TWI650583B - 最佳化之半導體透鏡製造方法及製造系統 - Google Patents

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Abstract

實施例包含經由製造一透鏡陣列所產生之一系統，雷射係經由該透鏡陣列發射。透鏡陣列可製造在用於製造雷射之半導體基板內，或可為可被校直於雷射之其他透明材料之一獨立基板。在一些實施例中，可產生比最終雷射所使用之透鏡還要多的透鏡。基板之內部可由用來發出雷射之透鏡形成，基板之外部可可由不用以發出雷射之透鏡形成。反而，經由蝕刻這些額外的透鏡，可產生具有較高品質的內部透鏡。

Description

最佳化之半導體透鏡製造方法及製造系統
實施例包含經由製造一透鏡陣列所產生之一系統，雷射係經由該透鏡陣列發射。透鏡陣列可製造在用於製造雷射之半導體基板內，或可為可被校直於雷射之其他透明材料之一獨立基板。在一些實施例中，可產生比最終雷射所使用之透鏡還要多的透鏡。基板之內部可被蝕刻以具有用來發出雷射之透鏡，基板之外部可被蝕刻以具有不用來發出雷射之透鏡。反而，經由蝕刻這些額外的透鏡，可產生具有較高品質的內部透鏡。
透鏡(傳送並折射光線之光學裝置)或者透鏡陣列可被製造於一半導體雷射基板之背部，用以背發射「垂直腔面發射雷射器」(Vertical Cavity Surface Emitting Lasers,VCSEL)或垂直延展或外部腔面發射雷射器(Vertical(Extended or External)Cavity Surface Emitting Lasers,VECSEL)設計。VCSEL係為一種半導體雷射二極體具有從與上表面垂直之雷射束發射。相比之下，傳統的邊緣發射半導體雷射係從藉由從一晶圓分割各別晶片所形成之表面來發射。VECSEL則是一種VCSEL，其已被重配置而具有在晶圓外面延展之腔體。另一方式來說，透鏡陣列可被以不同材料而分別製造，例如玻璃或透光聚合物。透鏡陣列可配置為藉由機械手段而在一組裝或製造程序中校直於雷射。這樣的透鏡陣列製造一般可藉由將一圖案從光阻藉由蝕刻轉移至基板表面而執行。一蝕刻透鏡之特徵在於其各別的曲率或曲率半徑(Radius of Curvature，ROC)，並且此曲率可為透鏡性能之一重要方面。一蝕刻透鏡亦可為一菲涅爾(Fresnel)或繞射結構，其中光線係藉由產生光線之一近似相延遲之一圖案來控制，並作為一傳統透鏡。在此例子中，從光阻(或一電子束抗蝕劑(electron beam resist)，或藉由一物 理壓印或沖壓而被圖案化之抗蝕劑)來之一圖案亦可藉由蝕刻而被轉移至基板材料之表面。
本發明係提供一種製造多透鏡之方法，該方法包含：對一基板上之一光阻層進行蝕刻以形成具有複數透鏡之一透鏡陣列，其中該透鏡陣列更包含具有一第一組透鏡之一內部以及具有一第二組透鏡之一外部，其中該第二組透鏡係設置於鄰近並圍繞該第一組透鏡，其中該第一組透鏡之各透鏡係被相同數量之該第一組透鏡之透鏡或該第二組透鏡之透鏡所圍繞；以及將複數雷射之各雷射定位成對應該第一組透鏡之各透鏡，並將該些雷射定位成不對應該第二組透鏡之任一透鏡。
本發明係提供一種製造多透鏡之系統，該系統包含：一處理器；以及至少一記憶體，當該系統在運作中時，其係與該處理器溝通，該記憶體具有儲存於其上之指令，藉由該處理器之執行，該等指令係至少使該系統：形成具有複數透鏡之一透鏡陣列，其中該透鏡陣列更包含具有一第一組透鏡之一內部以及具有一第二組透鏡之一外部，其中該第二組透鏡係設置於鄰近並圍繞該第一組透鏡，其中該第一組透鏡之各透鏡係被相同數量之該第一組透鏡之透鏡或該第二組透鏡之透鏡所圍繞；以及將複數雷射之各雷射定位成對應該第一組透鏡之各透鏡，並將該些雷射定位成不對應該第二組透鏡之任一透鏡。
本發明係提供一種製造多透鏡之方法，該方法包含：形成具有複數透鏡之一透鏡陣列，其中該透鏡陣列更包含具有一第一組透鏡之一內部以及具有一第二組透鏡之一外部，其中該第二組透鏡係設置於鄰近並圍繞該第一組透鏡，其中該第一組透鏡之各透鏡係被相同數量之該第一組透鏡之透鏡或該第二組透鏡之透鏡所圍繞；以及將複數雷射之各雷射定位成對應該第一組透鏡之各透鏡，並將該些雷射定位成不對應該第二組透鏡之任一透鏡。
100、200、300‧‧‧透鏡陣列
102、102a、102b、202、202a、202b、302a、302b、305、310、310a、310b‧‧‧透鏡
104、204、306‧‧‧雷射
106、206、350‧‧‧被沉積材料
400‧‧‧流程或程序
405‧‧‧光阻
410‧‧‧基板
圖1係為一蝕刻透鏡陣列之一實施例的示意圖，其中功能性透鏡係被校直於雷射。
圖2係為一蝕刻透鏡陣列之一實施例的示意圖，其中功能性透鏡係有目的地未校直於(偏離)雷射。
圖3係為一蝕刻透鏡陣列之一實施例的示意圖，其中詳細地顯示功能性透鏡，其被外部的、非功能性透鏡所包圍。
圖4係為一方法之一實施例的示意圖，該方法係為藉由蝕刻而將一圖案從光阻轉移至一基板。
以下將參照相關圖式，說明依本發明較佳實施例之一種最佳化之半導體透鏡製造方法，其中相同的元件將以相同的參照符號加以說明。
一般而言，蝕刻可為使用化學材料來製造一基板以移除一或多層之程序，連同基板的一些部分，該些部分係當被抗蝕刻之一遮罩材料所遮蓋時，不受到一特定的蝕刻重覆。透鏡製造程序需要逐步的對一光阻蝕刻或侵蝕以至光阻結構的形狀被轉移至基板。此種透鏡製造程序的速率不會比較慢的光阻材料之蝕刻程序還快的消耗化學反應物質。如此，基板材料與光阻材料之蝕刻比率理想上應該在整個蝕刻程序中為定值。將一透鏡陣列蝕刻至一基板之一問題係在於如此做可能會造成一負載效果，即由於蝕刻材料之面積與較慢被蝕刻材料或光阻的面積之比值而在不同位置產生不同的蝕刻率。這是因為假如有較多的基板面積為了蝕刻而未被光阻遮蓋，則速率會由於用以在局部區域蝕刻之化學反應物質之較低的可用性而被降低。化學反應物質之可用性可利用多種的氣體流與組成實驗、或利用電偏壓調整、或利用這二種技術之組合而被調整。然而，蝕刻之結果本質上是複雜的，且要解卷積(de-convolve)這麼多變數係為需要解決之一困難問題。
此問題之一解法可包含產生比足夠量還多之透鏡，以致該等功能性(亦即光線係經由這些透鏡被導向)透鏡係方便定位在一陣列中之 內部且在整個陣列中具有相同的未被遮蓋基板材料之面積與光阻材料之面積的比例。此曝露基板材料之面積與未被蝕刻之光阻材料之面積之相同比例可經由這些非功能性之外部透鏡(亦即光線不經由這些透鏡來導向)而被實現，這是因為這些外部透鏡包含被蝕刻材料，就如功能性透鏡。因此，各功能性透鏡可被相同數量之鄰接的透鏡(並且這些鄰接透鏡可為其他功能性透鏡或功能性透鏡與非功能性透鏡之組合)包圍。在任何功能性透鏡之中心與任何鄰接透鏡(不論它是功能或非功能性透鏡)之中心之間的距離可為相同。同樣的，從任何透鏡之中心到任何鄰接透鏡之距離可為相同，以致在任何兩鄰接透鏡之間的距離係為相同，不管是否一透鏡為功能性而另一透鏡為非功能性、或者兩透鏡皆為功能性、或者兩透鏡皆為非功能性。 當在陣列中之外部透鏡可能具有被蝕刻面積與非蝕刻或圖案化面積之一不同比例時，這些內部透鏡可用在蝕刻參數之特徵描述。
在一些實施例中，上述之解法可藉由一系統來執行。一般而言，該系統可包含一處理器及至少一記憶體，記憶體含有具指令之一程式，當執行於處理器時，該等指令係配置以執行製造透鏡之一作業。舉例來說，一電腦系統可被使用來設計透鏡之佈局並指示製造透鏡之設備。
這些透鏡陣列可以多種程序而製造以產生外部及內部透鏡，例如經由濕蝕刻、非等向性濕蝕刻以及電漿蝕刻。一灰階級微影程序亦可用來生產內部及外部透鏡。內部功能性透鏡可為從基板之一邊界而來之多個透鏡週期。非功能性外部透鏡可為非功能保護以具有用來生產一致性的內部透鏡之一定位功能。
在一些實施例中，一厚材料亦可被沉積於基板上以作為一保護高度屏障，使得基板落在其透鏡側時，該等透鏡不會被刮傷。
圖1係為一蝕刻透鏡陣列100之一實施例的示意圖，其中功能性透鏡102延伸至基板之邊緣。透鏡陣列100只含有功能性透鏡102(與非功能性透鏡相對)。當其被設計為傳送雷射輻射，這些透鏡可被視為具功能性。可觀察到，因為各功能性透鏡具有對應的雷射104，因此所有所畫出的透鏡102係為功能性的，該雷射104係在基板的對向側並且校直(或有目的地未校直，如圖2)於透鏡。在此陣列中，在陣列100之中間的透鏡 102a可配置以校直於VCSEL，而鄰近的透鏡102b環可有目的地設計為具有一比透鏡102a較小的間距(pitch)，透鏡102a係產生均勻發散之光束。 在一些實施例中，亦可具有一沉積材料106，其係設置在透鏡陣列100之上及周圍以避免透鏡被刮傷。
在一些實施例中，蝕刻程序可造成透鏡102a具有一不同的曲率半徑或與透鏡102b之曲率半徑相比，具有變化維度之不同半徑。這是因為未被遮蓋之基板材料與環繞透鏡102a、102b之被較緩慢蝕刻之光阻材料的比例可能會不同。透鏡102a本身包含光阻材料並且被透鏡102b環繞，透鏡102b亦包含光阻材料。在透鏡之間以及環繞透鏡之材料係未被遮罩之基板表面並且可從程序開始時被積極地蝕刻。相反地，透鏡102b包含光阻材料，但可能無法完全被其他光阻材料環繞。其中該等透鏡102b之一透鏡係被透鏡102b中的其他透鏡所鄰接或被透鏡102a所鄰接，鄰近材料亦是被緩慢蝕刻之光阻材料。然而，朝基板之外邊緣之方向，透鏡102b可不包含光阻材料。所以，負載效應在透鏡102b與102a之間可為不同。這表示未被遮蓋之基板材料之面積與被光阻所遮蓋之面積之比例係在透鏡102b(透鏡102b未被包含光阻材料之透鏡所環繞)與透鏡102a(其係被包含光阻材料之其他透鏡所環繞)之間產生不同。換言之，由於未被遮蓋之基板面積與被光阻透鏡圖案所遮蓋之面積之比例係在透鏡102b與102a之間產生不同，透鏡102b可具有不同於透鏡102a之曲率半徑之曲率半徑。
圖2係為一蝕刻透鏡陣列200之另一實施例的示意圖，其中功能性透鏡202係延伸至基板邊緣。然而，圖2與圖1不同，在圖1中因為各功能性透鏡102係被校直於其對應雷射104，所以透鏡102係為具功能性，而圖2所示為所有的功能性透鏡202b，除了透鏡202a之外，可有目的地未校直(偏離)於其對應的雷射204。藉由定位或設置透鏡202b使其偏離對應雷射204，從雷射所發射之光束可被方便地導向一所要的聚合、發散及/或一特定方向。
圖3係為一蝕刻透鏡陣列300之一實施例之示意圖，其中功能性透鏡305，即在虛線內之透鏡，係被外部、非功能性透鏡310所環繞，非功能性透鏡310係在虛線之下與外面。功能性透鏡係以細部放大呈現。 在以這樣的方法製造透鏡之中，其係與圖2之透鏡陣列200相對的，負載效應可被減少並且可製造更多一致性的透鏡。雖然透鏡陣列300於此是以圓形表示，但在其它實施例中可以不同形狀呈現。圖3不同於圖2是在於，在圖3中，存在一圈外部的非功能性透鏡310，其係被蝕刻至基板。所以，於此，透鏡陣列300係包含功能性透鏡305以及非功能性透鏡310。功能性透鏡305可被視為具有功能性，因為各功能性透鏡305具有一對應雷射306，其係在基板的對向側並且校直(或有目的地未校直)於透鏡。在此透鏡陣列300中，陣列300之中間位置之透鏡302a係校直於VCSEL，而鄰近環之透鏡302b可有目的地被設計為具有比透鏡302a更小之間距，透鏡302a係產生均勻發散之光束，或者在透鏡302a之雷射與透鏡302b之雷射之間存在一不同的校直。然後，存在外部的非功能性透鏡310，其係被蝕刻於基板上以減少功能性透鏡305之負載效應。亦有一沉積材料350設置於透鏡陣列300之上及周圍以避免透鏡之刮傷。
此外，如圖3所示，各功能性透鏡305之中心與周圍鄰接透鏡(不論其為一功能性透鏡305或非功能性透鏡310)之中心之間之距離可與在任兩個鄰近透鏡之中心之距離相同。舉例來說，功能性透鏡302a之中心與鄰近功能性透鏡302b之中心之間的距離可與非功能性透鏡310a之中心與鄰近非功能性透鏡310b之間的距離相同。換言之，從任何透鏡(功能性或非功能性)之中心到一鄰近透鏡(功能性或非功能性)之距離係皆相同。
與圖1之透鏡陣列100及圖2之透鏡陣列200相比，其中透鏡102b、202b、102a、202a係經歷不同的負載效應，於此，所有的功能性透鏡305係經歷實質上相似的負載效應，所以所有的功能性透鏡305係具有實質相似之曲率半徑。這些實質相似之負載效應係部分由於非功能性透鏡310的存在，其係環繞功能性透鏡305之陣列。與圖1及圖2之透鏡相比，於此，各功能性透鏡係被相同數量之其他(功能性或非功能性)透鏡所環繞，所以各功能性透鏡係經歷被蝕刻材料與未被蝕刻材料之相同的比例。既然各功能性透鏡310在其周圍具有相同比例之被快速蝕刻材料與被緩慢蝕刻材料，它係經歷與其他功能性透鏡相同的負載效應，所以所有的 功能性透鏡305係被產生而具有實質上相同的曲率半徑。
與在透鏡陣列300內之外部透鏡310相比，為了讓在透鏡陣列300內之內部透鏡305達到較高的一致性以得到較佳的功能性表現，一透鏡陣列300或其他光學表面之設計可克服蝕刻限制。其中，外部透鏡310係為非功能性保護以具有一定位功能以產生一致之內部透鏡305。此外，透鏡陣列300內的此種光學表面陣列可克服蝕刻限制，以使在透鏡陣列300內之內部透鏡305達到較高的一致性以得到較佳的功能性表現，而不是透鏡陣列300內之外部(非功能性)透鏡310以及緩衝外部透鏡310與功能性透鏡305之其他非功能性透鏡陣列。
此外，如上所述以及圖3所示，在透鏡陣列300內之功能性透鏡305，不包含透鏡302a，可偏離其各別雷射306校直以導引光束於一特定方向。未校直光束與校直光束之組合可為功能性並且具有一非功能性透鏡，其係被蝕刻以減少功能性透鏡305之負載效應。
一厚材料沉積可被沉積於邊界周圍或在透鏡305(未顯示於圖3，而是在圖1、2顯示)及/或310(材料350)之上、或其組合，以設置一保護高度以防透鏡305或310被刮傷。
圖4係為一方法之實施例的示意圖，其係藉由蝕刻而將一圖案從光阻405轉移至一基板410。圖4之流程或程序400係描繪一光阻結構405，其可被熔化於基板410上。一旦熔化於基板410上或使用習知技術者所知道之一不同的技術來將一光阻轉移至基板410上時，一圓形的形狀係被形成於基板410上。這個在基板410上之圓形形狀可受到一蝕刻程序。 在一被曝露的圓形形狀之下，該蝕刻程序可更快速地蝕刻並帶著的垂直方向性。蝕刻程序亦可對許多因素是敏感的，包含在光阻周圍之被曝露之基板材料的量。在蝕刻程序的結果中，某一形狀可完全被轉移至基板410。圖4係為單一光阻被轉移至基板410上之一實施例的示意圖；然而，多個或超過一個光阻可同時被轉移至基板410上。
另一實施例包含藉由一程序例如灰階級微影而將透鏡形狀直接製成於光阻。那些形狀可用作為透鏡。另一者，形狀之圖案亦可被蝕刻至基板材料。
在一實施例中，製造透鏡之一方法係包含蝕刻在一基板上之一光阻層以形成具有複數透鏡之一透鏡陣列，其中該透鏡陣列更包含具有一第一組透鏡之一內部以及具有一第二組透鏡之一外部，其中第二組透鏡係設置於鄰近並圍繞第一組透鏡，其中第一組透鏡之各透鏡係被相同數量之第一組透鏡或第二組透鏡所環繞，並且將各雷射定位成對應第一組透鏡之各透鏡並且將雷射定位成對應第二組透鏡之各透鏡。在一實施例中，蝕刻光阻層係藉由一濕蝕刻程序、一非等向性濕蝕刻程序、一電漿蝕刻程序以及一乾蝕刻程序之至少其中之一來實現。在一實施例中，蝕刻一層係包含將為了透鏡陣列之一圖案從光阻轉移至基板。在一實施例中，透鏡陣列係為圓形。在一實施例中，該等雷射係置於基板上相對於透鏡陣列的一側並且各雷射係配置以發射光線至第一組透鏡之各透鏡中。在一實施例中，一第一雷射係校直於第一組透鏡之一第一透鏡之中心，並且一第二雷射係校直為偏離第一組透鏡之一第二透鏡之中心。在一實施例中，將一厚材料沉積於基板以作為一保護高度屏障並避免刮傷。在一實施例中，第一組透鏡之各透鏡係包含實質相似之曲率半徑，並且第一組透鏡之各透鏡係配置以距離基板之邊界為多個透鏡之一長度。在一實施例中，從第一組透鏡或第二組透鏡之任一透鏡之中心到任何鄰近透鏡之中心之一距離係相同。在一實施例中，第二組透鏡之一第一透鏡係包含比第二組透鏡之一第二透鏡更小之一間距。
在一實施例中，為製造透鏡之一系統係包含一處理器；以及至少一記憶體，當系統在運作時，其係與處理器溝通。記憶體其上儲存有指令，當處理器執行指令時，其係至少造成系統形成具有多個透鏡之一透鏡陣列。其中，透鏡陣列更包含具有一第一組透鏡之一內部以及具有一第二組透鏡之一外部。其中，第二組透鏡係設置於鄰近並圍繞第一組透鏡，其中第一組透鏡之各透鏡係被相同數量之第一組透鏡或第二組透鏡所環繞，並且將複數雷射之各雷射定位成對應該第一組透鏡之各透鏡，並將該些雷射定位成不對應該第二組透鏡之任一透鏡。在一實施例中，造成系統形成一透鏡陣列之指令係造成該系統蝕刻在一基板上之一光阻層以形成該透鏡陣列。其中，蝕刻係藉由一濕蝕刻程序、一非等向性濕蝕刻程序、一 電漿蝕刻程序以及一乾蝕刻程序之至少其中之一來實現。在一實施例中，造成該系統蝕刻該層以形成該透鏡陣列之指令係造成該系統將一圖案從光阻轉移至基板。在一實施例中，透鏡陣列係為圓形。在一實施例中，該等雷射係置於基板上相對於透鏡陣列的一側並且各雷射係配置以發射光線至第一組透鏡之各透鏡中。在一實施例中，一第一雷射係校直於第一組透鏡之一第一透鏡之中心，並且一第二雷射係校直為偏離第一組透鏡之一第二透鏡之中心。在一實施例中，將一厚材料沉積於基板以作為一保護高度屏障並避免刮傷。在一實施例中，第一組透鏡之各透鏡係包含一實質相似之曲率半徑，並且第一組透鏡之各透鏡係配置以距離基板之邊界為多個透鏡之一長度。在一實施例中，從第一組透鏡或第二組透鏡之任一透鏡之中心到任何鄰近透鏡之中心之一距離係相同。在一實施例中，第二組透鏡之一第一透鏡係包含比第二組透鏡之一第二透鏡更小之一間距。在一實施例中，造成系統形成透鏡陣列之指令係控制一灰階級微影程序。在一實施例中，造成系統形成透鏡陣列之指令係造成該系統將透鏡形狀之一圖案轉移至基板。
在一實施例中，製造透鏡之一方法係包含形成具有複數透鏡之一透鏡陣列，其中該透鏡陣列更包含具有一第一組透鏡之一內部以及具有一第二組透鏡之一外部。其中，第二組透鏡係設置於鄰近並圍繞第一組透鏡，其中第一組透鏡之各透鏡係被相同數量之第一組透鏡或第二組透鏡所環繞，並且並且將複數雷射之各雷射定位成對應該第一組透鏡之各透鏡，並將該些雷射定位成不對應該第二組透鏡之任一透鏡。在一實施例中，形成該透鏡陣列係藉由一灰階級微影來實現。在一實施例中，形成透鏡陣列係包含將透鏡形狀之一圖案轉移至基板。在一實施例中，轉移透鏡形狀之圖案係包含蝕刻一光阻層與基板。在一實施例中，蝕刻一光阻層係包含一濕蝕刻程序、一非等向性濕蝕刻程序、一電漿蝕刻程序以及一乾蝕刻程序之至少其中之一。在一實施例中，透鏡陣列係為圓形。在一實施例中，該等雷射係置於基板上相對於透鏡陣列的一側並且各雷射係配置以發射光線至第一組透鏡之各透鏡中。在一實施例中，一第一雷射係校直於第一組透鏡之一第一透鏡之中心，並且一第二雷射係校直為偏離第一組透鏡之一 第二透鏡之中心。在一實施例中，將一厚材料沉積於基板以作為一保護高度屏障並避免刮傷。在一實施例中，第一組透鏡之各透鏡係包含一實質相似之曲率半徑，並且第一組透鏡之各透鏡係配置以距離基板之邊界為多個透鏡之一長度。在一實施例中，從第一組透鏡或第二組透鏡之任一透鏡之中心到任何鄰近透鏡之中心之一距離係相同。在一實施例中，第二組透鏡之一第一透鏡係包含比第二組透鏡之一第二透鏡更小之一間距。
雖然本發明係以實施例及變化態樣來描述，但需了解的是，本案所敘述之技術可具有許多額外的使用及應用。據此，本發明不應僅僅限制於本說明書之特定描述及多樣圖式，其僅僅是用來描述本發明之原則之實施例及應用。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發明之精神與範疇，而對其進行之等效修改或變更，均應包含於後附之申請專利範圍中。

Claims (34)

  1. 一種製造多透鏡之方法，該方法包含：對一基板上之一光阻層進行蝕刻以形成具有複數透鏡之一透鏡陣列，其中該透鏡陣列更包含具有一第一組透鏡之一內部以及具有一第二組透鏡之一外部，其中該第二組透鏡係設置於鄰近並圍繞該第一組透鏡，其中該第一組透鏡之各透鏡係被相同數量之該第一組透鏡之透鏡或該第二組透鏡之透鏡所圍繞；以及將複數雷射之各雷射定位成對應該第一組透鏡之各透鏡，並將該些雷射定位成不對應該第二組透鏡之任一透鏡。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中蝕刻該光阻層係藉由一濕蝕刻程序、一非等向性濕蝕刻程序、一電漿蝕刻程序以及一乾蝕刻程序之至少其中之一來實現。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之方法，其中蝕刻該光阻層係包含將用於該透鏡陣列之一圖案從該光阻層轉移至該基板。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該透鏡陣列係為圓形。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該等雷射係設置於基板上相對於該透鏡陣列的一側並且各雷射係配置以發射光線至第一組透鏡之各透鏡中。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之方法，其中一第一雷射係校直於該第一組透鏡之一第一透鏡之中心，並且一第二雷射係校直為偏離第一組透鏡之一第二透鏡之中心。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中將一厚材料沉積於該基板以作為一保護高度屏障並避免刮傷。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該第一組透鏡之各透鏡係包含實質相似之一曲率半徑，並且該第一組透鏡之各透鏡係配置以距離該基板之一邊界為多個透鏡之一長度。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中從該第一組透鏡或該第二組透鏡之任一透鏡之中心到任何鄰近透鏡之中心之一距離係相同。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該第二組透鏡之一第一透鏡係包含比第二組透鏡之一第二透鏡更小之一間距。
  11. 一種製造多透鏡之系統，該系統包含：一處理器；以及至少一記憶體，當該系統在運作中時，其係與該處理器溝通，該至少一記憶體具有儲存於其上之指令，藉由該處理器之執行，該等指令係至少使該系統：形成具有複數透鏡之一透鏡陣列，其中該透鏡陣列更包含具有一第一組透鏡之一內部以及具有一第二組透鏡之一外部，其中該第二組透鏡係設置於鄰近並圍繞該第一組透鏡，其中該第一組透鏡之各透鏡係被相同數量之該第一組透鏡之透鏡或該第二組透鏡之透鏡所圍繞；以及將複數雷射之各雷射定位成對應該第一組透鏡之各透鏡，並將該些雷射定位成不對應該第二組透鏡之任一透鏡。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之系統，其中使該系統形成一透鏡陣列之該等指令係使該系統蝕刻在一基板上之一光阻層以形成該透鏡陣列，其中該蝕刻係藉由一濕蝕刻程序、一非等向性濕蝕刻程序、一電漿蝕刻程序以及一乾蝕刻程序之至少其中之一來實現。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之系統，其中使該系統在該基板上蝕刻該光阻層以形成該透鏡陣列之該等指令係使該系統將該透鏡陣列的一圖案從該光阻層轉移至該基板。
  14. 如申請專利範圍第11項所述之系統，其中該透鏡陣列係為圓形。
  15. 如申請專利範圍第11項所述之系統，其中該等雷射係朝向於基板設置，其中各雷射係配置以發射光線至第一組透鏡之各透鏡中。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之系統，其中一第一雷射係校直於該第一組透鏡之一第一透鏡之中心，並且一第二雷射係校直為偏離第一組透鏡之一第二透鏡之中心。
  17. 如申請專利範圍第11項所述之系統，其中將一厚材料沉積於一基板以作為一保護高度屏障並避免刮傷。
  18. 如申請專利範圍第11項所述之系統，其中該第一組透鏡之各透鏡係包含實質相似之一曲率半徑，並且該第一組透鏡之各透鏡係配置以距離一基板之一邊界為多個透鏡之一長度。
  19. 如申請專利範圍第11項所述之系統，其中從該第一組透鏡或該第二組透鏡之任一透鏡之中心到任何鄰近透鏡之中心之一距離係相同。
  20. 如申請專利範圍第11項所述之系統，其中該第二組透鏡之一第一透鏡係包含比第二組透鏡之一第二透鏡更小之一間距。
  21. 如申請專利範圍第11項所述之系統，其中使該系統形成該透鏡陣列之該指令係控制一灰階級微影程序。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之系統，其中使該系統形成該透鏡陣列之該等指令係使該系統將透鏡形狀之一圖案轉移至一基板。
  23. 一種製造多透鏡之方法，該方法包含：形成具有複數透鏡之一透鏡陣列，其中該透鏡陣列更包含具有一第一組透鏡之一內部以及具有一第二組透鏡之一外部，其中該第二組透鏡係設置於鄰近並圍繞該第一組透鏡，其中該第一組透鏡之各透鏡係被相同數量之該第一組透鏡之透鏡或該第二組透鏡之透鏡所圍繞；以及將複數雷射之各雷射定位成對應該第一組透鏡之各透鏡，並將該些雷射定位成不對應該第二組透鏡之任一透鏡。
  24. 如申請專利範圍第23項所述之方法，其中形成該透鏡陣列係藉由灰階級微影來實現。
  25. 如申請專利範圍第23項所述之方法，其中形成該透鏡陣列係包含將透鏡形狀之一圖案轉移至一基板。
  26. 如申請專利範圍第25項所述之方法，其中轉移透鏡形狀之該圖案係包含蝕刻一光阻層及該基板。
  27. 如申請專利範圍第26項所述之方法，其中蝕刻一光阻層係包含一濕蝕刻程序、一非等向性濕蝕刻程序、一電漿蝕刻程序以及一乾蝕刻程序之至少其中之一。
  28. 如申請專利範圍第23項所述之方法，其中該透鏡陣列係為圓形。
  29. 如申請專利範圍第23項所述之方法，其中該等雷射係朝向於基板設置，使得各雷射係配置以發射光線至第一組透鏡之各透鏡中。
  30. 如申請專利範圍第29項所述之方法，其中一第一雷射係校直於該第一組透鏡之一第一透鏡之中心，並且一第二雷射係校直為偏離第一組透鏡之一第二透鏡之中心。
  31. 如申請專利範圍第23項所述之方法，其中將一厚材料沉積於一基板以作為一保護高度屏障並避免刮傷。
  32. 如申請專利範圍第23項所述之方法，其中該第一組透鏡之各透鏡係包含實質相似之一曲率半徑，並且該第一組透鏡之各透鏡係配置以距離一基板之一邊界為多個透鏡之一長度。
  33. 如申請專利範圍第23項所述之方法，其中從該第一組透鏡或該第二組透鏡之任一透鏡之中心到任何鄰近透鏡之中心之一距離係相同。
  34. 如申請專利範圍第23項所述之方法，其中該第二組透鏡之一第一透鏡係包含比第二組透鏡之一第二透鏡更小之一間距。
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