TWI652552B - 工作台移入移出裝置 - Google Patents

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大陸商上海微電子裝備（集團）股份有限公司
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Abstract

本發明公開了一種工作台移入移出裝置，包括用於支撐工作台的底部框架、設於底部框架的下表面的空氣彈簧、工作台移動時產生支撐工作台的氣浮的氣墊單元以及設於底部框架上的移入移出單元，移入移出單元包括：滾輪單元，用於帶動工作台移動；板簧，其一端連接連接塊，另一端連接滾輪單元；板簧變形驅動單元，與板簧連接，用於在移動工作台時藉由驅動板簧變形使得滾輪單元與地面接觸。藉由設置板簧變形驅動單元，使板簧發生形變，在工作台移入移出時，使滾輪單元與地面接觸，帶動工作台移動，且不會出現轉矩過大而卡死的現象，提高了工作台移入移出過程中的穩定性。

Description

工作台移入移出裝置
本發明涉及光刻機技術領域，尤其涉及一種工作台移入移出裝置。
各類光刻機工作台在運行一段時間或遇故障時，需將工作台移出至光刻機外進行維護維修，維修完畢需再將工作台移入，為節省維護維修的時間，以及保證移入移出時設備的安全性，要求實現移入移出工作自動化進行。
現有的一些移入移出機構，通常為曲柄滑塊機構，由於空間限制，曲柄滑塊機構各鉸鏈並不共面，這就造成了鉸鏈處由於轉矩過大，容易卡死的現象，而且現有移入移出機構一般為單個使用，易對地面施加過大壓力，造成工作台傾覆，以致移入移出失敗。
本發明提供了一種工作台移入移出裝置，以解決習知技術中存在的問題。
為了解決上述技術問題，本發明的技術方案是：一種工作台移入移出裝置，包括用於支撐工作台的底部框架、設於所述底部框架的下表面的空 氣彈簧、用於在工作台移動時產生支撐工作台的氣浮力的氣墊單元以及設於所述底部框架上的移入移出單元，所述移入移出單元包括：滾輪單元，用於帶動所述工作台移動；板簧，其一端連接所述底部框架，另一端連接所述滾輪單元；板簧變形驅動單元，與所述板簧連接，用於在移動所述工作台時藉由驅動所述板簧變形使得所述滾輪單元與地面接觸。
較佳地，所述滾輪單元包括連接至所述板簧一端的連接架、設於所述連接架上的驅動滾輪和與所述驅動滾輪連接的電機。
較佳地，所述工作台移入移出裝置還包括固設於所述底部框架上的連接塊，所述板簧的一端藉由所述連接塊連接至所述底部框架；所述板簧與所述連接塊之間設有掛接塊，所述掛接塊的底部固定在所述板簧上，頂端設有掛鉤，所述掛鉤掛設於所述連接塊上。
較佳地，所述連接塊上設有與所述掛鉤相適配的凹槽，所述掛鉤掛設於所述凹槽中。
較佳地，所述板簧為二分段式結構，包括兩段，所述兩段之間藉由柔性鉸鏈連接。
較佳地，所述板簧變形驅動單元的位置與所述滾輪單元的位置對應。
較佳地，所述板簧變形驅動單元包括固設於所述板簧上的氣缸缸體、設於所述氣缸缸體內且可伸縮的氣缸活塞桿以及與所述氣缸缸體內部連通的氣管。
較佳地，所述氣管上設有壓力調節器。
較佳地，所述氣缸活塞桿頂端連接有一施力滾輪。
較佳地，所述板簧變形驅動單元還包括固定於所述底部框架上的托架，所述托架用於支撐所述施力滾輪。
較佳地，所述移入移出單元設有兩組，位於同一水平線上，且沿所述工作台移入移出方向對稱分佈於所述底部框架底部。
較佳地，所述移入移出單元沿所述工作台移入移出方向設於所述底部框架的側邊上。
較佳地，所述移入移出單元設有四組，分別沿所述工作台移入移出方向對稱分佈在所述底部框架的底面四角上。
本發明提供的工作台移入移出裝置，包括用於支撐工作台的底部框架、設於所述底部框架的下表面的空氣彈簧、工作台移動時產生支撐工作台的氣浮的氣墊單元以及設於所述底部框架上的移入移出單元，所述移入移出單元包括：滾輪單元，用於帶動所述工作台移動；連接塊，固設於所述底部框架上；板簧，其中一端連接所述連接塊，另一端連接所述滾輪單元；板簧變形驅動單元，與所述板簧連接，移動所述工作台時藉由驅動所述板簧變形使得所述滾輪單元與地面接觸。藉由在移入移出單元中設置板簧變形驅動單元，使板簧發生形變，在工作台移入移出時，使滾輪單元與地面接觸，帶動工作台移動，當移動結束後，使滾輪單元與地面分離，避免影響工作台工作且不會出現轉矩過大而卡死的現象。
1‧‧‧底部框架
2‧‧‧空氣彈簧
200‧‧‧移入移出單元
3‧‧‧氣墊單元
4‧‧‧滾輪單元
41‧‧‧連接架
42‧‧‧驅動滾輪
5‧‧‧連接塊
6‧‧‧板簧
61‧‧‧柔性鉸鏈
7‧‧‧掛接塊
71‧‧‧掛鉤
8‧‧‧板簧變形驅動單元
81‧‧‧氣缸缸體
82‧‧‧氣缸活塞杆
83‧‧‧施力滾輪
84‧‧‧收縮氣管
85‧‧‧頂起氣管
86‧‧‧壓力調節器
87‧‧‧進氣管
88‧‧‧托架
9‧‧‧地面
第1圖是本發明實施例1中工作台移入移出裝置的結構示意圖；第2圖是本發明實施例1中連接塊與板簧的連接主視圖；第3圖是本發明實施例1中連接塊與板簧的連接側視圖； 第4圖是本發明實施例1中柔性鉸鏈一具體結構示意圖；第5圖是本發明實施例1中兩組移入移出單元的分佈示意圖；第6圖是本發明實施例1中工作台移入移出裝置的在空氣彈簧收縮時的示意圖；第7圖是本發明實施例1中工作台移入移出裝置的在氣墊單元浮起時的示意圖；第8圖是本發明實施例2中移入移出單元的分佈示意圖；第9圖是本發明實施例3中移入移出單元的分佈示意圖；第10圖是本發明實施例4中工作台移入移出裝置的結構示意圖。
下面結合附圖對本發明作詳細描述。
實施例1
如第1圖所示，本發明提供了一種工作台移入移出裝置，包括用於支撐工作台的底部框架1、設於所述底部框架1的下表面的空氣彈簧2、工作台移動時產生支撐工作台的氣浮的氣墊單元3以及設於所述底部框架1上的移入移出單元200，所述移入移出單元200包括：滾輪單元4，用於帶動所述工作台移動，本實施例中滾輪單元4設於所述底部框架1下方，帶動工作台移出進行維修，以及當工作台維修結束後帶動工作台移入光刻機整機框架中。
連接塊5，固設於所述底部框架1上，用於安裝板簧6。
板簧6，其中一端連接所述連接塊5，如第2至3圖所示，所述板簧6與所述連接塊5之間設有掛接塊7，所述掛接塊7的底部固定在所述板簧6上，頂 端設有掛鉤71，所述掛鉤71掛設於所述連接塊5上。所述連接塊5上設有與所述掛鉤71相適配的凹槽，所述掛鉤71掛設於所述凹槽中，並對兩者之間進行固定。板簧6的另一端連接所述滾輪單元4。
板簧變形驅動單元8，與所述板簧6連接且移動所述工作台時藉由驅動所述板簧6變形使得所述滾輪單元4與地面接觸，具體的，在工作台移入移出時，使滾輪單元4與地面9接觸，帶動工作台移動，當移動結束後，使滾輪單元4與地面9分離，避免影響工作台工作，在工作台移入移出過程中不會出現轉矩過大而卡死的現象。請繼續參照第1圖，所述滾輪單元4包括連接至所述板簧6一端的連接架41、設於所連接架41上的驅動滾輪42和與所述驅動滾輪42連接的電機(圖中未示出)，連接架41設於板簧6遠離連接塊5的一端，將驅動滾輪42固定在板簧6上，電機用於在驅動滾輪42與地面9接觸並產生足夠的摩擦力時帶動驅動滾輪42旋轉從而帶動工作台移入移出。
較佳的，所述板簧6為二分段式結構，板簧6的兩段之間藉由柔性鉸鏈61連接，如第4圖所示為柔性鉸鏈61的一種具體結構，此結構可在板簧6下彎過程中實現柔性轉動，並為板簧6的復位提供回彈力，還可藉由上部的鉤狀結構，防止板簧6彎曲過大，造成屈服破壞，當然柔性鉸鏈61還可由軸承、轉軸等鉸鏈形式代替，只要能實現該功能即可。
請繼續參照第1圖，所述板簧變形驅動單元8的位置與所述滾輪單元4的位置對應。所述板簧變形驅動單元8包括固設於所述板簧6上的氣缸缸體81、設於所述氣缸缸體81內且可伸縮的氣缸活塞桿82、設於所述氣缸活塞桿82頂端的施力滾輪83、與所述氣缸缸體81內部連通的氣管，包括收縮氣管84和頂起氣管85。所述施力滾輪83與所述底部框架1接觸，用於將氣缸缸體81的作用力施加在底部框架1上，使得板簧6在底部框架1向板簧變形驅動單元8施加的反作用力下變形彎曲，同時該施力滾輪83還能降低氣缸活塞桿82與底部框架1接觸時 的摩擦力以及藉由施力滾輪83轉動釋放氣缸活塞桿82伸縮時的振動。頂起氣管85中進氣時，氣缸活塞桿82向上伸長，將施力滾輪83向上頂起，對底部框架1施力，使板簧6在反作用力下向下彎曲，驅動滾輪42與地面9接觸對地面9產生壓力，進而產生靜摩擦力，當收縮氣管84中進氣時，氣缸活塞桿82收縮，施力滾輪83不對底部框架1施力，板簧6復位，驅動滾輪42離開地面9。所述氣管上還設有壓力調節器86，所述壓力調節器86上還連有進氣管87，在驅動滾輪42與地面9接觸時，壓力調節器86針對驅動滾輪42對地面9產生的壓力進行調節，使得驅動滾輪42對地面9產生足夠壓力，繼而產生足夠的靜摩擦力以帶動工作台移動；同時壓力調節器86也可防止驅動滾輪42對地面9產生的壓力過大而造成工作台傾覆。所述板簧變形驅動單元8還包括固定於所述底部框架1上的托架88，所述托架88用於支撐所述施力滾輪83，當氣缸活塞桿82頂起時，藉由托架88將施力滾輪83托起，對底部框架1施力，增大了力的作用面積，穩定性好。本實施例中，沿重力方向向下看，柔性鉸鏈61、施力滾輪83和驅動滾輪42的作用點或者說受力中心，基本處於同一條直線上，由此可以保證受力均衡，進一步避免卡死的現象。
如第5圖所示，所述移入移出單元200設有兩組，位於同一水平線上，且沿所述工作台移入移出方向對稱分佈於所述底部框架1底部。圖中兩組移入移出單元200沿X軸方向對稱分佈，可有效分攤所需對地面施加的壓力，提高工作台的支撐穩定性和沿X正負方向移入移出時的平穩性。
採用本實施例提供的如上所述的工作台移入移出裝置實現工作台移入移出的過程中，所述空氣彈簧2、氣墊單元3以及滾輪單元4用於在不同的時刻支撐底部框架1。所述方法具體包括以下步驟：
S1：空氣彈簧2收縮，氣墊單元3開啟氣浮(此時由氣墊單元3支撐底部框架1)，板簧變形驅動單元8對底部框架1施力，使板簧6向下彎曲，滾 輪單元4與地面9接觸；具體的，如第6圖所示，所述板簧變形驅動單元8中的頂起氣管85進氣，氣缸活塞桿82向上頂起，使施力滾輪83對底部框架1施力，同時底部框架1的反作用力使板簧6向下彎曲，使滾輪單元4中的驅動滾輪42與地面9接觸，並產生靜摩擦力(在此過程中氣墊單元3持續對底部框架1進行支撐，當滾輪單元42與地面接觸後，滾輪單元42也對底部框架1起到一部分的支撐作用)。
S2：隨著板簧6進一步向下彎曲，氣墊單元3浮起(此時繼續由氣墊單元3作為主支撐元件、滾輪單元4作為輔支撐元件，共同支撐底部框架1)，滾輪單元4帶動所述工作台移出，即電機帶動驅動滾輪42滾動，從而帶動工作台移出，如第7圖所示。在工作台移出過程中還包括，藉由壓力調節器86針對驅動滾輪42對地面9產生的壓力進行調節，使得驅動滾輪42對地面9產生足夠壓力，繼而產生足夠的靜摩擦力以帶動工作台移動；同時壓力調節器86也可防止驅動滾輪42對地面9產生的壓力過大而造成工作台傾覆。
S3：當工作台維修完畢後，滾輪單元4帶動所述工作台移入；同樣的，在工作台移入過程中，壓力調節器86也要針對驅動滾輪42對地面9產生的壓力進行調節，使得驅動滾輪42對地面9產生足夠壓力，繼而產生足夠的靜摩擦力以帶動工作台移動；同時壓力調節器86也可防止驅動滾輪42對地面9產生的壓力過大而造成工作台傾覆。
S4：工作台移動結束後，空氣彈簧2膨脹，板簧變形驅動單元8不對底部框架1施力，板簧6復位(此時由空氣彈簧2支撐底部框架1)，底部框架1上的工作台正常工作。具體的，所述板簧變形驅動單元8中的收縮氣管84進氣，氣缸活塞桿82收縮，不對底部框架1施力，即工作台正常工作時，移入移出單元200收起，處於不工作狀態。
實施例2
如第8圖所示，與實施例1不同的是，本實施例中，所述移入移出單元200沿所述工作台移入移出方向設於所述底部框架1的兩條側邊上。所述施力滾輪83與光刻機整機框架接觸。本實施例中，移入移出單元200設有兩組，每組移入移出單元200與底部框架1沿X軸的一條側邊對應，這樣佈局完全避免了因驅動滾輪42施加在地面9上的壓力過大造成的工作台傾覆，提高了穩定性。移入移出單元200的數量不限於2組，只要與底部框架1的兩條側邊對應即可。
實施例3
如第9圖所示，與實施例1不同的是，本實施例中，所述移入移出單元200設有四組，分別沿工作台移入移出方向對稱分佈在所述底部框架1的底面四角上，這樣工作台移入移出時更加平穩安全，且進一步減小了每個驅動滾輪42施加在地面9上的壓力，進一步避免了工作台的傾覆，保證了工作台移入移出過中的安全性。
實施例4
如第10圖所示，與實施例1不同的是，本實施例中，所述施力滾輪83的底部不設有托架88，即將托架88去除，在整個過程中，頂起氣管85持續保持進氣，使施力滾輪83始終對底部框架1施加壓力，板簧6始終有向下彎曲的趨勢，這樣氣缸缸體81可以換為單作用氣缸，進氣氣路減少為1路，簡化了裝置的結構。
綜上所述，本發明提供的工作台移入移出裝置，包括用於支撐工作台的底部框架1、設於所述底部框架1的下表面的空氣彈簧2、工作台移動時產生支撐工作台的氣浮的氣墊單元3以及設於所述底部框架1上的移入移出單元200，所述移入移出單元200包括：滾輪單元4，用於帶動所述工作台移動；連接塊5，固設於所述底部框架1上；板簧6，其中一端連接所述連接塊5，另一端連接所述滾輪單元4；板簧變形驅動單元8，與所述板簧6連接，移動所述工作台時 藉由驅動所述板簧6變形使得所述滾輪單元4與地面接觸。藉由在移入移出單元200中設置板簧變形驅動單元8，使板簧6發生形變，在工作台移入移出時，使滾輪單元4與地面9接觸，帶動工作台移動，當移動結束後，使滾輪單元與地面9分離，避免影響工作台工作，且不會出現轉矩過大而卡死的現象，提高了工作台移入移出過程中的穩定性。
雖然說明書中對本發明的實施方式進行了說明，但這些實施方式只是作為提示，不應限定本發明的保護範圍。在不脫離本發明宗旨的範圍內進行各種省略、置換和變更均應包含在本發明的保護範圍內。

Claims (12)

  1. 一種工作台移入移出裝置，其包括用於支撐一工作台的一底部框架、設於該底部框架的下表面的一空氣彈簧、用於在該工作台移動時產生支撐該工作台的氣浮力的一氣墊單元以及設於該底部框架上的一移入移出單元，該移入移出單元包括：一滾輪單元，用於帶動該工作台移動；一板簧，其一端連接該底部框架，另一端連接該滾輪單元；一板簧變形驅動單元，與該板簧連接，用於在移動該工作台時藉由驅動該板簧變形使得該滾輪單元與地面接觸其中該板簧變形驅動單元包括固設於該板簧上的一氣缸缸體、設於該氣缸缸體內且可伸縮的一氣缸活塞桿以及與該氣缸缸體內部連通的一氣管。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之工作台移入移出裝置，其中該滾輪單元包括連接至該板簧一端的一連接架、設於該連接架上的一驅動滾輪和與該驅動滾輪連接的一電機。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之工作台移入移出裝置，其進一步包括固設於該底部框架上的一連接塊，該板簧的一端藉由該連接塊連接至該底部框架；該板簧與該連接塊之間設有一掛接塊，該掛接塊的底部固定在該板簧上，頂端設有一掛鉤，該掛鉤掛設於該連接塊上。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之工作台移入移出裝置，其中該連接塊上設有與該掛鉤相適配的一凹槽，該掛鉤掛設於該凹槽中。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之工作台移入移出裝置，其中該板簧為二分段式結構，包括兩段，該兩段之間藉由柔性鉸鏈連接。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之工作台移入移出裝置，其中該板簧變形驅動單元的位置與該滾輪單元的位置對應。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之工作台移入移出裝置，其中該氣管上設有一壓力調節器。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之工作台移入移出裝置，其中該氣缸活塞桿頂端連接有一施力滾輪。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之工作台移入移出裝置，其中該板簧變形驅動單元進一步包括固定於該底部框架上的一托架，該托架用於支撐該施力滾輪。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之工作台移入移出裝置，其中該移入移出單元設有兩組，位於同一水平線上，且沿該工作台移入移出方向對稱分佈於該底部框架底部。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之工作台移入移出裝置，其中該移入移出單元沿該工作台移入移出方向設於該底部框架的側邊上。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之工作台移入移出裝置，其中該移入移出單元設有四組，分別沿該工作台移入移出方向對稱分佈在該底部框架的底面四角上。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN108983552B (zh) * 2017-05-31 2020-01-24 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种移入移出机构及光刻机工件台移入移出装置
CN114310809B (zh) * 2022-01-29 2023-08-11 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） 工件台移入移出装置及作业系统

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2173231Y (zh) * 1993-11-29 1994-08-03 杭州铁路分局杭州机务段 气袋顶升、横移装置
US6639654B2 (en) * 2001-04-27 2003-10-28 Nikon Corporation Wafer stage carrier and removal assembly
JP2005347526A (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Nsk Ltd 搬送台車
JP4702083B2 (ja) * 2006-02-10 2011-06-15 ウシオ電機株式会社 ＸＹθ移動ステージ
CN100579887C (zh) * 2006-12-29 2010-01-13 上海三菱电梯有限公司 直线扶手驱动装置
CN101609263B (zh) * 2009-07-22 2011-03-30 上海微电子装备有限公司 光刻机硅片台移动装置及采用该移动装置的光刻机
JP5573214B2 (ja) * 2010-02-12 2014-08-20 株式会社ニコン 露光装置のメンテナンス方法、露光装置の製造方法及びデバイス製造方法
CN102830591B (zh) * 2011-06-17 2014-08-20 上海微电子装备有限公司 光刻机硅片台驱动装置
CN102962256A (zh) * 2012-12-03 2013-03-13 太原重工股份有限公司 顶杆小车及顶杆更换装置
CN104045019B (zh) * 2013-03-11 2016-08-03 上海微电子装备有限公司 一种同步提升移入移出机构
KR101626772B1 (ko) * 2015-12-18 2016-06-02 왕경희 활어운반차의 리어범퍼 파손방지장치
CN108983552B (zh) * 2017-05-31 2020-01-24 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种移入移出机构及光刻机工件台移入移出装置

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