TWI655956B - 氣體產生器 - Google Patents

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TWI655956B TW106122688A TW106122688A TWI655956B TW I655956 B TWI655956 B TW I655956B TW 106122688 A TW106122688 A TW 106122688A TW 106122688 A TW106122688 A TW 106122688A TW I655956 B TWI655956 B TW I655956B
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  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

本發明提供一種氣體產生器,包含電解裝置、補水裝置及水位偵測器。電解裝置用以電解容置其內之電解水以產生氫氣。補水裝置耦合於電解裝置,用以將容置其內的補充水回補至電解裝置中。水位偵測器耦合於電解裝置的外表面,用以偵測電解水的液面高度。其中,氣體產生器根據水位偵測器所偵測的液面高度藉以補充補充水至電解裝置中。本發明藉由非接觸式的水位偵測器量測液面高度,而後透過補水裝置補充補充水至電解裝置中,藉以確保電解裝置含有足量的液態水,進而提高氣體產生器壽命及使用安全性。

Description

氣體產生器
本發明係有關於一種氣體產生器,特別是有關於一種具有外貼式水位偵測器的氣體產生器。
一直以來,人類對於生命是十分地重視,許多醫療的技術的開發,都是用來對抗疾病,以延續人類的生命。過去的醫療方式大部分都是屬於被動式,也就是當疾病發生時,先診斷病因再對症進行醫療行為,比如手術、給藥、甚至癌症的化學治療、放射性治療、或者慢性病的調養、復健、矯正等。但是近年來,許多醫學專家逐漸朝向預防性的醫學方法進行研究,比如保健食品的研究,遺傳性疾病篩檢與提早預防等,更是主動的針對未來性可能之發病進行預防。另外,為了延長人類壽命,許多抗老化、抗氧化的技術逐漸被開發,且廣泛地被大眾採用,包含塗抹的保養品及抗氧化食物/藥物等。
經研究發現:人體因各種原因,(比如疾病,飲食,所處環境或生活習慣)引生的不安定氧(O+),亦稱自由基(有害自由基),可以與吸入的氫混合成部份的水,而排出體外。間接減少人體自由基的數量,達到酸性體質還原至健康的鹼性體質,可以抗氧化、抗老化,進而也達到消除慢性疾病和美容保健效果。甚至有臨床實驗顯示,對於一些久臥病床的病 人,因為長期呼吸高濃度氧,造成的肺損傷,可以透過吸入氫氣以緩解肺損傷的症狀。
一般電解裝置係利用電解液態水以產生氫氣供人體吸入,若液態水不足以正常電解時將產生空燒危險,所以需要偵測剩餘電解水之含量。然而因為電解水內的電解質容易腐蝕零組件,將導致容置於電解裝置內的水位計失效而產生電解水含量誤判的風險。
因此,本發明在於提供一種氣體產生器,用以電解液態水以產生氫氣。同時藉由非接觸式的水位偵測器量測液面高度,而後以此補充液態水至電解裝置中,藉以提高操作安全性及延長氣體產生器壽命。
本發明之一範疇在於提供一種氣體產生器,包含電解裝置、補水裝置及水位偵測器。電解裝置容置有電解水,電解裝置用以電解電解水以產生氫氣。補水裝置容置有補充水,補水裝置用以將補充水補充至電解裝置中。水位偵測器耦合於電解裝置之外表面且未與電解水接觸,用以偵測電解水之液面高度後產生一訊號。
根據本發明之另一具體實施例,氣體產生器另包含有一霧化反應室耦接電解裝置,霧化反應室用以接收氫氣並另產生一霧化氣體以與氫氣混合,同時補水裝置具有容置部分霧化反應室之容置空間。
根據另一具體實施例,氣體產生器另包含有一霧化產生元件耦合於霧化反應室,霧化產生元件用以將容置於霧化反應室內之前驅液體轉化為霧化氣體。
根據另一具體實施例,補水裝置耦接電解裝置及霧化反應 室,霧化反應室係藉由補水裝置接收來自電解裝置之氫氣。
根據另一具體實施例,補水裝置耦合電解裝置,用以接收電解裝置所產生之氫氣。更進一步地,電解裝置所產生之氫氣係通入補水裝置之補充水中。
根據另一具體實施例,氣體產生器係根據水位偵測器所產生之訊號將補充水補充至電解裝置中。
根據另一具體實施例,當水位偵測器偵測到液面高度低於所預設之一電解低限位時,氣體產生器將補水裝置內之補充水補充至電解裝置;當水位偵測器偵測到液面高度高於所預設之一電解高限位時,氣體產生器停止補充補充水,所述之電解低限位係低於所述之電解高限位。
根據另一具體實施例,氣體產生器另包含有一補水幫浦耦接電解裝置及補水裝置,用以帶動補充水流向電解裝置。
根據另一具體實施例,所述之水位偵測器係為電容式水位計。
本發明之另一範疇在於提供一種氣體產生器,包含電解裝置、補水裝置及水位偵測器。電解裝置容置有電解水,電解裝置用以電解電解水以產生氫氣。補水裝置容置有一補充水,補水裝置用以將補充水補充至電解裝置中。水位偵測器耦合於補水裝置之外表面且未與補充水接觸,用以偵測補充水之液面高度後產生一訊號。
根據另一具體實施例,氣體產生器另包含有一霧化反應室耦接電解裝置,霧化反應室用以接收氫氣並另產生一霧化氣體以與氫氣混合,同時補水裝置具有容置部分霧化反應室之容置空間。
根據另一具體實施例,氣體產生器另包含有一霧化產生元件耦合霧化反應室,霧化產生元件用以將容置於霧化反應室內之前驅液體轉化為所述之霧化氣體。
根據另一具體實施例,補水裝置耦接電解裝置及霧化反應室,霧化反應室藉由補水裝置接收電解裝置所產生之氫氣。
根據另一具體實施例,氣體產生器係根據水位偵測器所產生之訊號將補充水補充至電解裝置中。
根據另一具體實施例,補水裝置耦合電解裝置,電解裝置所產生之氫氣係通入於補充水中。
根據另一具體實施例,水位偵測器包含有一電極片,當液面高度低於電極片之高度時,水位偵測器產生訊號。
根據另一具體實施例,水位偵測器包含有兩電極片,水位偵測器根據所偵測之液面高度低於兩電極片,位於兩電極片間或高於兩電極片而產生不同之訊號。
根據另一具體實施例,電解裝置係容置於補水裝置內。
根據另一具體實施例,所述之水位偵測器係為電容式水位計。
綜合而言,本發明的重點在於提出一種氣體產生器,其包含電解裝置、補水裝置及水位偵測器。於本發明之氣體產生器中,電解裝置所產生的氫氣藉由補水裝置過濾後供人體吸入,而氣體產生器可根據非接觸式的水位偵測器所量測到的液面高度促使補水裝置補充補充水至電解裝置中,藉以確保電解裝置含有足量的液態水,進而提高氣體產生器壽命及 使用安全性。
1、2、3、4‧‧‧氣體產生器
12、22、32、42‧‧‧電解裝置
121、221、321、421‧‧‧電解水
23、33‧‧‧補水流道
14、24、34、44‧‧‧補水裝置
141、241、341、441‧‧‧補充水
16、26、36、46‧‧‧水位偵測器
161‧‧‧高水位電極
162‧‧‧低水位電極
18、28、38、48‧‧‧霧化反應室
181、281、381‧‧‧前驅液體
19、29‧‧‧補水幫浦
圖一係繪示根據本發明之一具體實施例之氣體產生器的示意圖。
圖二係繪示根據本發明之一具體實施例之水位偵測器之示意圖。
圖三係繪示根據本發明之另一具體實施例之氣體產生器的示意圖。
圖四係繪示根據本發明之另一具體實施例之氣體產生器的示意圖。
圖五係繪示本發明氣體產生器之一具體實施例之補水裝置之示意圖。
圖六係繪示圖五之不同視角之爆炸圖。
圖七係繪示根據本發明之另一具體實施例之氣體產生器的示意圖。
關於本發明的優點,精神與特徵,將以實施例並參照所附圖式,進行詳細說明與討論。
為了讓本發明的優點,精神與特徵可以更容易且明確地了解,後續將以實施例並參照所附圖式進行詳述與討論。值得注意的是,這些實施例僅為本發明代表性的實施例,其中所舉例的特定方法,裝置,條件,材質等並非用以限定本發明或對應的實施例。
請參閱圖一,圖一係繪示根據本發明之一具體實施例之氣體產生器1的示意圖。根據本發明之一具體實施例,本發明提供之氣體產生器1包含有電解裝置12、補水裝置14及水位偵測器16。電解裝置12容置有電解水121,電解裝置12用以電解電解水121以產生氫氣。補水裝置14容置有補充水141,補水裝置14用以回補補充水141至電解裝置12中。水位偵測器16耦合於電解裝置12之外表面且未與電解水121接觸,用以偵測電解水121之液面高度後產生一訊號。
於實務上,電解裝置12可以為一雙電極式電解槽,當電解槽通電時,電解槽之兩電極可電解水以同時產生氫氣及氧氣,若將所生成的氣體容置於同一空間時,則可混合生成氫氧混合氣體,所混合的氫氧混合氣體內氫氣與氧氣比例約為2:1。於另一實際應用中,電解裝置12亦可以為一離子膜電解裝置,透過離子交換膜的區隔以促使陽極室中的陽極電極生成氧氣而陰極室中的陰極電極生成氫氣。此外可再透過分別連接陽極室及陰極室的氣體流量計以分別調控所需之氧氣與氫氣的流量,藉以混合輸出所需之氫氣與氧氣的混和比例。於一具體實施例中,所輸出的氣體可以為純氫氣、純氧氣或可任意調配比例的氫氧混合氣體以供人體吸入。更進一步地,可再通入一外部氣體,藉以將所生成的氫氣、氧氣或氫氧混合氣體與外部氣體混合成所需之濃度配比,以做為不同之後續應用。其中,外部氣體可以為空氣、水氣、揮發性氣體藥劑或鈍氣等。
由於電解裝置12係透過電解液態水以生成氫氣,使得電解裝置12內的液態水將持續消耗,若未及時補充所消耗的液態水,將可能造成電解裝置12內的電解水121不足以正常電解而導致空燒危險,因此需要即時 地補充電解裝置12內的液態水,藉以確保氣體產生器1的使用安全。補水裝置14耦接於電解裝置12,用以將容置其內的補充水141補充至電解裝置12中以作為電解裝置12的電解水121使用,藉以確保電解裝置12內的液態水足以正常電解以產生氫氣。於一實施例中,氣體產生器1係根據水位偵測器16所產生之訊號以補充補充水141至電解裝置12中。於實務上,補充水141補充至電解裝置12內的多寡可透過量測電解裝置12內所含的電解水121液面高度得知,以確保電解裝置12內的電解水121含量足以供電解使用。
然而,由於電解裝置12內的電解水121可能富含有電解質,電解質係為侵蝕電子零件而造成損壞的元兇之一,若用以量測所述液面高度的水位計屬於直接接觸電解水121的量測形式,如:浮球式水位計,容易因富含電解質的電解水121或其揮發氣體侵蝕元件而造成損壞,進而導致水位計產生量測誤差,反而會產生電解水121含量誤判的可能性發生。此外,用以量測的水位計若處於時而於液體內、時而裸露於液體外之位置時,水位計亦可能因環境頻繁改變而產生量測誤差。
因此於一具體實施例中,本發明所使用之水位偵測器16係耦合於電解裝置12外表面,透過不與液體直接接觸的方式量測所述之液面高度,藉以確保所量測的液面高度符合實際高度,以準確的推算出液體含量。其中,所述之水位偵測器16可以利用光學折射方式、雷射測距方式、超音波量測方式、壓電量測方式、寄生電容量測方式或任何不需直接接觸液體之方式予以量測。於實際應用中,水位偵測器16可透過直接貼附的方式設置於電解裝置12之外表面,藉以降低水位偵測器16的裝設需求。
於一具體實施例中,氣體產生器1可根據水位偵測器16所量 測到的水位值決定補水裝置14之補充水141是否須補充至電解裝置12內,其操作方式可以為透過水位偵測器16與一水閥連接,此水閥用以阻絕補水裝置14內的補充水141流入電解裝置12內,於平時關閉水閥以避免補充水141流入電解裝置12,當水位偵測器16量測到電解裝置12內之液位不足時打開此水閥,而後透過重力、虹吸或施加外力的方式將補充水141補充至電解裝置12內。其中,所述之補充水141可以為純水或含有電解質之液態水。而於另一具體實施例中,水位偵測器16可搭配一補水幫浦19,補水幫浦19耦接電解裝置12及補水裝置14,另與水位偵測器16連接,水位偵測器16藉由所量測電解水121的液面高度決定是否通知補水幫浦19抽取補水裝置14內的補充水141以使補充水141流入電解裝置12中。其中補水幫浦19可以為一真空幫浦或抽水幫浦。
請參閱圖二,圖二係繪示根據本發明之一具體實施例之水位偵測器16之示意圖。於一具體實施例中,水位偵測器係利用可明確觀測所偵測的液位高度方式予以量測,如:雷射測距方式,則氣體產生器可透過水位偵測器所偵測的液位高度決定補充水回補至電解裝置之補水量。於另一實施例中,水位偵測器係監控所述液位是否超過一監控高度,氣體產生器藉由所述液面是否超過此監控高度以決定是否補充補充水至電解裝置內,以及補充至電解裝置之補水量。而於另一實施例中,水位偵測器係監控所述液位是否位於一監控區間內,藉以確保電解水含量足以供電解裝置正常電解。於另一具體實施例中,水位偵測器16係為一電容式水位計,藉由貼附於電解裝置外表面之高水位電極161及低水位電極162以感測其寄生電容之變化量,藉以量測電解水之含量。於實務中,水位偵測器16可預設 一電解低限位,其可以為電解裝置電解電解水時所需之最低水位,或額外增加一安全水量之水位。水位偵測器16另可預設一電解高限位,其可以為電解裝置電解電解水時所需之安全庫存水位、電解水可容置於電解裝置之最高水位,或於最低水位至最高水位中之任意水位高度。當水位偵測器16偵測到的液面高度低於所設定的電解低限位時,通知氣體產生器將補水裝置內之補充水回補至電解裝置中;而當水位偵測器偵測到的液面高度高於所設定的電解高限位時,氣體產生器停止回補補充水。
於實務上,氣體產生器所產生的氫氣可以直接供使用者吸入使用。而在其他應用上,氣體產生器所產生的氫氣亦可搭配其他可吸取之氣體混合而成一保健氣體一併使用。請再次參閱圖一,為使所產生的氫氣得以與其他氣體混合,氣體產生器1得另包含有一霧化反應室18耦接於電解裝置12,以接收所產生的氫氣並另產生一霧化氣體以與氫氣混合,進而混合成所需之保健氣體。其中,所述之霧化氣體可以選自於由水蒸汽,霧化藥水,揮發精油及其組合所組成之族群中的一種。
請參閱圖三,圖三係繪示根據本發明之另一具體實施例之氣體產生器2的示意圖。如圖三所示,本具體實施例與圖一所示之具體實施例不同處,在於本具體實施例之補水裝置24係位於電解裝置22與霧化反應室28間,補水裝置24透過補水流道23回補補充水241至電解裝置22中,而電解裝置22所產生的氫氣亦可透過補水流道23通入補水裝置24內的補充水241中,而後再輸送至霧化反應室28內。於實際應用中,由於電解裝置22所生成之氣體可能會因操作環境及生成方式而具高溫,同時亦會因高溫環境或生成方式而產生揮發水氣,使得所生成的氣體具高溫高濕之特性。再者, 揮發水氣不僅僅是電解水所構成,亦可能夾雜電解液中之電解質或雜質,使得所生成的氣體不但包含了所需之純氫氣、純氧氣或氫氧混合氣體,亦包含了不必要之濕氣及不適合人體吸入之電解質及雜質。這些高溫高濕及包含雜質之氣體不僅不適合人體吸入,亦會造成氣體產生器內的氣體連通管道及所流經的元件損耗,使氣體產生器的壽命因而下降,因此需要冷凝過濾所產生之氫氣。此時,補水裝置24內的補充水241不僅可用以回補至電解裝置22內以做為電解水221使用,同時電解裝置22所產生的氫氣亦可透過補充水241予以冷卻過濾,藉以將氫氣純化及降溫,進而提高氣體產生器2的使用安全及使用壽命。更進一步地,在冷卻過濾時所溶入補充水241之電解質可透過回補動作同時回補至電解裝置22內。請注意,本具體實施例之氣體產生器2的各單元之功能及構造與上述具體實施例之相對應單元大體上相同,故於此不再贅述。
請參閱圖二及圖四,圖四係繪示根據本發明之一具體實施例之氣體產生器3的示意圖。本發明之另一範疇在於提供一種氣體產生器3,根據本發明之一具體實施例,本發明提供之氣體產生器3包含電解裝置32、補水裝置34及水位偵測器36。電解裝置32容置有電解水321,電解裝置32用以電解電解水321以產生氫氣。補水裝置34容置有補充水341,補水裝置34用以回補補充水341至電解裝置32中。水位偵測器36耦合於補水裝置34之外表面且未與補充水341接觸,用以偵測補充水341之液面高度後產生訊號。如圖四所示,本具體實施例與圖三所示之具體實施例不同處,在於本具體實施例之水位偵測器36係耦合於補水裝置34之外表面。
於一實施例中,氣體產生器3根據所量測到的補充水341之液 位高度補充補充水341至電解裝置32中。其中,水位偵測器得包含有一電極片,用以監控所述液面高度是否超過一監控高度,而後產生一訊號。氣體產生器藉由水位偵測器所產生之訊號以決定是否補充補充水至電解裝置內,以及補充至電解裝置之補水量。於一具體實施例中,當所述液面高度超過監控高度時,水位偵測器產生一訊號,氣體產生器根據此訊號補充補充水至電解裝置內,直至容置於補水裝置之補充水液位低於監控高度。而於另一具體實施例中,當液面高度低於所監控之監控高度時,水位偵測器產生訊號,氣體產生器可根據此訊號得知補水裝置內的補充水不足而產生警報或停止補充補充水至電解裝置中。
於另一實施例中,水位偵測器係監控所述液位是否位於一監控區間內,藉以確保電解水含量足以供電解裝置正常電解。更進一步地,水位偵測器得包含有兩電極片,水位偵測器可根據所偵測之液面高度低於兩電極片,位於兩電極片間或高於兩電極片而產生不同之訊號。於一實施例中,水位偵測器36係為一電容式水位計,藉由貼附於補水裝置34外表面之高水位電極161及低水位電極162以感測其寄生電容之變化量,藉以量測補充水341之含量。其中,水位偵測器36可預設一補水低限位,其可以為補充水341位於補水裝置34內可輸出之最低水位,或額外增加一安全水量之水位。水位偵測器36另可預設一補水高限位,其可以為補水裝置34容置補充水341之安全庫存水位。當電解裝置32持續電解電解水321以生成氫氣後,氣體產生器3欲補充補充水341至電解裝置32內時,若水位偵測器36偵測到補充水341之液面高度高於所設之補水低限位,或更進一步地,高於所設之補水高限位時,氣體產生器3得通知補水裝置34回補補充水341至電解裝置 32內。而當水位偵測器36偵測到所述之液面高度低於所設之補水低限位時,通知補水裝置34停止回補補充水341。而於另一實施例中,氣體產生器3可根據電解裝置32電解之時間、所產生的氣體量、所消耗的功率以推估電解水321之消耗量,而後透過水位偵測器36之監控以補充等量或相似量的補充水341至電解裝置32中。
請參閱圖四~圖六,圖五係繪示本發明氣體產生器3之一具體實施例之補水裝置34之示意圖,圖六係繪示圖五之不同視角之爆炸圖。於實際應用中,為降低氣體產生器3之體積需求,上述之霧化反應室38可部分容置於補水裝置34中,藉以降低氣體產生氣3體積需求及減少氣體移動路徑。水位偵測器36貼合於補水裝置34之外表面,藉以監控補充水341之液位高度。其中,水位偵測器36可包含一電路插槽電連接於氣體產生器3的開關控制系統,水位偵測器36可透過電路插槽將所產生的訊號通知上述之開關控制系統,而後開關控制系統根據所接收的訊號藉以控制補充水回補至電解裝置中,其中所述之開關控制系統得用以控制上述之水閥或補水幫浦運作以使補充水回補至電解裝置中。此外,於實際應用中,霧化反應室所產生之霧化氣體可以由一前驅液體381轉化而成,氣體產生器可另包含有一霧化產生元件,用以將容置於霧化反應室內之前驅液體轉化為霧化氣體。於一實施例中,所述之霧化產生元件係為一震盪器,用以震盪前驅液體以使前驅液體轉化為霧化氣體。而於另一實施例中,所述之震盪器係設置於補水裝置之外表面,而補水裝置內的補充水包覆著承載前驅液體的霧化反應室,此時,震盪器係透過震盪補充水以將前驅液體轉化為霧化氣體。而於另一具體實施例中,補水裝置另具有一容置空間,用以容置做為震盪霧化 反應室用之震盪用水,震盪器係耦合於該容置空間並以直接或間接的方式震盪所述之震盪用水,藉以轉化前驅液體成霧化氣體。於另一實施例中,霧化產生元件係為一加熱器,用以直接加熱前驅液體或透過加熱霧化反應室以使前驅液體轉化為霧化氣體。於再一實施例中,加熱器係透過間接加熱於包覆在霧化反應室外之包覆液體以將前驅液體加熱轉化為霧化氣體,此時,所述之包覆液體得為上述之補充水。此外,藉由水位偵測器所偵測的補充水液位高度,氣體產生器得以避免霧化產生元件所造成的空燒或損壞危險發生。
請參閱圖七,圖七係繪示根據本發明之另一具體實施例之氣體產生器4的示意圖。如圖七所示,本具體實施例與圖一所示之具體實施例不同處,在於本具體實施例之電解裝置42係容置於補水裝置44內,同時水位偵測器46用以偵測補水裝置44內之補充水441水位。其中,補水裝置44內的補充水441得透過重力或施加外力的方式輸入至電解裝置42內以供電解裝置42予以電解產生氫氣,而後再將所產生之氫氣輸送至霧化反應室48中,或可如圖四之連接方式將所產生的氫氣先通入補充水441內予以冷卻過濾,而後再傳輸至霧化反應室48中。於實際應用中,將電解裝置所產生之氫氣通入補充水內不僅可冷卻高溫氫氣,同時亦可藉由液態之補充水過濾氫氣內之不純物,如:細微粒子、電解質等。而於另一實施例中,氣體產生器4可根據水位偵測器46的水位訊號以調整電解裝置42與補水裝置44的相對高度,藉以使補充水441得以自發地流入電解裝置42內。此外,所述之水位偵測器亦可耦合於電解裝置之外表面,用以偵測電解水421之液面高度。
綜上所述,於本發明之氣體產生器中,電解裝置所產生的氫氣藉由補水裝置過濾後供人體吸入,而氣體產生器可根據非接觸式的水位偵測器所量測到的液面高度促使補水裝置補充補充水至電解裝置中,藉以確保電解裝置含有足量的液態水,進而提高氣體產生器壽命及使用安全性。
藉由以上較佳具體實施例之詳述,係希望能更加清楚描述本發明之特徵與精神,而並非以上述所揭露的較佳具體實施例來對本發明之範疇加以限制。相反地,其目的是希望能涵蓋各種改變及具相等性的安排於本發明所欲申請之專利範圍的範疇內。雖然本發明已以實施方式揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (19)

  1. 一種氣體產生器,其包含有:一電解裝置,容置有一電解水,該電解裝置用以電解該電解水以產生一氫氣;一補水裝置,容置有一補充水,該補水裝置用以將該補充水補充至該電解裝置以及用以接收該氫氣;以及一水位偵測器,耦合於該電解裝置之外表面且未與該電解水接觸,用以偵測該電解水之一液面高度後產生一訊號;其中該補水裝置內的該補充水透過一補水流道回補至該電解裝置,且該補水裝置透過該補水流道接收該氫氣。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之氣體產生器,另包含有一霧化反應室耦接該電解裝置,該霧化反應室用以接收該氫氣,該霧化反應室另產生一霧化氣體以與該氫氣混合,該補水裝置具有容置部分該霧化反應室之容置空間。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之氣體產生器,另包含有一霧化產生元件耦合於該霧化反應室,該霧化產生元件用以將容置於該霧化反應室內之一前驅液體轉化為該霧化氣體。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之氣體產生器,其中該補水裝置耦接該電解裝置及該霧化反應室,該霧化反應室藉由該補水裝置接收該電解裝置所產生之該氫氣。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之氣體產生器,其中該氫氣係通入該補水裝置之該補充水中。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之氣體產生器,其中該氣體產生器係根據該訊號將該補充水補充至該電解裝置。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之氣體產生器,其中當該水位偵測器偵測到該 液面高度低於所預設之一電解低限位時,該補充水補充至該電解裝置;當該水位偵測器偵測到該液面高度高於所預設之一電解高限位時,停止補充該補充水,其中該電解低限位低於該電解高限位。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之氣體產生器,另包含有一補水幫浦耦接該電解裝置及該補水裝置,用以帶動該補充水流向該電解裝置。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之氣體產生器,其中該水位偵測器係為電容式水位計。
  10. 一種氣體產生器,其包含有:一電解裝置,容置有一電解水,該電解裝置用以電解該電解水以產生一氫氣;一補水裝置,容置有一補充水,該補水裝置用以將該補充水補充至該電解裝置以及用以接收該氫氣;以及一水位偵測器,耦合於該補水裝置之外表面且未與該補充水接觸,用以偵測該補充水之一液面高度後產生一訊號;其中該補水裝置內的該補充水透過一補水流道回補至該電解裝置,且該補水裝置透過該補水流道接收該氫氣。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之氣體產生器,另包含有一霧化反應室耦接該電解裝置,該霧化反應室用以接收該氫氣,該霧化反應室另產生一霧化氣體以與該氫氣混合,該補水裝置具有容置部分該霧化反應室之容置空間。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之氣體產生器,另包含有一霧化產生元件耦合於該霧化反應室,該霧化產生元件用以將容置於該霧化反應室內之一前驅液體轉化為該霧化氣體。
  13. 如申請專利範圍第11項所述之氣體產生器,其中該補水裝置耦接該電解裝置及該霧化反應室,該霧化反應室藉由該補水裝置接收該電解裝置所產生之該氫氣。
  14. 如申請專利範圍第10項所述之氣體產生器,其中該氣體產生器係根據該訊號將該補充水補充至該電解裝置。
  15. 如申請專利範圍第10項所述之氣體產生器,其中該水位偵測器係為電容式水位計。
  16. 如申請專利範圍第10項所述之氣體產生器,其中該補水裝置耦合該電解裝置,該電解裝置所產生之該氫氣係通入該補充水中。
  17. 如申請專利範圍第10項所述之氣體產生器,其中該水位偵測器包含有一電極片,當該液面高度低於該電極片之高度時,該水位偵測器產生該訊號。
  18. 如申請專利範圍第10項所述之氣體產生器,其中該水位偵測器包含有兩電極片,該水位偵測器根據所偵測之該液面高度低於兩電極片,位於兩電極片間或高於兩電極片而產生不同之該訊號。
  19. 如申請專利範圍第10項所述之氣體產生器,其中該電解裝置係容置於該補水裝置中。
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