底燒瓶初始充裝有31.7g的BINOL與0.08g的Borchi® Kat 22於50mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加18.3g的異氰酸3-甲基硫代苯基酯及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。此得到49.5g之呈無色固體的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基[3-(甲基硫烷 基)苯基]胺甲酸酯。
一100mL圓底燒瓶初始充裝有19.0g的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基[3-(甲基硫烷基)苯基]胺甲酸酯、0.03g的Borchi® Kat 22與0.02g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加5.94g的KarenzAOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例14:甲基丙烯酸2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯
一100mL圓底燒瓶初始充裝有18.6g的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基[3-(甲基硫烷基)苯基]胺基甲酸酯(見實施例13)、0.03g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加6.38g的KarenzMOI®及該混合物於80℃下攪拌直到該異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例15:丙烯酸2-[({[2'-({[3-(甲基硫烷基)苯基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]乙基酯
一250mL圓底燒瓶初始充裝有27.8g的BINOL與0.07g的Borchi® Kat 22於50mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加22.1g的2-異氰酸基苯基苯硫化物([13739-55-4])及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。此得到48.9g之呈無色固體的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基[2-(苯基硫烷基)苯基]胺甲酸酯。
一100mL圓底燒瓶初始充裝有19.6g的2'-羥基-1,1'-聯 萘-2-基[2-(苯基硫烷基)苯基]胺甲酸酯、0.03g的Borchi® Kat 22與0.02g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加5.38g的KarenzAOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例16:甲基丙烯酸2-{[({2'-[(己基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯
一100mL圓底燒瓶初始充裝有19.2g的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基[2-(苯基硫烷基)苯基]胺甲酸酯(見實施例15)、0.03g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加5.79g的KarenzMOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例17:丙烯酸2-{[({2'-[(1-萘基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯
一250mL圓底燒瓶初始充裝有31.4g的BINOL與0.08g的Borchi® Kat 22於50mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加18.5g的1-萘基異氰酸酯及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。此得到49.1g之呈無色固體的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基1-萘基胺甲酸酯。
一100mL圓底燒瓶初始充裝有19.0g的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基[2-(苯基硫烷基)苯基]胺甲酸酯、0.03g的Borchi® Kat 22與0.02g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加5.90g的KarenzAOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含 量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例18:甲基丙烯酸2-{[({2'-[(1-萘基胺甲醯基)氧基]-1,1'-聯萘-2-基}氧基)羰基]胺基}乙基酯
一100mL圓底燒瓶初始充裝有18.6g的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基1-萘基胺甲酸酯(見實施例17)、0.03g的Borchi® Kat 22與0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚於25mL的乙酸乙酯。然後,逐滴添加6.34g的KarenzMOI®及該混合物於80℃下攪拌直到該異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例19:己烷-1,6-二基雙(胺甲醯氧基-1,1'-聯萘基e-2',2-二基氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯
於80℃下一250mL圓底燒瓶初始充裝有37.2g的BINOL於150g的乙酸乙酯及之後充裝有0.005g的Desmorapid Z。一10.7g量的六亞甲基二異氰酸酯(Desmodur H,得自Bayer MaterialScience AG的產品,NCO含量>49.7%)在強烈攪拌下被摻和,於這溫度下持續攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。由此獲得的雙(2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基)己烷-1,6-二基雙胺甲酸酯具有一於乙酸乙酯中固體含量為24.2%。
於80℃下空氣流中使一61.2g量的上述雙(2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基)己烷-1,6-二基雙胺甲酸酯於乙酸乙酯之溶液與逐滴添加的5.6g的KarenzAOI®摻和,及於這溫度下攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色油物之產物。
實施例20:己烷-1,6-二基雙(胺甲醯氧基-1,1'-聯萘-2',2-二基氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯)
於80℃下空氣流中使一61.2g量的雙(2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基)己烷-1,6-二基雙胺甲酸酯(見實施例19)於乙酸乙酯之溶液與逐滴添加的6.2g的KarenzMOI®摻和,及於這溫度下攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色油物之產物。
實施例21:(2,2,4-三甲基己烷-1,6-二基)雙(胺甲醯氧基-1,1'-聯萘-2',2-二基氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯
於80℃下一250mL圓底燒瓶初始充裝有40.1g的BINOL於150g的乙酸乙酯及之後充裝有0.005g的Desmorapid Z。一14.5g量的三甲基六亞甲基二異氰酸酯(Vestanat TMDI,得自Evonik Industries的產品,NCO含量=40.0%)在強烈攪拌下被摻和,於這溫度下持續攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。由此獲得的雙(2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基)(2,2,4-三甲基己烷-1,6-二基)雙胺甲酸酯具有一於乙酸乙酯中固體含量為26.7%。
於80℃下空氣流中使一58.7g量的上述雙(2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基)(2,2,4-三甲基己烷-1,6-二基)雙胺甲酸酯於乙酸乙酯之溶液與逐滴添加的5.6g的KarenzAOI®摻合,及於這溫度下攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色油物之產物。
實施例22:(2,2,4-三甲基己烷-1,6-二基)雙(胺甲醯氧基-1,1'-聯萘-2',2-二基氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯)
於80℃下空氣流中一58.7g量的雙(2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基)(2,2,4-三甲基己烷-1,6-二基)雙胺甲酸酯於乙酸乙酯(見實施例21)之溶液與逐滴添加的6.2g的KarenzMOI®被摻和,及於這溫度下攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色油物之產物。
實施例23:2-({[(2'-{[(3-{[({[2'-({[2-(丙烯醯氧基)乙基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]甲基}-3,5,5-三甲基環己基)胺甲醯基]-氧基}-1,1'-聯萘-2-基)氧基]羰基}胺基)乙基丙烯酸酯
於80℃下一250mL圓底燒瓶初始充裝有40.1g的BINOL於150g的乙酸乙酯及之後充裝有0.005g的Desmorapid Z。一15.2g量的3-異氰酸基甲基-3,5,5-三甲基環己基異氰酸酯(Desmodur I,異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI),得自Bayer MaterialScience AG的產品,NCO含量>37.5%)在強烈攪拌下被摻和,於這溫度下持續攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。由此獲得的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基{3-[({[(2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基)氧基]羰基}胺基)甲基]3,5,5-三甲基環己基}胺甲酸酯具有一於乙酸乙酯中固體含量為26.9%。
於80℃下空氣流中一59.1g量的上述2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基{3-[({[(2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基)氧基]羰基}胺基)甲基]3,5,5-三甲基環己基}胺甲酸酯於乙酸乙酯之溶液與逐滴添加的5.6g的KarenzAOI®被摻和,及於這溫度下攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色油物之產物。
實施例24:2-({[(2'-{[(3-{[({[2'-({[2-(甲基丙烯醯氧基)乙基]胺甲醯基}氧基)-1,1'-聯萘-2-基]氧基}羰基)胺基]甲基}-3,5,5-三甲基環己基)胺甲醯基]氧基}-1,1'-聯萘-2-基)氧基]羰基}胺基)乙基甲基丙烯酸酯)
於80℃下空氣流中一59.1g量的2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基{3-[({[(2'-羥基-1,1'-聯萘-2-基)氧基]羰基}胺基)甲基]3,5,5-三甲基環己基}胺甲酸酯於乙酸乙酯(見實施例23)之溶液與逐滴添加的6.2g的KarenzMOI®被摻和,及於這溫度下攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色油物之產物。
實施例25:(6-溴-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯
在一玻璃燒杯中,充分混合16.0g的2-萘酚、22.5g的6-溴-2-萘酚與1.5g的CuCl(OH)*TMEDA(依於Tetrahedron Letters 1994(35),7983-7984所述製備)及之後加熱至100℃為時120分鐘。所獲得的混合物以200mL的10%氨溶液清洗及以200mL的水清洗兩次,乾燥及藉層析法純化。此得到21.2g的6-溴-1,1'-聯萘基-2,2'-二醇。
4.41g的6-溴-1,1'-聯萘基-2,2'-二醇與0.015g的Desmorapid Z及0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚一起添加至初始的25mL乙酸乙酯裝料中。然後,逐滴添加3.41g的KarenzAOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例26:(6-溴-1,1'-聯萘基-2,2'-二基)雙(氧基羰基 亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯)
4.23g的6-溴-1,1'-聯萘基-2,2'-二醇(依實施例25所述製備)與0.015g的Desmorapid Z及0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚一起添加至初始的25mL乙酸乙酯裝料中。然後,逐滴添加3.59g的KarenzMOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例27:(6-氰基-1,1'-聯萘-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯
在一玻璃燒杯中,充分混合20.8g的2-萘酚、22.2g的6-氰基-2-萘酚與1.5g的CuCl(OH)*TMEDA(依於Tetrahedron Letters 1994(35),7983-7984所述製備)及之後加熱至100℃為時120分鐘。所獲得的混合物以200mL的10%氨溶液清洗及以200mL的水清洗兩次,乾燥及藉層析法純化。此得到4.80g的6-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二醇。
4.10g的6-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二醇與0.015g的Desmorapid Z及0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚一起添加至初始的25mL乙酸乙酯裝料中。然後,逐滴添加3.72g的KarenzAOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例28:(6-氰基-1,1'-聯萘-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯)
3.92g的6-氰基-1,1'-聯萘基-2,2'-二醇(依於實施例27所述製備)與0.015g的Desmorapid Z及0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲 基酚一起添加至初始的25mL乙酸乙酯裝料中。然後,逐滴添加3.90g的KarenzMOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例29:(6-溴-6'-氰基-1,1'-聯萘-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙丙烯酸酯
在一玻璃燒杯中,充分混合22.8g的6-溴-2-萘酚、15.8g的6-氰基-2-萘酚與1.4g的CuCl(OH)*TMEDA(依於Tetrahedron Letters 1994(35),7983-7984所述製備)及之後加熱至100℃為時120分鐘。所獲得的混合物以200mL的10%氨溶液清洗及以200mL的水清洗兩次,乾燥及藉層析法純化。此得到4.70g的6'-溴-2,2'-二羥基-1,1'-聯萘基-6-甲腈。
4.54g的6'-溴-2,2'-二羥基-1,1'-聯萘基-6-甲腈與0.015g的Desmorapid Z及0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚一起添加至初始的25mL乙酸乙酯裝料中。然後,逐滴添加3.28g的KarenzAOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
實施例30:(6-溴-6'-氰基-1,1'-聯萘-2,2'-二基)雙(氧基羰基亞胺基乙烷-2,1-二基)雙(2-甲基丙烯酸酯)
4.36g的6'-溴-2,2'-二羥基-1,1'-聯萘基-6-甲腈(依於實施例29所述製備)與0.015g的Desmorapid Z及0.01g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚一起添加至初始的25mL乙酸乙酯裝料中。然後,逐滴添加3.46g的KarenzMOI®及該混合物於80℃下攪拌直到異氰酸酯含量 已降到0.1%以下為止。該產物之後在旋轉蒸發器上釋放出乙酸乙酯。獲得一呈無色固體之產物。
光聚合物調配物之其他成分製備:
多醇1製備:
一1升燒瓶初始充裝有0.18g的辛酸錫、374.8g的ε-己內酯與374.8g的二官能性聚四氫呋喃聚醚多醇(當量重500g/mol OH),其被加熱至120℃及維持於這溫度下直到固體含量(非揮發性組成的比例)為99.5重量%或更高為止。隨後,冷卻該混合物及獲得呈蠟狀固體之產物。
胺甲酸酯丙烯酸酯(寫入單體)1製備:2-({[3-(甲基硫烷基)-苯基]胺甲醯基}氧基)乙基丙-2-烯酸酯
一100mL圓底燒瓶初始充裝有0.02g的2,6-二-tert-丁基-4-甲基酚、0.01g的Desmorapid Z、11.7g的3-(甲基硫代)苯基異氰酸酯[28479-1-8],及該混合物加熱至60℃。隨後,逐滴添加8.2g的丙烯酸2-羥乙基酯及該混合物仍維持於60℃下直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下為止。此接著冷卻。獲得呈無色液體之產物。
添加劑1製備:雙(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟庚基)(2,2,4-三甲基己烷-1,6-二基)雙胺甲酸酯
一50ml圓底燒瓶初始充裝有0.02g的Desmorapid Z與3.6g的Vestanat TMDI,及該混合物加熱至60℃。隨後,逐滴添加11.9g的2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟庚烷-1-醇及該混合物仍維持於60℃直到異氰酸酯含量已落在0.1%以下。此接著冷卻。獲得一呈無色油物之產物。
比較例1(寫入單體)製備:磷亞硫醯基參(氧基苯-4,1- 二基胺甲醯氧基乙烷-2,1-二基)參丙烯酸酯
一500mL圓底燒瓶初始充裝有0.1g的2,6-二-tert-丁基-4-甲基酚、0.05g的二月桂酸二丁基錫及213.07g的參(p-異氰酸基苯基)硫代磷酸酯於乙酸乙酯之27%溶液(Desmodur® RFE,得自Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,Germany之產品),其被加熱至60℃。隨後,逐滴添加42.37g的丙烯酸2-羥乙基酯及該混合物仍維持於60℃直到該異氰酸酯含量已落在0.1%以下。此接著冷卻及在真空中完全移除乙酸乙酯。獲得呈部分結晶固體之產物。
比較例2(寫入單體)製備:((4-甲基苯-1,3-二基)雙[胺甲醯氧基-3-(聯苯-2-基氧基)丙烷-2,1-二基]雙丙烯酸酯及(4-甲基苯-1,3-二基)雙[胺甲醯氧基3-(聯苯-2-基氧基)丙烷-1,2-二基]雙丙烯酸酯及類似異構物之混合物):
一裝配有回流冷凝器及攪拌器之三頸燒瓶初始充裝有430.2g的Denacol EX 142(Nagase-Chemtex,Japan)、129.7g的丙烯酸、1.18g的三苯基膦及0.006g的2,6-二tert-丁基-4-甲基酚。此外,該系統經溫度調節至60℃及使一緩慢氣流通過它。該反應混合物之後於90℃下攪拌24小時。此得到一OH數=157.8mg KOH/g之澄清液體。21.3g的此中間物及5.2g的2,4-及2,6-甲苯胺(toluidine)二異氰酸酯之混合物(Desmodur T80,Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,Germany)初始裝入一裝配有回流冷凝器及攪拌器之三頸燒瓶中。此外,該系統經溫度調節至60℃及使一緩慢氣流通過它。在初始放熱反應之後,該產物於60℃下攪拌24小時。此得到一澄清、無色、玻璃狀產物具NCO=0%。
製造欲測定全像性質的媒介
實施例媒介I
3.38g的多醇成分1與2.00g的按照式(I)之實施例1、2.00g的胺甲酸酯丙烯酸酯2、1.50g的添加劑1、0.10g的CGI 909、0.026g的染料1及0.35g的N-乙基吡咯烷酮於60℃下混合以獲得一澄清溶液。此接著冷卻至30℃,摻和0.65g的Desmodur® N3900及重新混合。此最後接著摻和0.01g的Fomrez UL 28及重新短暫混合。所獲得的液體物料(liquid mass)之後倒在一玻璃板上及在其上覆蓋有一第二玻璃板。這試驗樣品於室溫下留置12小時用於固化。
實施例媒介II至IX如實施例媒介I所述製備。如表1所列示,實施例1由在特定行中舉出的實施例之相同重量分率所代替。
比較例媒介V-I
3.38g的多醇成分1與2.00g的比較例1、2.00g的胺甲酸酯丙烯酸酯1、1.50g的添加劑1、0.10g的CGI 909、0.010g的染料1及0.35g的N-乙基吡咯烷酮於60℃下混合以獲得一澄清溶液。此接著冷卻至30℃,摻和0.65g的Desmodur® N3900及重新混合。此最後接著摻和0.01g的Fomrez UL 28及重新短暫混合。所獲得的液體物料之後倒至一玻璃板上及在其上以一第二玻璃板覆蓋。這試驗樣品於室溫下留置12小時用於固化。
比較例媒介V-II
3.38g的多醇成分1與2.00g的比較例2、2.00g的胺甲酸酯丙烯酸酯1、1.50g的添加劑1、0.10g的CGI 909、0.010g的染料1及0.35g的N-乙基吡咯烷酮於60℃下混合以獲得一澄清溶液。此接著冷卻至30℃,摻和0.65g的Desmodur® N3900及重新混合。此最後接著摻和0.01g的Fomrez UL 28及重新短暫混合。所獲得的液體物 料之後倒至一玻璃板上及在其上以一第二玻璃板覆蓋。這試驗樣品於室溫下留置12小時用於固化。
在一薄膜塗覆系統上製造全像媒介
藉上述方法以達到在一全像性曝光的光聚合物中最準確的折射率調變Δn之測定,該繞射效率不僅是完全地飽和的而且是接近100%。繞射效率DE取決於Δn與光聚合物的層厚度d之乘積。於此獲得非常明亮的全像圖,其具有一非常高折射率對比Δn,因此需要製備具有一很薄層厚度d的測試樣品。為這目的,一選定的實施例(實施例3)在一連續塗覆系統中被加工至一光聚合物內。
圖3顯示所用的塗覆系統之概示設置,以下述組成部件為特徵:
1a,b 原料儲存容器
2a,b 計量單元
3a,b 真空脫氣單元
4a,b 過濾器
5 靜態混合器
6 塗覆單元
7 循環空氣乾燥器
8 載體基材
9 覆蓋層
為製備光聚合物調配物,45.7g的多醇1在一攪拌容器中增量地(incrementally)與290.0g的乙酸乙酯、20.0g的實施例1、60.0g的胺甲酸酯-丙烯酸酯1、60.0g的添加劑1、0.10g的Fomrez UL 28、1.80g的BYK® 310及0.52g的染料1摻和以獲得一澄清溶液。將 這混合物輸入該塗覆系統之原料儲存容器1a內。第二原料儲存容器1b填充有一分開製備的3.0g的CGI 909、8.87g的Desmodur N 3900及2.22g的乙酸丁酯之澄清混合物。該兩個成分之後藉計量單元2a及2b以16.3:1的比例(原料儲存容器1a:1b)各自饋至真空脫器單元3a及3b用於脫氣。由此,彼等之後各自通過過濾器4a及4b進入靜態混合器5內,其中混合該等成分以得到光聚合物調配物。所獲得的液體材料之後在黑暗中被送至塗覆單元6中。
在本發明的塗覆單元6為該項技術領域熟悉者已知的槽模(slot die)。然而,替代地,還能夠採用一刮刀系統或一輥塗系統。借助於該塗覆單元6,該光聚合物調配物於一加工溫度為20℃下被施塗至一載體基材8以一36μm-厚的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜形式,及在空氣循環乾燥器7中於交聯溫度為80℃下乾燥5.8分鐘。此得到一以薄膜形式之媒介,其之後鋪設有一40μm-厚聚乙烯薄膜作為覆蓋層9及被捲起。
在該薄膜中達到的層厚度為6μm至8μm。
全像測試:
如所述獲得的媒介藉使用一按照圖1的測量配置利用上述方式測試它們的全像性質。對於Δn在一固定劑量為36mJ/cm2下獲得下述量測:
實施例媒介I至IX之實測數值顯示用於該光聚合物調配物之本發明式(I)化合物係非常適用於具有很高折射率調變Δn之全像媒介。比較例媒介V-1及V-2為不含任何根據本發明之式(I)化合物及在全像媒介中具有較低的Δn值。實施例媒介X顯示採用根據本發明之式(I)化合物具有很高折射率調變Δn。

Claims (21)

  1. 一種光聚合物調配物,包含基體聚合物、寫入單體及光起始劑,其中該寫入單體包含一根據式(I)之化合物,
    Figure TWI679189B_C0001
    a)其在碳原子1、2、3、4、5、6、7、8之至少一個被一式(II)之結構部分R丙烯醯基取代
    Figure TWI679189B_C0002
    在此於該式(II)中R1 為氫或一(C1-C6)-烷基基團,X 為一羧醯胺(-C(O)N-)或一羧酸酯(-C(O)O-)或一磺醯胺(-SO2N-)基團,Y 為一具有2至10個碳原子之飽和的或不飽和的或線性或分支的選擇性取代的結構部分或一具有一至多五個(-CH2-CH2-O-)-或(-C(CH3)H-CH2-O-)-基團的聚醚或一具有一至五個氮原子之聚胺,及Z 為氧或硫,b)及該式(I)之化合物在碳原子1、2、3、4、5、6、7、8中之不少於一者上被一式(III)之萘結構部分取代
    Figure TWI679189B_C0003
    在此於該式(III)中該式(III)化合物的碳原子為各自獨立地以氫、鹵素、氰基、硝基或一選擇性取代的烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或雜芳基基團或一選擇性取代的烷氧基或烷硫基基團或任意取代的胺甲醯基基團(其還可架橋式連接至一式(I)之結構部分)或一三氟甲基基團或一三氟甲氧基基團或一式(IV)之結構部分R丙烯醯基'取代的,
    Figure TWI679189B_C0004
    其中在所述式(IV)中R1' 為氫或一(C1-C6)-烷基基團,X' 為一羧醯胺(-C(O)N-)或一羧酸酯(-C(O)O-)或一磺醯胺(-SO2N-)基團,Y' 為一具有2至10個碳原子之飽和的或不飽和的或線性或分支的選擇性取代的結構部分或一具有一至五個(-CH2-CH2-O-)-或(-C(CH3)H-CH2-O-)-基團的聚醚或一具有一至五個氮原子之聚胺,及Z' 為氧或硫,c)該式(I)化合物的剩餘碳原子為各自獨立地以氫、鹵素、氰基、硝基或一選擇性取代的烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或雜芳基基團或一選擇性取代的烷氧基或烷硫基的基團或一三氟甲基基團或一三氟甲氧基基團取代的。
  2. 根據申請專利範圍第1項之光聚合物調配物,其中在式(I)之位置5的碳原子上以式(III)之結構部分取代的。
  3. 根據申請專利範圍第1或2項之光聚合物調配物,其中該式(III)之結構部分為經由於位置8'上的碳原子鍵結至位置5上的碳原子。
  4. 根據申請專利範圍第1或2項之光聚合物調配物,其中在式(I)之位置6的碳原子上以式(II)之結構部分R丙烯醯基取代的。
  5. 根據申請專利範圍第1或2項之光聚合物調配物,其中該式(III)之結構部分於位置7'之碳原子上以式(IV)之結構部分R丙烯醯基'取代的。
  6. 根據申請專利範圍第1或2項之光聚合物調配物,其中在結構部分R丙烯醯基中X為羧醯胺及/或在結構部分R丙烯醯基'中X'為羧醯胺。
  7. 根據申請專利範圍第1或2項之光聚合物調配物,其中在結構部分R丙烯醯基中R1為氫或CH3結構部分及/或在結構部分R丙烯醯基'中R1'為氫或CH3結構部分。
  8. 根據申請專利範圍第1或2項之光聚合物調配物,其中在結構部分R丙烯醯基中Y為-CH2-CH2結構部分及/或在結構部分R丙烯醯基'中Y'為-CH2-CH2結構部分。
  9. 根據申請專利範圍第1或2項之光聚合物調配物,其中Z及/或Z'係氧。
  10. 一種全像媒介,包含根據申請專利範圍第1至9項中任一項之光聚合物調配物。
  11. 根據申請專利範圍第10項之全像媒介,其中該基體聚合物為交聯的基體聚合物。
  12. 根據申請專利範圍第10或11項之全像媒介,其中該基體聚合物為三維交聯的基體聚合物。
  13. 根據申請專利範圍第10或11項之全像媒介,其中該基體聚合物為三維交聯的聚胺甲酸酯類。
  14. 根據申請專利範圍第10或11項之全像媒介,其中該全像媒介包含至少一氟胺甲酸酯作為添加劑。
  15. 根據申請專利範圍第10或11項之全像媒介,其中該全像媒介為薄膜。
  16. 根據申請專利範圍第10或11項之全像媒介,其中該全像媒介為具一薄膜厚度為0.5μm至200μm之薄膜。
  17. 根據申請專利範圍第10或11項之全像媒介,其中該全像媒介為具一薄膜厚度為0.8μm至50μm之薄膜。
  18. 根據申請專利範圍第10或11項之全像媒介,其中該全像媒介為具一薄膜厚度為1μm至25μm之薄膜。
  19. 根據申請專利範圍第10或11項之全像媒介,其中該全像媒介含有至少一個曝光的全像圖。
  20. 根據申請專利範圍第10或11項之全像媒介,其具有在0.037至0.060範圍內之折射率調變(refractive index modulation)△n。
  21. 一種顯示器,包含一根據申請專利範圍第10至20項中任一項之全像媒介。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3233791B8 (de) * 2014-12-19 2020-12-30 Covestro Intellectual Property GmbH & Co. KG Feuchtigkeitsstabile holographische medien
KR20200005738A (ko) 2017-05-09 2020-01-16 코베스트로 도이칠란트 아게 홀로그래픽 노출용 광중합체 층 및 고내성의 코팅 층을 함유하는 홀로그래픽 매체
EP3401909A1 (de) 2017-05-09 2018-11-14 Covestro Deutschland AG Folienaufbau enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit
EP3401910A1 (de) 2017-05-09 2018-11-14 Covestro Deutschland AG Holographisches medium enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit
TW201906882A (zh) * 2017-05-09 2019-02-16 德商科思創德意志股份有限公司 含有用於全像照射的光聚合物層及高度耐性漆層之薄膜結構
JP2020520471A (ja) 2017-05-09 2020-07-09 コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトCovestro Deutschland Ag 光重合体フィルム複合材料中のホログラムを保護するための2つのuv硬化ドライ式転写コーティング層からなるシステム
US11718580B2 (en) 2019-05-08 2023-08-08 Meta Platforms Technologies, Llc Fluorene derivatized monomers and polymers for volume Bragg gratings
US11485874B2 (en) 2019-06-27 2022-11-01 Prc-Desoto International, Inc. Addition polymer for electrodepositable coating compositions
US11274167B2 (en) * 2019-06-27 2022-03-15 Prc-Desoto International, Inc. Carbamate functional monomers and polymers and use thereof
US11313048B2 (en) 2019-06-27 2022-04-26 Prc-Desoto International, Inc. Addition polymer for electrodepositable coating compositions
US11780819B2 (en) 2019-11-27 2023-10-10 Meta Platforms Technologies, Llc Aromatic substituted alkane-core monomers and polymers thereof for volume Bragg gratings
US11879024B1 (en) 2020-07-14 2024-01-23 Meta Platforms Technologies, Llc Soft mold formulations for surface relief grating fabrication with imprinting lithography
US20220153693A1 (en) * 2020-11-13 2022-05-19 Facebook Technologies, Llc Substituted mono- and poly-phenyl-core monomers and polymers thereof for volume bragg gratings
CN115386046A (zh) * 2021-05-24 2022-11-25 华为技术有限公司 全息记录介质、全息高分子材料及其制备方法、显示设备
WO2024052256A1 (de) 2022-09-07 2024-03-14 Covestro Deutschland Ag Spezielle benzopyryliumsalze als farbstoffe für photopolymerzusammensetzungen

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102209708A (zh) * 2008-10-22 2011-10-05 3M创新有限公司 包含具有氨基甲酸酯部分的联苯二(甲基)丙烯酸酯单体的牙科用组合物
JP2013014533A (ja) * 2011-07-02 2013-01-24 Kawasaki Kasei Chem Ltd 縮合多環芳香族骨格を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物及び連鎖移動剤並びにこれを用いたポリマー

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4576998A (en) * 1984-12-07 1986-03-18 The Dow Chemical Company Vinyl urethane composite polymer containing vinyl terminated urethane oligomers
DE3650107T2 (de) 1985-11-20 1995-05-24 Mead Corp Ionische Farbstoffe.
US4965152A (en) * 1988-01-15 1990-10-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Holographic notch filters
US5153237A (en) * 1991-09-09 1992-10-06 Isp Investments Inc. Radiation curable propenyl ether resins
GB9618604D0 (en) * 1996-09-06 1996-10-16 Dow Deutschland Inc Thermoset resins based on epoxy vinyl ester and urethane vinyl ester resins mixtures
WO2003102959A1 (en) * 2002-05-29 2003-12-11 Inphase Technologies, Inc. Holographic data storage media comprising an aluminum salt compound and an asymetric acrylate compound
WO2004077511A2 (en) * 2003-02-24 2004-09-10 The Regents Of The University Of Colorado (meth)acrylic and (meth)acrylamide monomers, polymerizable compositions, and polymers obtained
JP5076414B2 (ja) * 2005-11-29 2012-11-21 Jnc株式会社 重合性の光学活性化合物およびその組成物
TW200920785A (en) * 2007-09-06 2009-05-16 Nippon Paint Co Ltd Resin composition for hologram recording material, hologram recording material, and method for producing hologram recording medium
US20090174919A1 (en) 2007-12-28 2009-07-09 Gaylord Moss Directed illumination diffraction optics auto-stereo display
JP2009185192A (ja) * 2008-02-07 2009-08-20 Dic Corp 硬化性樹脂組成物、アルカリ現像型感光性樹脂組成物、これらの硬化物、ビニルエステル樹脂、及び酸基含有ビニルエステル樹脂
JP5402266B2 (ja) * 2008-06-10 2014-01-29 三菱化学株式会社 光反応性組成物、光学材料、ホログラム記録層形成用組成物、ホログラム記録材料およびホログラム記録媒体
DE502008002161D1 (de) 2008-08-08 2011-02-10 Bayer Materialscience Ag Phenylisocyanat-basierte Urethanacrylate mit hohem Brechungsindex
JP4803331B2 (ja) * 2009-02-18 2011-10-26 Dic株式会社 (メタ)アクリレート樹脂、その製造方法、硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びプラスチックレンズ
EP2496549B1 (de) * 2009-11-03 2014-10-08 Bayer Intellectual Property GmbH Neue, nicht kristallisierende methacrylate, deren herstellung und verwendung
WO2011067057A1 (de) * 2009-11-03 2011-06-09 Bayer Materialscience Ag Verfahren zur herstellung eines holographischen films
EP2497083B1 (de) * 2009-11-03 2013-12-25 Bayer Intellectual Property GmbH Photopolymer-formulierung mit verschiedenen schreibcomonomeren
ATE548730T1 (de) * 2009-11-03 2012-03-15 Bayer Materialscience Ag Photopolymerformulierungen mit einstellbarem mechanischem modul guv
WO2011091550A1 (en) * 2010-01-28 2011-08-04 Bayer Materialscience Ag High speed dvds
EP2354845B1 (de) * 2010-02-02 2015-12-23 Covestro Deutschland AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien
EP2531892B1 (de) * 2010-02-02 2016-01-27 Covestro Deutschland AG Verwendung einer photopolymer-formulierung mit triazin-basierten schreibmonomeren
RU2013110226A (ru) * 2010-08-11 2014-09-20 Байер Интеллектуэль Проперти Гмбх Дифункциональные (мет)-акрилатные пишущие мономеры
EP2431786A1 (de) 2010-09-17 2012-03-21 Bayer MaterialScience AG Autostereoskopisches 3D-Display
EP2450893A1 (de) 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien mit hoch vernetzten Matrixpolymeren
TWI664447B (zh) 2014-02-18 2019-07-01 德商拜耳材料科學股份有限公司 使用全像光學元件之裸視3d顯示裝置
EP3134446B1 (de) * 2014-04-25 2019-04-24 Covestro Deutschland AG Aromatische glykolether als schreibmonomere in holographischen photopolymer-formulierungen
EP3233791B8 (de) * 2014-12-19 2020-12-30 Covestro Intellectual Property GmbH & Co. KG Feuchtigkeitsstabile holographische medien

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102209708A (zh) * 2008-10-22 2011-10-05 3M创新有限公司 包含具有氨基甲酸酯部分的联苯二(甲基)丙烯酸酯单体的牙科用组合物
JP2013014533A (ja) * 2011-07-02 2013-01-24 Kawasaki Kasei Chem Ltd 縮合多環芳香族骨格を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物及び連鎖移動剤並びにこれを用いたポリマー

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Lee Y-K et al.,"Synthesis of Novel Chiral Poly(methacrylate)s Having Urea Moieties and (S)-Methylbenzyl or l-Phenylalanine Methyl Ester Groups and Their Chiral Recognition Abilities", Polymer J. , Vol.33, No.5, 2001, pages 411-418. *

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