TWI644309B - 張力分布控制裝置及帶狀體搬運裝置 - Google Patents

Abstract

本發明係提供一實施形態的張力分布控制裝置(2)，其具有：導引輥(21)，其係與行進之薄膜(F)接觸；以及，張力分布形成手段(22)，其係對於與前述導引輥(21)接觸之前述薄膜F的接觸部(F3)，朝前述薄膜(F)之面內方向施加負荷，藉此形成前述薄膜(F)之行進方向的張力在與前述行進方向交叉之寬度方向的張力分布形成。

Description

張力分布控制裝置及帶狀體搬運裝置

本發明係關於張力分布控制裝置及帶狀體搬運裝置。

本申請案係依據於2016年9月9日向日本提出申請之特願2016-176728號主張優先權，並在此援用其內容。

就控制薄膜、薄片、帶體等帶狀體之寬度方向的張力分布之張力分布控制裝置而言，已知有下述專利文獻1記載之張力控制裝置。該張力控制裝置係用以控制成行進之磁帶的帶體寬度方向之張力成為均勻之裝置，其具備如下構成：檢測磁帶之帶體寬度方向的張力分布之張力檢測部；按壓磁帶之帶體寬度方向的張力較弱部分，而消除帶體寬度方向之張力差的張力調整部；依據張力檢測部之檢出結果，使磁帶之帶體寬度方向的張力成為均勻之方式控制張力調整部之控制部。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2004-206818號公報

上述習知技術中，係藉由將輥抵壓於帶狀體之需要處，以使帶狀體之寬度方向的張力成為均勻。然而，利用輥之抵壓來控制帶狀體之張力分布會使帶狀體變形成凸狀或凹狀。若如此地使帶狀體表面外變形，則有帶狀體容易刮傷之問題。

本發明係有鑑於上述問題點而完成者，其目的在於提供一種可一邊抑制帶狀體之刮傷的同時，一邊控制帶狀體之張力分布之張力分布控制裝置及帶狀體搬運裝置。

本發明之第1態樣係一種張力分布控制裝置，其具有：導引輥，其係與行進之帶狀體接觸；及張力分布形成手段，其係對於與前述導引輥接觸之前述帶狀體的接觸部，朝前述帶狀體之面內方向施加負荷，藉此使形成前述帶狀體之行進方向的張力在與前述行進方向交叉之寬度方向的張力分布。

而且，在本發明之第2態樣，前述導引輥在寬度方向被分割，由可以各自相異之旋轉數旋轉之複數個分割輥所形成。

再且，在本發明之第3態樣，前述張力分布 形成手段係對於與前述複數個分割輥接觸之前述帶狀體的複數個接觸部中之至少一個，朝前述面內方向施加負荷，藉此形成前述張力分布。

再且，在本發明之第4態樣，前述複數個分割輥係具有：與前述帶狀體之寬度方向中央部接觸之中央輥；以及，設置於前述中央輥之兩側，且與前述帶狀體之寬度方向兩側接觸之一對側輥。

再且，在本發明之第5態樣，前述張力分布形成手段係具有：與前述分割輥接觸之接觸輥；以及，控制前述接觸輥之旋轉扭力的旋轉扭力控制手段。

再且，在本發明之第6態樣，前述張力分布形成手段係具有：接觸輥，其係與接觸於前述分割輥之前述帶狀體的接觸部接觸；以及，旋轉扭力控制手段，其係控制前述接觸輥之旋轉扭力。

再且，在本發明之第7態樣，前述旋轉扭力控制手段係具有：與前述接觸輥連接之離合器；以及，與前述離合器連接之馬達。

再且，在本發明之第8態樣係一種帶狀體搬運裝置，其具有：使帶狀體行進之夾持輥；以及，控制前述帶狀體行進方向之張力在寬度方向之張力分布的先前記載之張力分布控制裝置。

在本發明中，係對於與導引輥接觸之帶狀體的接觸部，朝該帶狀體之面內方向施加負荷，藉此形成帶 狀體之行進方向的張力之與該行進方向交叉之寬度方向的張力分布。依據該構成，用以於帶狀體形成張力分布之負荷係施加於導引輥所支撐之帶狀體的接觸部，且由於該負荷之方向為帶狀體之面內方向，故帶狀體不會產生表面外變形。

因此，在本發明中，係可在抑制帶狀體之刮傷的同時，控制帶狀體之張力分布。

1‧‧‧夾持輥

2‧‧‧張力分布控制裝置

2A‧‧‧張力分布控制裝置

2B‧‧‧張力分布控制裝置

11、12‧‧‧輥

21‧‧‧導引輥

22‧‧‧張力分布形成手段

23‧‧‧接觸輥

23A‧‧‧接觸輥

24‧‧‧旋轉扭力控制手段

24A‧‧‧旋轉扭力控制手段

24B‧‧‧旋轉扭力控制手段

25‧‧‧離合器

26‧‧‧馬達

27A‧‧‧框架

27A1‧‧‧軸承

27A2‧‧‧離合器支撐部

27A3‧‧‧馬達支撐部

27B‧‧‧基底框架

28、28A‧‧‧缸筒

29‧‧‧固定構件

30‧‧‧分割輥

31‧‧‧中央輥

32‧‧‧側輥

33‧‧‧側輥

40、50‧‧‧軸

41、42‧‧‧軸承

43‧‧‧內套筒

44‧‧‧外套筒

45‧‧‧輥部

100‧‧‧薄膜搬運裝置(帶狀體搬運裝置)

A、B‧‧‧照相機

F‧‧‧薄膜(帶狀體)

F1‧‧‧薄膜F之一主面

f1‧‧‧第1薄膜

F2‧‧‧薄膜F之另一主面

f2‧‧‧第2薄膜

F3‧‧‧接觸部

第1圖係本發明之實施形態中之薄膜搬運裝置之構成圖。

第2圖係表示本發明之實施形態中導引輥之內部構成及張力分布形成手段之配置的圖。

第3圖係本發明之實施形態中張力分布形成手段之構成圖。

第4A圖係表示本發明之實施形態中，薄膜所產生之行進方向的張力在與該行進方向交叉之寬度方向之張力分布的一例之圖。

第4B圖係表示本發明之實施形態中，薄膜所產生之行進方向的張力在與該行進方向交叉之寬度方向之張力分布的一例之圖。

第5圖係示意性表示第4B圖所示之張力分布的圖表。

第6A圖係表示本發明之實施形態中，薄膜所產生之行進方向的張力在與該行進方向交叉之寬度方向之張力分 布的一例之圖。

第6B圖係表示本發明之實施形態中，薄膜所產生之行進方向的張力在與該行進方向交叉之寬度方向之張力分布的一例之圖。

第7圖係示意性表示第6B圖所示之張力分布的圖表。

第8圖係表示本發明之實施形態中應用張力分布控制裝置的張力分布控制試驗狀態之平面圖。

第9圖係表示第8圖所示之張力分布控制試驗之結果的圖表。

第10圖係本發明之實施形態的一變形例之張力分布控制裝置之構成圖。

第11圖係本發明之實施形態的一變形例之張力分布控制裝置的構成圖。

以下，參照圖式說明本發明之實施形態。在以下之說明中係例示搬運帶狀薄膜的薄膜搬運裝置作為具備張力控制裝置之帶狀體搬運裝置。

第1圖係本發明之實施形態中之薄膜搬運裝置100的構成圖。

薄膜搬運裝置100係如第1圖所示，具備：使帶狀薄膜F行進之夾持輥1；控制薄膜F行進方向之張力之與該行進方向交叉之寬度方向之張力分布的張力分布控制裝置2；以及，觀察薄膜F之寬度方向的張力之照相機A、B。本實施形態之薄膜搬運裝置100係搬運例如寬度50mm至 100mm左右、厚度0．1至0．3mm左右之薄膜F。

薄膜F係形成為具一定寬度之帶狀，例如以捲筒至捲筒方式從未圖示之捲筒體拉出。該薄膜F係可為單一之薄膜，亦可為由二種類以上之薄膜貼合之積層薄膜。而且，積層薄膜係可為在搬運途中貼合薄膜者，亦可為從開始即貼合有薄膜者。單一之薄膜係可例示PET等之樹脂薄膜，而且，積層薄膜係可例示於金屬製之導體薄膜貼合樹脂製之保護薄膜者等。

夾持輥1係由一對之輥11、12所構成，將薄膜F由厚度方向挟持。輥11係與薄膜F之一主面F1接觸。而且，輥12係與薄膜F之另一主面F2接觸。一對之輥11、12係藉由未圖示之馬達等驅動源而旋轉，以使薄膜F行進。一對之輥11、12係可為其中一者為與驅動源連接之驅動輥，而另一者為透過齒輪等進行旋轉之被動輥，又，亦可為兩者均分別連接於驅動源之驅動輥。

張力分布控制裝置2係在薄膜F之行進方向配置於夾持輥1之上游側。該張力分布控制裝置2係形成將因夾持輥1所形成之後述的薄膜F之行進方向的張力的寬度方向中之張力分布抵銷的張力分布，使薄膜F之該張力分布成為一定。該張力分布控制裝置2係具有：與行進之薄膜F接觸之導引輥21；對於與導引輥21接觸之薄膜F之接觸部F3，朝薄膜F之面內方向施加負荷，藉此形成薄膜F之行進方向的張力之寬度方向中之張力分布之張力分布形成手段22。

在此，所謂的對薄膜F施加負荷之面內方向係表示薄膜F之行進表面內的方向，亦即，包含薄膜F之行進方向的成分(前後成分)之方向(可為斜方向)。但，不包含與薄膜F之行進方向正交之方向之薄膜F之寬度方向。又，對薄膜F施加負荷之較佳之面內方向係薄膜F之行進方向，亦即薄膜F之前後方向。

導引輥21係與薄膜F之另一主面F2接觸。薄膜F係在導引輥21方向改變90°，導引輥21之周面約1/4接觸於薄膜F。又，導引輥21之周面約1/4未必要與薄膜F接觸，無論大小，只要有與薄膜F接觸之接觸面存在即可。

張力分布形成手段22係具有：與導引輥21接觸之接觸輥23；及控制接觸輥23之旋轉扭力的旋轉扭力控制手段24。

第2圖係表示本發明之實施形態中之導引輥21的內部構成及張力分布形成手段22之配置之圖。第3圖係本發明實施形態中之張力分布形成手段22的構成圖。

如第2圖所示，導引輥21係在寬度方向被分割，由可以各自相異之旋轉數旋轉之複數個分割輥30所形成。

複數個分割輥30係具有：與薄膜F之寬度方向中央部接觸之中央輥31；以及，設置於中央輥31之兩側，且與薄膜F之寬度方向兩側接觸之一對側輥32、33。亦即，本實施形態之導引輥21係在寬度方向被分割為3。本實施形態中係中央輥31、側輥32、33之長度分別設為 相同。又，中央輥31、側輥32、33之長度可分別相異。

複數個分割輥30係透過軸承41、42分別自由旋轉地設置於共通之軸40。軸承41、42之內輪係固定於被崁入於軸40之外周的圓筒狀內套筒43。又，軸承41、42之外輪係固定於圓筒狀外套筒44。外套筒44係崁入於圓筒狀輥部45之內側。輥部45之周面係與薄膜F之另一主面F2接觸。藉由該構成，複數個分割輥30可以各自相異之旋轉數旋轉。

張力分布形成手段22係對於與複數個分割輥30接觸之薄膜F的複數個接觸部F3中之至少一個，透過分割輥30而朝面內方向施加負荷，藉此於薄膜F之寬度方向形成張力分布。本實施形態之張力分布形成手段22係相對向地以複數個設置於複數個分割輥30之各者。亦即，本實施形態中係形成對於複數個分割輥30之各個接觸部F3，於薄膜F之面內方向施加負荷之構成。又，只要預先知道因夾持輥1所形成之薄膜F的寬度方向中之張力分布之傾向，亦可不於所有複數個分割輥30設置張力分布形成手段22。例如，薄膜F之寬度方向中央部的張力較寬度方向兩側之張力更高或更低時，可僅於中央輥31，或僅於側輥32、33設置張力分布形成手段22。依據此構成，可降低構件數目及製造成本。

張力分布形成手段22係具有：與分割輥30接觸之接觸輥23；以及，控制接觸輥23之旋轉扭力之旋轉扭力控制手段24，且該張力分布形成手段22係透過分 割輥30(導引輥21)而對薄膜F之接觸部F3施加負荷。

接觸輥23係自由旋轉地設置在與軸40平行之軸周圍。接觸輥23之長度係較分割輥30之長度更短，且相對向地配置於分割輥30之中央。旋轉扭力控制手段24係對該接觸輥23賦予旋轉扭力，以控制分割輥30之旋轉扭力。

旋轉扭力控制手段24係如第3圖所示，具有：與接觸輥23連接之離合器25；以及，與離合器25連接之馬達26。離合器25係將馬達26之旋轉扭力傳達至接觸輥23。離合器25較佳係使用可將從馬達26傳達至接觸輥23之旋轉扭力的大小調整至任意值之離合器。例如，離合器係可使用在旋轉扭力之傳達方面利用粉末(磁性鐵粉等)之粉末離合器等。

接觸輥23、離合器25及馬達26被共通之框架27A支撐。框架27A係具有：支撐接觸輥23之軸承27A1、支撐離合器25之離合器支撐部27A2、及支撐馬達26之馬達支撐部27A3。該框架27A被缸筒28支撐。缸筒28係藉由使框架27A移動，使接觸輥23相對分割輥30進行接近分離。缸筒28係安裝於經固定之基底框架27B。又，在基底框架27B係安裝有以缸筒28進行位置調整後將分割輥30及接觸輥23之位置關係予以固定之固定構件29。固定構件29係具有螺桿調整機構之間隔物，且中介存在於框架27A與基底框架27B之間形成維持該間隔物之構成。

第4A圖、第4B圖係表示本發明之實施形態中薄膜F所產生之行進方向的張力之與該行進方向交叉之 寬度方向中之張力分布的一例之圖。第圖5係示意性表示第4B圖所示之張力分布之圖表。

第4A圖、第4B圖係表示受到薄膜F相對於夾持輥1之接觸面積的影響之情形。如第4A圖、第4B圖所示，薄膜F為貼合有寬度廣之第1薄膜f1、及寬度窄之第2薄膜f2之積層薄膜的情形時，在薄膜F之寬度方向中央部會形成高張力，在薄膜F之寬度方向兩側則形成低張力。亦即，在薄膜F之寬度方向中央部係因第1薄膜f1與第2薄膜f2重疊而使薄膜F之厚度變厚，故從夾持輥1受到較大之負荷。又，在薄膜F之寬度方向兩側則因僅有第1薄膜f1而使薄膜F之厚度較薄，故從夾持輥1受到之負荷較寬度方向中央部相對為變小。因此，張力分布係如第5圖所示，成為薄膜F之寬度方向中央部變成凸之形狀。

第6圖係表示本發明之實施形態中薄膜F所產生之行進方向的張力之與該行進方向交叉之寬度方向中之張力分布的一例之圖。第7圖係示意性表示第6B圖所示之張力分布的圖表。

第6A圖、第6B圖係表示受到夾持輥1之撓曲的影響之情形。如第6A圖、第6B圖所示，當撓曲成夾持輥1之兩端部接近且包夾薄膜F之中央部膨脹時，在薄膜F之寬度方向中央部會形成低張力，在薄膜F之寬度方向兩側(更詳而言之，係第1薄膜f1與第2薄膜f2重疊之薄膜F的寬度方向之兩端部(第6A圖中以粗箭頭表示之部分))則形成高張力。亦即，在薄膜F之寬度方向兩側係因輥11、 12之間隙變窄，故從夾持輥1受到較大之負荷。在薄膜F之寬度方向中央部則因輥11、12之間隙變廣，故從夾持輥1受到之負荷較寬度方向兩側相對為變小。因此，張力分布係第7圖所示，成為薄膜F之寬度方向中央部變成凹之形狀。

第8圖係表示本發明之實施形態中使用張力分布控制裝置2之張力分布控制試驗的狀態之平面圖。第9圖係表示第8圖所示之張力分布控制試驗結果之圖表。

第8圖所示之張力分布控制試驗中，係對於固定在夾持輥1之薄膜F，在較導引輥21更下游側以其寬度方向全體均勻地施加張力。又，對於薄膜F，在夾持輥1及導引輥21之附近以跨越寬度方向的方式賦予標記1至9。在該條件之下，控制中央輥31之旋轉扭力，以照相機A、B計測標記1至9之位移，以確認張力分布控制裝置2之效果。

第9圖係表示由照相機A觀察之導引輥21的附近之標記1至9中之應力變化。第9圖所示之應力係利用標記之位移及夾持輥1至照相機A之間的距離，模擬性表示施加於各計測點之應力的變化。第9圖中表示者，係為了使薄膜F之寬度方向中之張力分布為一定，因此將使馬達26正轉(拉引薄膜F之方向的旋轉)之輸出慢緩地減小，相反地將離合器25之離合器輸出慢緩地大幅改變後之結果。又，在第9圖中，係表示以照相機A所得之觀察，數字表示離合器輸出(%)。

由此可知，若提高離合器25之離合器輸出， 可於薄膜F之寬度方向形成如第9圖所示之張力分布。亦即，第9圖之試驗結果，確認出藉由控制中央輥31之旋轉扭力，可在薄膜F之寬度方向中央部形成為凸或凹之張力分布。因此，在張力分布控制裝置2中，藉由與上述之第4A圖、第4B圖及第5圖，或第6A圖、第6B圖及第7圖所示之薄膜F的寬度方向中之張力分布對應，而形成如抵銷該張力分布之張力分布，可使薄膜F之寬度方向中之張力分布為一定。使薄膜F之寬度方向中之張力分布為一定，例如貼合有第1薄膜f1與第2薄膜f2之積層薄膜，即使在之後切出預定大小，因張力分布為一定，故其端部亦不會翹曲。

在本實施形態中，係如第1圖所示，對於與導引輥21接觸之薄膜F的接觸部F3，朝薄膜F之面內方向(第8圖及第9圖之張力分布控制試驗中為薄膜F之行進方向後方側)施加負荷，藉此於薄膜F之寬度方向形成張力分布。依據此構成，用以在薄膜F之寬度方向形成張力分布之負荷係施加於導引輥21所支撐之薄膜F的接觸部F3，且由於施加該負荷之方向為薄膜F之面內方向，故薄膜F不會產生表面外變形。

因此，在本實施形態中，可在抑制薄膜F之刮傷的同時，控制薄膜F之張力分布。

又，在本實施形態中，如第2圖所示，導引輥21係在寬度方向被分割，由可以分別相異之旋轉數旋轉之複數個分割輥30所形成。

藉由此構成，於薄膜F之寬度方向容易形成張力分布。例如，即使以分割輥30之其中一個控制旋轉扭力，其他之分割輥30仍會進行旋轉，幾乎不受其影響，故藉由控制一部分之旋轉扭力而對全體造成之影響較小。因此，可幾乎不考慮對全體之影響，將張力分布形成任意之形狀。

又，本實施形態之分割輥30係具有：與薄膜F之寬度方向中央部接觸之中央輥31；以及，設於中央輥31之兩側且與薄膜F之寬度方向兩側接觸之一對側輥32、33。依據此構成，容易在薄膜F之寬度方向中央部形成為凸或凹之張力分布，可容易形成如將上述第4A圖、第4B圖及第5圖、或第6A圖、第6B圖及第7圖所示之薄膜F的寬度方向中之張力分布抵消的張力分布。

又，在本實施形態中，張力分布形成手段22係具有：與分割輥30接觸之接觸輥23、及控制接觸輥23之旋轉扭力的旋轉扭力控制手段24。依據此構成，第2圖所示，可使分割輥30彼此間之間隙幾乎消失，可以不會形成喪失張力之空間。例如，亦可將軸40分割，於各分割輥30之旋轉軸直接安裝旋轉扭力控制手段24，但此時，在分割輥30彼此之間必須有用以配置旋轉扭力控制手段24之空間。另一方面，在本實施形態中，因透過接觸輥23而從周方向控制分割輥30之旋轉扭力，故可填塞分割輥30間，並可防止張力的喪失。

如此，依據上述之本實施形態，具有：與行進之薄膜F接觸之導引輥21；以及，對於與導引輥21接 觸之薄膜F的接觸部F3，朝薄膜F之面內方向施加負荷，以使薄膜F行進方向之張力在與該行進方向交叉之寬度方向之張力分布形成的張力分布形成手段22，藉由採用如此之構成，可在抑制薄膜F之刮傷的同的，控制薄膜F之張力分布。

以上，一邊參照圖式一邊說明有關本發明之適當的實施形態，但本發明係不限定於上述實施形態。在上述之實施形態中所示之各構成構件之各種形狀或組合等為其中一例，在不超出本發明之主旨的範圍內亦可依據設計要求等做各種變更。

例如，本發明係可採用如第10圖及第11圖所示之變形例。又，在以下之說明中，有關與上述實施形態相同或同等之構成係賦予相同之符號，並簡略或省略其說明。

第10圖係本發明之實施形態的一變形例之張力分布控制裝置2A的構成圖。

第10圖所示之張力分布控制裝置2A係具有：與接觸於分割輥30之薄膜F的接觸部F3接觸之接觸輥23A，以及，控制接觸輥23A之旋轉扭力的旋轉扭力控制手段24A。接觸輥23A係直接與薄膜F之一主面F1接觸。旋轉扭力控制手段24A係設置於接觸輥23之內部。接觸輥23A係相對於軸50自由旋轉，且藉由設置在軸50之兩端之缸筒28A而壓附在薄膜F。旋轉扭力控制手段24A係存在於軸50與接觸輥23A之間之離合器(粉末離合器等)，且控 制接觸輥23A之旋轉扭力(旋轉阻抗)。

依據此構成，接觸輥23對被分割輥30之(導引輥21)所支撐之薄膜F的接觸部F3施加負荷，故薄膜F不會產生表面外變形。又，藉由控制接觸輥23A之旋轉扭力所得之摩擦力，可對於薄膜F朝面內方向施加負荷。因此，可不會使薄膜F表面外變形，而控制薄膜F之張力分布。

第11圖係本發明實施形態的一變形例之張力分布控制裝置2B的構成圖。

第11圖所示之張力分布控制裝置2B係形成旋轉扭力控制手段24B設置於分割輥30之內部的構成。該旋轉扭力控制手段24B係存在於軸40與分割輥30之間之離合器(粉末離合器等)，且控制分割輥30之旋轉扭力(旋轉阻抗)。藉由此構成，用以在薄膜F之寬度方向形成張力分布之負荷係施加於分割輥30所支撐之薄膜F的接觸部F3，且由於施加該負荷之方向為薄膜F之面內方向，故亦可不會使薄膜F表面外變形，而控制薄膜F之張力分布。

又，例如在上述實施形態中，係例示薄膜F作為帶狀體，但例如於薄片或帶體等其他之帶狀體的張力分布控制亦可適用本發明。

[產業上之可應用性]

依據本發明，可提供一種可在抑制帶狀體之刮傷的同時，控制帶狀體之張力分布之張力分布控制裝置及帶狀體搬運裝置。

Claims (16)

1. 一種張力分布控制裝置，其具有：導引輥，其係與行進之帶狀體接觸；以及張力分布形成手段，其係對於與前述導引輥接觸之前述帶狀體的接觸部，朝前述帶狀體之面內方向施加負荷，藉此形成前述帶狀體之行進方向的張力在與前述行進方向交叉之寬度方向的張力分布。
2. 如申請專利範圍第1項所述之張力分布控制裝置，其中，前述導引輥係在寬度方向被分割，而由可以各自相異之旋轉數旋轉之複數個分割輥所形成。
3. 如申請專利範圍第2項所述之張力分布控制裝置，其中，前述張力分布形成手段係對於與前述複數個分割輥接觸之前述帶狀體的複數個接觸部中之至少一個，朝前述面內方向施加負荷，藉此形成前述張力分布。
4. 如申請專利範圍第2項所述之張力分布控制裝置，其中，前述複數個分割輥係具有：與前述帶狀體之寬度方向中央部接觸之中央輥；以及設置於前述中央輥之兩側，且與前述帶狀體之寬度方向兩側接觸之一對側輥。
5. 如申請專利範圍第3項所述之張力分布控制裝置，其中，前述複數個分割輥係具有：與前述帶狀體之寬度方向中央部接觸之中央輥；以及設置於前述中央輥之兩側，且與前述帶狀體之寬度方向兩側接觸之一對側輥。
6. 如申請專利範圍第2至5項中任一項所述之張力分布控制裝置，其中，前述張力分布形成手段係具有：與前述分割輥接觸之接觸輥；以及控制前述接觸輥之旋轉扭力的旋轉扭力控制手段。
7. 如申請專利範圍第2至5項中任一項所述之張力分布控制裝置，其中，前述張力分布形成手段係具有：接觸輥，其係與接觸於前述分割輥之前述帶狀體的接觸部接觸；以及旋轉扭力控制手段，其係控制前述接觸輥之旋轉扭力。
8. 如申請專利範圍第5項所述之張力分布控制裝置，其中，前述旋轉扭力控制手段係具有：與前述接觸輥連接之離合器；以及與前述離合器連接之馬達。
9. 如申請專利範圍第6項所述之張力分布控制裝置，其中，前述旋轉扭力控制手段係具有：與前述接觸輥連接之離合器；以及與前述離合器連接之馬達。
10. 如申請專利範圍第7項所述之張力分布控制裝置，其中，前述旋轉扭力控制手段係具有：與前述接觸輥連接之離合器；以及與前述離合器連接之馬達。
11. 一種帶狀體搬運裝置，其具有：使帶狀體行進之夾持輥；以及控制前述帶狀體行進方向之張力在寬度方向之張力分布的申請專利範圍第1至5項中任一項所述之張力分布控制裝置。
12. 一種帶狀體搬運裝置，其具有：使帶狀體行進之夾持輥；以及控制前述帶狀體行進方向之張力在寬度方向之張力分布的申請專利範圍第6項所述之張力分布控制裝置。
13. 一種帶狀體搬運裝置，其具有：使帶狀體行進之夾持輥；以及控制前述帶狀體行進方向之張力在寬度方向之張力分布的申請專利範圍第7項項所述之張力分布控制裝置。
14. 一種帶狀體搬運裝置，其具有：使帶狀體行進之夾持輥；以及控制前述帶狀體行進方向之張力在寬度方向之張力分布的申請專利範圍第8項所述之張力分布控制裝置。
15. 一種帶狀體搬運裝置，其具有：使帶狀體行進之夾持輥；以及控制前述帶狀體行進方向之張力在寬度方向之張力分布的申請專利範圍第9項所述之張力分布控制裝置。
16. 一種帶狀體搬運裝置，其具有：使帶狀體行進之夾持輥；以及控制前述帶狀體行進方向之張力在寬度方向之張力分布的申請專利範圍第10項所述之張力分布控制裝置。