TWI640735B - Microwave cavity with pollution prevention - Google Patents

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TWI640735B TW105140396A TW105140396A TWI640735B TW I640735 B TWI640735 B TW I640735B TW 105140396 A TW105140396 A TW 105140396A TW 105140396 A TW105140396 A TW 105140396A TW I640735 B TWI640735 B TW I640735B
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李宗信
吳奕達
曾坤三
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Abstract

本創作係一種具污染防治之微波腔體,其包含一本體及一隔絕板單元,該本體包含一載台、一外殼、一開口、一第一側氣口及一第二側氣口,該外殼設於該載台,該開口係形成於該外殼的前側面,該第一側氣口與該第二側氣口係分別形成於該外殼的兩相對外側面,該隔絕板單元可移動地設於該本體,該隔絕板單元通過該本體的該開口,且該隔絕板單元位於該載台的上方,本創作具污染防治之微波腔體由該隔絕板單元輕便抽換的性質,避免熱處理的汙染物累積在該隔絕板單元導致微波能源處理不均勻,使能源集中,進而達到設備性能穩定且持續地微波處理工件。

Description

具污染防治之微波腔體
本創作係一種具污染防治之微波腔體,尤指一種可輕易抽換隔絕板之微波腔體。
目前為了滿足加熱乾燥等需求而產生的方法,大致可分為熱風乾燥法、真空乾燥法及微波乾燥法,其中熱風乾燥法是使用熱風對欲加熱乾燥的工件吹,在熱風的溫度使工件溫度上升的過程中,工件的水分蒸發達到使工件乾燥的效果,然而熱風乾燥的時間長,乾燥過程中的能耗多,不符合成本的考量外,熱風乾燥法只能將工件表面的溫度升高,工件的內部沒辦法接觸熱風即無法提高溫度,表裡溫度不一的情況往往造成工件的破裂。
另外,真空乾燥法是將工件置於負壓的條件下,加以適當的熱量達到負壓條件下的沸點進而乾燥,但由於使用真空乾燥法的儀器昂貴,於成本的考量上並非最佳的選擇。
微波乾燥法是透過微波使欲加熱的工件中水分子產生劇烈碰撞或震動而發熱,造成物件的溫度上升而乾燥,目前微波的技術已廣泛應用於加熱、固化或乾燥等需求上,不管是食品、皮革、木材,甚至是高科技產業的半導體產業也使用微波技術來清洗晶圓或電路板,但在微波乾燥的過程中,作為熱處理的微波系統會產生微量的污染物,長期操作下來不斷累積殘留量會造成微波腔體內部的污染,造成設備的損壞或使用微波乾燥的工件加熱不均等問題。
針對熱處理所殘留的污染物,傳統的微波腔體會使用固定式隔絕板作為污染防護的媒介,可避免熱處理的污染物直接污染微波腔體內部,然而,熱處理所殘留的污染物不斷累積,傳統的固定式隔絕板無更換之設計或難以更換、清理,污染物不斷地累積在固定式隔絕板上,長期操作下來累積的污染物若無法清潔則直接影響微波輸出的功率,造成能源損耗或設備性能不穩定的問題。
本創作的主要目的在於提供一種具污染防治之微波腔體,藉以改善固定式隔絕板無法更換使得能源損耗或設備性能不穩定的問題。
為達成前揭目的,本創作之具污染防治之微波腔體包含:一本體,該本體包含一載台、一外殼、一容置空間、一開口、二定位座、一第一側氣口及一第二側氣口,該外殼設於該載台上,該外殼於內部形成該容置空間,該開口係形成於該外殼的前側面並連接該容置空間,該二定位座係分別設於該外殼的兩相對內側面並分別位於該開口的兩側,該第一側氣口與該第二側氣口係分別形成於該外殼的兩相對外側面,且皆位於該載台與鄰近之定位座之間;一隔絕板單元,該隔絕板單元係包含一板體,該板體係通過該本體的該開口並可移動地伸入該二定位座,且該板體位於該載台的上方,該第一側氣口與該第二側氣口之間形成一氣道,該氣道位於該板體與該載台之間。
本創作具污染防治之微波腔體藉由該隔絕板單元可輕便抽換的性質,當長時間操作該具污染防治之微波腔體,熱處理所產生的汙染物不斷累積在該隔絕板單元的板體上,能夠便捷更換該隔絕板單元,避免熱處理的汙染物累積在該隔絕板單元的板體上導致微波能源處理不均勻,可輕易抽換乾淨的 隔絕板單元可使微波的能源集中於處理工件,保持能源利用不致耗損,進而達到設備性能穩定且持續地處理工件。
10‧‧‧本體
101‧‧‧微波源
102‧‧‧擾動器
103‧‧‧活動門
104‧‧‧吸收層
105‧‧‧金屬網
11‧‧‧載台
12‧‧‧外殼
13‧‧‧容置空間
14‧‧‧開口
15‧‧‧定位座
16‧‧‧第一側氣口
17‧‧‧第二側氣口
20‧‧‧隔絕板單元
21‧‧‧板體
22‧‧‧把手部
23‧‧‧氣道
24‧‧‧防漏膜
25‧‧‧薄膜
30‧‧‧材質片
40‧‧‧載片
41‧‧‧載帶
50‧‧‧抽氣裝置
51‧‧‧進氣裝置
60‧‧‧管道
70‧‧‧捲收裝置
71‧‧‧捲放盤
72‧‧‧捲收盤
圖1:本創作具污染防治之微波腔體之一較佳實施例之外觀立體示意圖。
圖2:本創作具污染防治之微波腔體之一較佳實施例之前視示意圖。
圖3:本創作具污染防治之微波腔體之一較佳實施例之側視示意圖。
圖4:本創作具污染防治之微波腔體之一較佳實施例之局部放大前視剖面示意圖。
圖5:本創作具污染防治之微波腔體之另一較佳實施例之局部放大前視剖面示意圖。
圖6:本創作具污染防治之微波腔體之又一較佳實施例之局部放大前視剖面示意圖。
圖7:本創作具污染防治之微波腔體之一較佳實施例之一操作狀態之前視示意圖。
圖8:本創作具污染防治之微波腔體之另一較佳實施例之一操作狀態之前視示意圖。
如圖1至圖3所示,係揭示本創作具污染防治之微波腔體之較佳實施例,由圖式中可見,本創作具污染防治之微波腔體包含一本體10及一隔絕板單元20。
該本體10包含一載台11、一外殼12、一容置空間13、一開口14、二定位座15、一第一側氣口16及一第二側氣口17,該外殼12設於該載台11上,該外殼12於內部形成該容置空間13,該開口14係形成於該外殼12的前側面並連接該容置空間13,該二定位座15係分別設於該外殼的兩相對內側面並分別位於該開口14的兩側,該第一側氣口16與該第二側氣口17係分別形成於該外殼12的兩相對外側面,且皆位於該載台11與鄰近之定位座15之間,其中,該二定位座15皆具有一滑槽,該二滑槽係相向設置,另外,該二定位座15該二滑槽也可為該外殼12向內側凸出的凸緣。
其中,該本體10具有一微波源101、一擾動器102、一活動門103、一吸收層104及二金屬網105,該微波源101設於本體10並可對該容置空間13輻射微波,該擾動器102設於本體10的內頂面,該活動門103設於該本體前側面並位於該開口14下方及該載台11上方,該吸收層104係設於該外殼12並環繞該開口14,該吸收層104係為可吸收或反射微波的材質所組成的構件,該二金屬網105係設於該外殼12並分別位於該第一側氣口16處及該第二側氣口17處。
其中,該第一側氣口16的底緣到該定位座15底面的距離係大於等於該載台11頂面到該定位座15底面的距離的一半,並小於等於該載台11頂面到該定位座15底面的距離,該第二側氣口17的底緣到該定位座15底面的距離係大於等於該載台11頂面到該定位座15底面的距離的一半,並小於等於該載台11頂面到該定位座15底面的距離。
較佳的,該第一側氣口16的底緣到該定位座15底面的距離係等於該載台11頂面到該定位座15底面的距離的一半,並且該第二側氣口17的底緣到該定位座15底面的距離係等於該載台11頂面到該定位座15底面的距離的一半。
更佳的,該第一側氣口16的底緣到該定位座15底面的距離係等於該載台11頂面到該定位座15底面的距離,並且該第二側氣口17的底緣到該定位座15底面的距離係等於該載台11頂面到該定位座15底面的距離。
該隔絕板單元20係包含一板體21,該板體21係通過該本體10的該開口14並可移動地伸入該二定位座15,且該板體21位於該載台11的上方則可封閉該容置空間13,該第一側氣口16與該第二側氣口17之間形成一氣道23,該氣道23位於該板體21與該載台11之間,其中,該板體21係為可被微波穿透的材質所組成的構件,該板體21可為聚乙烯、聚丙烯或石英材質所製成。
其中,該隔絕板單元20係進一步包含一把手部22,該把手部22設於該板體21的一端並位於該開口14外,該把手部22係為微波無法穿透的材質所組成的構件,亦即可吸收或反射微波的材質。
如圖3所示,該隔絕板單元20係進一步包含一防漏膜24,該防漏膜24設於該把手部22與該板體21的連接處,該防漏膜24可防止微波由該隔絕板單元20與該本體10組裝處的空隙洩漏。
如圖4所示,係本創作具污染防治之微波腔體一較佳實施例,其中,該隔絕板單元20係可移動地組設於該本體10並將該板體21放置於該二定位座15,該隔絕板單元20的該板體21可整片抽換使用,另外,如圖5所示,係本創作具汙染防治之微波腔體另一種較佳實施例,該隔絕板單元20的板體21可於朝向該載台11的表面貼覆可被微波穿透的材質所形成的薄膜25,該薄膜25係可與該板體21為相同或相異之材質。
如圖6所示,為本創作具污染防治之微波腔體又一較佳實施例,其中,配合所需加工的工件,在該隔絕板單元20的該板體21上放置可反射微波的材質片30,例如鋁、銅製成的材質片30,形成可限定微波作用的區域,進一步可以放置具有圖樣化的材質片30,可侷限微波處理區域。
如圖1及圖7所示,一抽氣裝置50係可與該本體10組接於該第一側氣口16或該第二側氣口17,則可於裝設該抽氣裝置50氣口的另一側氣口裝設一進氣裝置51,一裝載工件的載片40可由該活動門103放入該本體10,則單一台具汙染防治之微波腔體即可使用。
如圖1及圖7所示,為單一台具汙染防治之微波腔體於操作狀態時,為一裝載工件的載片40經該本體10的該活動門103放入,一抽氣裝置50設於該第二側氣口17,一進氣裝置51設於該第一側氣口16,透過該抽氣裝置50以及該進氣裝置51的配合操作,讓氣體吸入該氣道23,氣體可為自然進氣或輸入限定的氣體,譬如氮氣、惰性氣體,氣體可於該第一側氣口16進入該氣道23,接著從該第二側氣口17出去,在氣體於該氣道23裡流動之過程中,微波熱處理所殘留的污染物可被氣體帶離該本體10,可避免污染物的累積在該隔絕板單元20的板體21上,延長該板體21的使用時間。
如圖8所示,為複數台具汙染防治之微波腔體連接時之態樣,兩相鄰的具汙染防治之微波腔體之間以複數個管道60連接,該些管道之高度及長度成一定之比例,例如該些管道60之高度係為3公分則該些管道60之長度係大於50並小於60公分,該些管道60形成一狹長空間係可將微波限制於該些管道60內,該二金屬網105設於該第一側氣口16及該第二側氣口17時,該二金屬網於下緣留一通道可使一載帶41通過,該載帶41係安裝於一捲收裝置70上,該捲收裝置70包含一捲放盤71及一捲收盤72,該捲放盤71及該捲收盤72分別設於該些具汙染防治之微波腔體的兩側,透過該捲放盤71以及該捲收盤72一放一收,該載帶41會開始帶動,該具汙染防治之微波腔體會對該載帶41上的工件微波處理,而該管道60的尾端連接的該抽氣裝置50可將氣體吸入該管道60,並且微波熱處理所殘留的污染物可被氣體帶離該氣道23及該管道60,避免汙染物累積。
上述中,長期操作微波處裡所殘留的汙染物雖一部分汙染物被通過該氣道23的氣體帶走,還是會有一部分汙染物殘留在該隔絕板單元20的板體21上,因此需要更換該隔絕板單元20,如圖3所示,更換該隔絕板單元20時,只須手持該把手部22,將該隔絕板單元20抽離該本體10,再將新的該隔絕板單元20組入該本體10,即完成更換,另外,若是該隔絕板單元20的板體21於朝向該載台11的表面貼覆可被微波穿透的材質所形成的薄膜25,則更換時只需更換該薄膜25,而不需更換該隔絕板單元20,因此只更換該薄膜25能使更換之成本更低。
綜上所述,本創作具污染防治之微波腔體藉由該隔絕板單元20可整個更換,能夠便捷更換的隔絕板單元20可避免熱處理的汙染物累積在該隔絕板單元20的板體21上,該具污染防治之微波腔體的微波系統不會被累積汙染物的該隔絕板單元20的板體21所影響,微波可均勻地處理工件,避免微波的能源耗損,進而穩定維持設備性能,又或是將貼覆該隔絕板單元20的板體21上的薄膜25更換以降低更換之成本,也可以透過放置可反射微波的材質片30來侷限微波處理區域,另外,經抽氣裝置的作用吸入氣體,熱處理的汙染物可被通過該氣道23的氣體給帶走,可避免污染物累積在該隔絕板單元20的板體21上,增長該板體21的使用時間。

Claims (9)

  1. 一種具污染防治之微波腔體,其包含:一本體,該本體包含一載台、一外殼、一容置空間、一開口、二定位座、一第一側氣口及一第二側氣口,該外殼設於該載台上,該外殼於內部形成該容置空間,該開口係形成於該外殼的前側面並連接該容置空間,該二定位座係分別設於該外殼的兩相對內側面並分別位於該開口的兩側,該第一側氣口與該第二側氣口係分別形成於該外殼的兩相對外側面,且皆位於該載台與鄰近之定位座之間,該本體具有一微波源及一擾動器,該微波源設於該本體並可對該容置空間輻射微波,該擾動器設於該本體內頂面;一隔絕板單元,該隔絕板單元包含一板體,該板體係通過該本體的該開口並可移動地伸入該二定位座,且該板體位於該載台的上方,該第一側氣口與該第二側氣口之間形成一氣道,該氣道位於該板體與該載台之間。
  2. 如請求項1所述之具污染防治之微波腔體,其中,該隔絕板單元係包含一把手部,該把手部設於該板體的一端並位於該開口外,該隔絕板單元的把手部係為微波無法穿透的材質所組成的構件。
  3. 如請求項2所述之具污染防治之微波腔體,其中,該隔絕板單元包含一防漏膜,該防漏膜設於該把手部與該板體的連接處,該隔絕板單元的板體係為可被微波穿透的材質所組成的構件。
  4. 如請求項1至3中任一項所述之具污染防治之微波腔體,其中,該隔絕板單元之板體可於朝向該載台的表面貼覆可被微波穿透的材質所形成的薄膜。
  5. 如請求項1至3中任一項所述之具污染防治之微波腔體,其中,該第一側氣口的底緣到該定位座底面的距離係大於等於該載台頂面到該定位座底面的距離的一半,並小於等於該載台頂面到該定位座底面的距離,該第二側氣口的底緣到該定位座底面的距離係大於等於該載台頂面到該定位座底面的距離的一半,並小於等於該載台頂面到該定位座底面的距離。
  6. 如請求項4所述之具污染防治之微波腔體,其中,該第一側氣口的底緣到該定位座底面的距離係大於等於該載台頂面到該定位座底面的距離的一半,並小於等於該載台頂面到該定位座底面的距離,該第二側氣口的底緣到該定位座底面的距離係大於等於該載台頂面到該定位座底面的距離的一半,並小於等於該載台頂面到該定位座底面的距離。
  7. 如請求項1至3中任一項所述之具污染防治之微波腔體,其中,該本體具有一活動門及一吸收層,該活動門設於該本體前側面並位於該開口下方及該載台上方,該吸收層係設於該外殼並環繞該開口,該吸收層係為可吸收或反射微波的材質所組成的構件。
  8. 如請求項1至3中任一項所述之具污染防治之微波腔體,其中,該本體具有二金屬網,該二金屬網係設於該外殼並分別位於該第一側氣口處及該第二側氣口處。
  9. 如請求項1所述之具污染防治之微波腔體,其中,該二定位座皆具有一滑槽,該二滑槽係相向設置。
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