TWI633657B - 一種顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

一種顯示裝置及其製造方法，用於防止因黑色矩陣與彩色濾光片之製程誤差所導致的開口率降低與色彩混合。這種顯示裝置包含有複數個彩色濾光片、覆蓋這些彩色濾光片的無機層以及至於這些彩色濾光片間之無機層上的黑色矩陣。

Description

一種顯示裝置
本發明係關於一種顯示裝置及其製造方法。
隨著訊息導向型社會的進步，人們對用於顯示影像之顯示裝置的各種要求也與日俱增。因此，目前人們使用如：液晶顯示(LCD, liquid crystal display)裝置、電漿顯示面板 (PDP, plasma display panel)裝置、有機發光顯示裝置等不同種類的顯示裝置。
而作為顯示裝置的一個類型，有機發光顯示裝置是一種自發光顯示裝置，並且相較於液晶顯示裝置而言，這種有機發光顯示裝置具有更好的視角與對比度。同時，由於有機發光顯示裝置無須使用獨立的背光，所以可形成更為更輕更薄的發光顯示裝置，同時這種有機發光顯示裝置在能耗方面的表現也十分優異。此外，這種有機發光顯示裝置可透過低壓直流(DC)電壓驅動、可具有較快的響應時間以及較低的製造成本。
這種有機發光顯示裝置包含有複數個畫素，而每一畫素包含有：有機發光裝置及用於劃分並定義畫素之岸層。其中，此岸層可作為畫素定義層。而此有機發光裝置包含：陽極、電洞傳送層、有機發光層、電子傳輸層與陰極。在這種狀況中，當向陽極施加高電壓且向陰極施加低壓時，電洞和電子分別穿過電洞傳送層和電子傳輸向有機發光層移動並於有機發光層內合，以發出光照。
有機發光裝置之實例可包含：發出紅色光照之紅色有機發光裝置、發出綠色光照之綠色有機發光裝置與發出藍色光照之藍色有機發光裝置，或是僅包含可發出白色光照之白色有機發光裝置。若此有機發光裝置包含僅白色有機發光裝置，則需要用以分別實現紅色、綠色及藍色之紅色濾光片、綠色濾光片及藍色濾光片。彩色濾光片與用於劃分這些彩色濾光片之黑色矩陣可透過光刻法形成。但在這種狀況中，光刻法之誤差會降低開口率並導致色彩混合。
圖1A至圖1C為因黑色矩陣、彩色濾光片及岸層之製程誤差所引起的開口率降低與色彩混合的示意圖。在圖1A至圖1C中，爲了便於描述，圖中示意性繪出了陽極AND、有機發光層OL、陰極CAT、岸層BANK、黑色矩陣BM、第一彩色濾光片CF1及第二彩色濾光片CF2。
圖1A示出了不存在製程誤差的岸層BANK、黑色矩陣BM、第一彩色濾光片CF1及第二彩色濾光片CF2，而圖1B示出了將岸層BANK與第一彩色濾光片CF1置於右側並將黑色矩陣BM與第二彩色濾光片CF2置於左側之狀況，其中黑色矩陣BM之寬度w2比原來所期望之寬度w1寬。在圖1B中，黑色矩陣BM從岸層BANK的邊界伸出並且覆蓋了發光區域EA。因此，會使發光區域EA的開口率降低。
圖1C示出了岸層BANK、黑色矩陣BM及第一彩色濾光片CF1基本上被置於右側，而第二彩色濾光片CF2基本上位於左側，且黑色矩陣BM之寬度w3比原來所期望之寬度w1窄。如圖1C所示，黑色矩陣BM並未覆蓋第一彩色濾光片CF1與第二彩色濾光片CF2相重疊之區域。因此，由於光照L可穿過第一彩色濾光片CF1與第二彩色濾光片CF2相重疊之區域，所以會發生色彩混合。
換言之，由於黑色矩陣BM、第一彩色濾光片CF1與第二彩色濾光片CF2的製程誤差，發光區域EA之開口率會被減小或發生色彩混合。
因此，本發明係用於提供一種顯示裝置及其製造方法，藉以克服因習知技術中之限制與缺陷所造成的一種或多種問題。
本發明之一目的在於提供一種顯示裝置及其製造方法，藉以透過防止因黑色畫素與彩色濾光片之製程誤差所導致的開口率降低及色彩混合。
本發明之其它優點與特徵可在進行審查或實施本發明時為本發明所屬技術領域內具有通常知識者所理解。同時，本發明之目的及其它優點可透過說明書、請求項及圖式所特別指出之結構而被理解並獲得。
為了獲得本發明之其它優點，本文進行了切實而廣泛地闡釋，本發明提供了一種顯示裝置，包括：複數個彩色濾光片；覆蓋這些彩色濾光片之無機層；及位於這些彩色濾光片間之無機層上的黑色矩陣。
本發明另一方面提供了一種顯示裝置，包括：相互分離的第一彩色濾光片與第三彩色濾光片；覆蓋此第一彩色濾光片與第三彩色濾光片並位於第一彩色濾光片與第三彩色濾光間之空間內的無機層；以及第一彩色濾光片與第三彩色濾光間之空間內無機層上的第二彩色濾光片。
本發明另一方面提供了一種顯示裝置，包括：第一彩色濾光片，與第一彩色濾光片相鄰之第二彩色濾光片，及位於第一彩色濾光片與第二彩色濾光片之間的黑色矩陣，此黑色矩陣包含反射性金屬。
本發明實施例還關於一種顯示裝置。此顯示裝置包含：第一基板；第二基板，係朝向第一基板；及子畫素陣列，係置於用以發光的第一基板上。子畫素陣列包含有：第一子畫素與相鄰於第一子畫素之第二子畫素。這種顯示裝置還包含：位於第一子畫素上之第一彩色濾光片與位於第二子畫素上之第二彩色濾光片，其中第一彩色濾光片與第二彩色濾光片在物理上隔離。這種顯示裝置還包含：無機層，係置於第一彩色濾光片與第二彩色濾光片上以及第一彩色濾光片與第二彩色濾光片間之區域中；以及黑色矩陣，係置於第一彩色濾光片與第二彩色濾光片間之區域中的無機層上。
本發明之實施例還關於顯示裝置。這種顯示裝置包含：第一基板；第二基板，係朝向第一基板；及子畫素陣列，係置於第一基板上。此子畫素陣列發出光照並包含有：至少一個第一子畫素、相鄰於第一子畫素之第二子畫素及相鄰於第二子畫素之第三子畫素。此顯示裝置還包含：保護層， 此保護層包含位於第一彩色濾光片與第二彩色濾光片之間並位於第二彩色濾光片之至少一部分下方的第一部分。其中第一彩色濾光片與第二彩色濾光片在物理上隔離。此保護層包含位於第二彩色濾光片與第三彩色濾光片之間並位於第二彩色濾光片之至少一部分下方的第二部分。其中第二彩色濾光片與第三彩色濾光片在物理上隔離。
本發明之實施例關於一種顯示裝置的製造方法。於第一基板之第一表面上形成子畫素陣列。此子畫素陣列包含：至少一個第一子畫素以及相鄰於第一子畫素之第二子畫素。可形成第一彩色濾光片與第二彩色濾光片。其中第一彩色濾光片與第二彩色濾光片在物理上隔離。可於第一濾光片與第二濾光片上以及第一濾光片與第二濾光片間之區域內形成無機層。於第一濾光片與第二濾光片間之區域內的無機層上形成黑色矩陣層。對黑色矩陣進行蝕刻，藉以曝露出第一濾光片與第二濾光片上的保護層的至少一部份。
本發明實施例關於顯示裝置之製造方法。其中，子畫素陣列形成於第一基板的第一表面上。此子畫素陣列包含：至少一個第一子畫素、第二子畫素以及相鄰於第一子畫素與第二子畫素的第三子畫素。形成第一彩色濾光片與第二彩色濾光片。其中第一彩色濾光片與第二彩色濾光片在物理上隔離。可於第一彩色濾光片與第二彩色濾光片上以及第一彩色濾光片與第二彩色濾光片間之區域內形成保護層。而第三濾光片形成於保護層上之第一彩色濾光片與第二彩色濾光片間至少一個區域內。對第三彩色濾光片進行蝕刻，藉以曝露出第一彩色濾光片與第二彩色濾光片上的保護層的至少一部分。被蝕刻的第三彩色濾光片可形成透過保護層與第一彩色濾光片及第二彩色濾光片在物理上隔離的第三彩色濾光片。
在本發明實施例中，可於形成保護層後，可蝕刻第一彩色濾光片與第二彩色濾光片間之空間內的保護層之一部分。並在蝕刻第三彩色濾光片以後，對第一彩色濾光片與第二彩色濾光片上之保護層的另一部分進行蝕刻，藉以曝露出第一彩色濾光片與第二彩色濾光片的至少一部分。被蝕刻之保護層於第一彩色濾光片與第三彩色濾光片間及第三彩色濾光片之至少一部分下方形成第一部分，並於第二彩色濾光片與第三彩色濾光片間及第三彩色濾光片之至少一部分下方形成第二部分。
以上之關於本揭露內容之說明及以下之實施方式之說明係用以示範與解釋本發明之精神與原理，並且提供本發明之專利申請範圍更進一步之解釋。
依據本發明實施例，圖式中所示出了本發明之實例。其中透過相同之標號表示相同或類似之部件。
以下在實施方式中詳細敘述本發明之詳細特徵以及優點，其內容足以使任何熟習相關技藝者了解本發明之技術內容並據以實施，且根據本說明書所揭露之內容、申請專利範圍及圖式，任何熟習相關技藝者可輕易地理解本發明相關之目的及優點。以下之實施例係進一步詳細說明本發明之觀點，但非以任何觀點限制本發明之範疇。
圖式中所揭露之用以表述本發明實例之形狀、尺寸、角度及數量僅為實例而已，本發明並不受限於所示的細節。其中，相同之標號表示相同的元件。而在下面的描述中，當對習知功能或結構之詳述會毫無必要地模糊本發明之要點時，將不再對這些習知內容進行贅述。
於本說明書中使用「包含」、「具有」與「包括」時，除非加入了「僅」這一用詞，否則其他部件也是可以加入的。而採用單數形式之術語可理解為包含複數形式，除非這種理解是矛盾的。
在對元件的解釋中，雖然沒有進行詳盡的描述，此元件也可透過解釋而包含一定誤差範圍。
在位置關係的描述中，例如，當兩個部件的位置關係被描述為「…之上」、「…上方」、「…下方」、「…下方」及「…緊鄰」時、一個或多個其它部件可位於這兩個部件之間，除非使用了「僅」或「直接」的描述。
應當理解，雖然可用「第一」、「第二」或類似用語描述不同的元件，這些元件不應受到這類用語的限制。這類用語僅用語對一個元件與其它元件進行區隔。例如，第一元件也可被命名為第二元件，與其類似地，第二元件亦可被命名為第一元件，而這並不脫離本發明所保護的範圍。
其中，X軸方向、Y軸方向與Z軸方向不應僅被理解為相垂直兩個方向的幾何關係，而是可指代本發明所操作元件之更廣泛的作業方向。
其中，用語「至少一個」應被理解為：包含相關的所列出之項目的一個或多個中之任意一個與全部組合。例如，用語「第一項目、第二項目及第三項目中的至少一個」係指「第一項目」、「第二項目」及「第三項目」中的兩個或多個，或是分別指「第一項目」、「第二項目」或「第三項目」。
本發明不同實施例之特徵可部份地或全部地相配合或相互組合，並足以使本領域內具有相像技藝者可按各種方式進行操作與驅動。同時，本發明不同實施例可相互獨立地進行作業，或相互配合地進行作業。
下面，將結合圖式對本發明實施例進行詳述。
圖2為本發明實施例之顯示裝置100之透視圖。圖3為依據本發明實施例圖2中基板、閘極驅動器、源極驅動積體電路、撓性膜、電路板及時脈控制器的平面圖。此處，依據本發明實施例之顯示裝置100為有機發光顯示裝置，但本發明並不限於使用有機發光顯示裝置。在其它實施例中，本發明實施例之顯示裝置100可以是液晶顯示裝置、場發光顯示裝置、電泳顯示裝置等顯示裝置。
如圖2與圖3所示，本發明實施例之顯示裝置100可包含：顯示面板110、閘極驅動器120、源極驅動積體電路130、撓性膜140、電路板150及時序控制器160。
其中，顯示面板110可包含：第一基板111與第二基板112。第二基板112可為封裝基板。第一基板111可為塑料膜或玻璃基板。第二基板112還可以是塑料膜、玻璃基板或封裝膜。
在第一基板111朝向第二基板112之一個表面上可配設複數根閘極線、複數根資料線及複數個畫素。進而，可分別於閘極線與資料線之交叉結構所定義之複數個區域中配設畫素。
其中，每一畫素可包含：薄膜電晶體（TFT）與有機發光裝置，此有機發光裝置包含了：第一電極、有機發光層與第二電極。當閘極訊號透過閘極線輸入薄膜電晶體時，各畫素可依據閘極線的資料電壓向有機發光裝置施加一定的電流。因此，各畫素之有機發光裝置可按電流大小發出具有一定亮度的光照。下面，將結合圖4、圖5、圖8、圖9、圖11、圖12、圖15與圖16對各畫素之結構進行描述。
如圖3所示，顯示面板110可包含：用於顯示影像之顯示區域DA及不用於顯示影像之非顯示區域NDA。可於此顯示區域DA內配設資料線、閘極線及畫素。並且，可於非顯示區域NDA內配設閘極驅動器120與複數個焊盤。
依據從時序控制器160輸入之閘極控制訊號，閘極驅動器120可依次將閘極訊號提供至閘極線。同時，依據板內閘極驅動（GIP，gate driver in panel）形式，可於顯示面板110之顯示區域DA兩側或一側外部的非顯示區域NDA中配設閘極驅動器120。而在另一種方式中，依據捲帶式自動結合(TAB，tape automated bonding)形式，可將閘極驅動器120製造為一驅動晶片，此驅動晶片被安裝於撓性膜上並將此閘極驅動器120貼合於顯示面板110之顯示區域DA兩側或一側外部的非顯示區域NDA上。
源極驅動積體電路130可從時序控制器160處接收數位視訊訊號與源極控制訊號。其中，此源極驅動積體電路130可依據源極控制訊號將數位視訊資料轉換為類比資料，進而將這些類比資料分別傳送至各資料線。在用驅動晶片製成源極驅動積體電路130時，可透過片載晶體(COF)方式或板載晶體(COP)方式於撓性膜140上安裝源極驅動積體電路130。
可於顯示面板110之非顯示區域NDA內配設如資料焊盤之複數個焊盤。同時，可於撓性膜140中配設用以連接焊盤至源極驅動積體電路130的複數條線路並配設用以連接焊盤至電路板150之線路的複數條線路。透過使用各向異性導電膜將撓性膜140貼附至焊盤上，進而可使這些焊盤連接至撓性膜140的線路。
此處，可配設複數個撓性膜140，並於這些撓性膜140上貼附電路板150。進而，可將分別透過複數個驅動晶片實現的複數個電路安裝於電路板150上。例如，可於此電路板150上安裝時序控制器160。其中，此電路板150可以是印刷電路板（PCB）或柔性印刷電路板（FPCB）。
時序控制器160可透過電路板150之電纜從外部系統板（圖中未示出）接收數位視訊資料與時序訊號。時序控制器160可基於時序訊號產生用以控制閘極驅動器120的作業時序之閘極控制訊號以及用以控制複數個源極驅動積體電路130之源極控制訊號。進而，時序控制器160可將閘極控制訊號施加於閘極驅動器120並可將源極控制訊號施加於源極驅動積體電路130。
圖4為本發明實施例之顯示區域中畫素之實例的平面圖。此顯示區域包含有用以發光之子畫素陣列。為了便於描述，在圖4中僅示出了紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE、白色發光區域WE、第一彩色濾光層RF、第二彩色濾光層GF、第三彩色濾光層BF、透明有機層WF及黑色矩陣BM。
如圖4所示，紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE、白色發光區域WE中之每一個發光區域中依次堆疊了與陽極相應之第一電極、有機發光層及與陰極相對應之第二電極，進而使來自第一電極的電洞與來自第二電極的電子合併，藉以發出光照。
其中，紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE、白色發光區域WE之有機發光層形成為紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE、白色發光區域WE中的一個共同層。其中，第一彩色濾光層RF可與紅色發光區域RE相應地放置，第二彩色濾光層GF可與綠色發光區域GE相應地放置，第三彩色濾光層BF可與藍色發光區域BE相應地放置。同時，透明有機層WF可與白色發光區域WE相應地放置。因此，紅色發光區域RE可用第一彩色濾光層RF發出紅色光，綠色發光區域GE可用第二彩色濾光層GF發出綠色光，且藍色發光區域BE可用第三彩色濾光層BF發出藍色光。同時，白色發光區域WE可與沒有彩色濾光片之透明有機層WF重疊，進而發出白色光。
圖4中，包含紅色發光區域RE之紅色子畫素、包含綠色發光區域GE之綠色子畫素、包含藍色發光區域BE之藍色子畫素與包含白色發光區域WE之白色子畫素可被定義為一個單元畫素。但本發明實施例並不受限於此，其中的白色子畫素是可被省略的。在這種狀況中，可將紅色子畫素、綠色子畫素與藍色子畫素定義為一個單元畫素。
其中，黑色矩陣BM可用於劃分成紅色濾光片RF、綠色濾光片GF、藍色濾光片BF與透明有機層WF。為此，可於紅色濾光片RF、綠色濾光片GF、藍色濾光片BF與透明有機層WF之間放置黑色矩陣BM。
圖5為沿圖4中剖面線I-I’所獲得之剖面圖。
如圖5所示，可於第一基板111朝向第二基板112之一個表面上形成緩衝層。此緩衝層可形成於第一基板111之一個表面上，藉以防止水經由易於被水穿透的第一基板111到達複數個達薄膜電晶體210與複數個有機發光裝置260。此緩衝層可包含有交替穿透之複數個無機層。例如，此緩衝層可由一個多層結構形成，此多層結構中交替地堆疊了氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)與氮氧化矽(SiON)。同時，此緩衝層也是可省略的。
進而，可於緩衝層上形成多個薄膜電晶體210。其中，每一薄膜電晶體210包含：主動層211、閘極212、源極215及汲極214。在圖5中，示意性地將薄膜電晶體210繪製為頂閘極型，其中閘極212位於主動層211上，但這並不對本發明構成限制。換言之，此薄膜電晶體210也可形成為其中閘極212形成於主動層211下方的底閘極型，或形成為其中閘極212形成於主動層211上與主動層211下的雙閘極型。
主動層211可形成於此緩衝層上。其中，主動層211由矽基半導體材料或氧化物基半導體材料。進而，可於此緩衝層與主動層211之間形成用於阻擋外部光照照射到主動層211的光阻擋層。
進而，可於主動層211上形成閘極絕緣層220。其中，此閘極絕緣層220可形成為無機層，並且可由氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)或這些材料之組合層形成此閘極絕緣層220。
而後，可於閘極絕緣層220上形成閘極212與閘極線。其中，此閘極212與閘極線可形成為包含鉬(Mo)、鋁(Al)、鉻(Cr)、金(Au)、鈦(Ti)、鎳(Ni)、釹(Nd)、銅(Cu)或其合金的單層結構或多層結構。
而後，可於閘極212與閘極線上形成層間絕緣層230。其中，層間絕緣層230可透過無機層形成，例如可由氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)或這些材料之多層機構形成此層間絕緣層230。
進而，可於此層間絕緣層230上形成源極215、汲極214與閘極線。而透過貫穿閘極絕緣層220與層間絕緣層230之接觸孔，源極215與汲極214中的每一個可與主動層211相接觸。其中，源極215、汲極214與資料線可形成為包含鉬(Mo)、鋁(Al)、鉻(Cr)、金(Au)、鈦(Ti)、鎳(Ni)、釹(Nd)、銅(Cu)或其合金的單層結構或多層結構。
進而，可於源極215、汲極214與資料線上形成用以使薄膜電晶體210絕緣的鈍化層240。其中，此鈍化層240可形成為無機層，並可由氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)或這些材料之多層結構形成此鈍化層240。
而後，可於鈍化層240上形成平化層250，此平化層250用於平化由薄膜電晶體210形成的階梯高度。此處，平化層250可透過如丙烯酸樹脂、環氧樹脂、酚醛樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂和/或其它材料之有機層形成。
進而，可於平化層250上形成有機發光裝置260與岸層270。此處，有機發光裝置260可包含：第一電極261、有機發光層262與第二電極263。其中，第一電極261可為陽極，而第二電極263可為陰極。
而後，可於平化層250上形成第一電極261。此第一電極261可透過貫穿鈍化層240與平化層250之接觸孔而與薄膜電晶體210之汲極214相接觸。其中，第一電極261可透過具有高反射率之金屬材料，如鋁和鈦的堆疊結構（Ti/Al/Ti）、鋁和氧化銦錫的堆疊結構（ITO/Al/ITO）、銀鈀銅（APC）合金或銀鈀銅合金和氧化銦錫的堆疊結構（ITO/APC/ITO）。其中，銀鈀銅（APC）合金為銀、鈀與銅的合金。
進而，可於平化層250上形成岸層270，藉以覆蓋第一電極261之邊緣，進而定義紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE與白色發光區域WE。換言之，岸層270之邊緣可用於定義發光區域。同時，由於形成有岸層270之區域無法發光，所以可形成不發光區域。此處，岸層270可透過如丙烯酸樹脂、環氧樹脂、酚醛樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂和/或其它材料之有機層形成。
而後，可於第一電極261與岸層270上形成有機發光層262。其中，有機發光層262可以是形成於紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE與白色發光區域WE中的共同層，並且此有機發光層262可發出白色光的白色發光層。在這種狀況中，有機發光層262可形成為由兩個或多個堆疊結構所組成的串列結構。其中，每一對疊結構可包含：電洞傳輸層、至少一個發光層及電子傳輸層。
此外，可於上述堆疊結構之間形成電荷產生層。此電荷產生層可包含：n型電荷產生層，係與下層堆疊結構相鄰；及p型電荷產生層，係形成於n型電荷產生層上並與上層堆疊結構相鄰。其中，n型電荷產生層可向下層堆疊結構中注入電子，而p型電荷產生層可向上層堆疊結構中注入電洞。此處，n型電荷產生層由有機層形成，此有幾層摻雜有如鋰(Li)、鈉(Na)、鉀(K)或銫(Cs)之鹼性金屬或者如鎂(Mg)、鍶(Sr)、鋇(Ba)或鐳(Ra)之鹼土金屬。同時，可透過向具有電洞傳送能力之有機材料中摻雜摻雜物而形成p型電荷產生層。
此處，可於有機發光層262上形成第二電極263。此第二電極263可形成為紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE、白色發光區域WE中的一個共同層。而此第二電極263可透過的能傳送光照之透明導電材料（如氧化銦錫或氧化銦鋅）或半透射導電材料（如：鎂、銀、或鎂銀合金）形成。進而，可於此第二電極263上形成一蓋層。
而後，可於此第二電極263上形成密封層280。此密封層280可防止氧氣或水進入到有機發光層262與第二電極263中。為此，密封層280可包含至少一個無機層與至少一個有機層。
例如，此密封層280可包含：第一無機層281、有機層282與第二無機層283。在這種狀況中，可形成第一無機層281以覆蓋第二電極263。可形成有機層282以覆蓋第一無機層281。其中，有機層282具有足夠的厚度，藉以防止顆粒經由第一無機層281滲入有機發光層262與第二電極263。而後，可形成第二無機層283以覆蓋有機層282。
此處，第一無機層281與第二無機層283中的每一個可由氮化矽、氮化鋁、氮化鋯、氮化鈦、氮化鉿、氮化鉭、氧化矽、氧化鋁、氧化鈦和/或類似材料製成。而有機層282可透過如丙烯酸樹脂、環氧樹脂、酚醛樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂和/或類似材料製成。
進而，可於密封層290上形成第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294。其中，第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293可在物理上相互隔開。而在於密封層280上直接形成第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293之狀況中，當使第一基板111與第二基板112相互接合時，不必對準第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293，且無需使用單獨的粘合層。此處，可透過一定間隔隔開第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293及透明有機層294。
在圖5中，第一彩色濾光片291為與紅色發光區域RE對應放置的紅色濾光片、第二彩色濾光片292為與綠色發光區域GE對應放置的綠色濾光片、而第三彩色濾光片293為與藍色發光區域BE對應放置的藍色濾光片。同時，可與白色發光區域WE相應地放置透明有機層294。
其中，第一彩色濾光片291可由包含有紅色染料之有機層形成，第二彩色濾光片292可由包含有綠色染料之有機層形成，而第三彩色濾光片293可由包含有藍色染料之有機層形成。其中，透明有機層294可透過如丙烯酸樹脂、環氧樹脂、酚醛樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂和/或類似材料形成。
進而，可於第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294上形成無機層310。換言之，如圖5所示，可使此無機層310覆蓋第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294，並於第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294間之空隙處形成此無機層310。在某些實施例中，無機層310可覆蓋第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293之整個頂面，並且此無機層310可被置於黑色矩陣300之整個底面的下方。其中，無機層310可透過透明導電材料（或透明導電氧化物）如氧化銦錫或氧化銦鋅或者透過SiOx、SiNx、SiON、Al 2O 3或這些材料所形成的多層結構形成。
進而，可於第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294間之空隙處所形成的無機層310上形成黑色矩陣300。其中，此黑色矩陣300可由包含有黑色染料之有機層形成。
此處，可於第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294之間填入黑色矩陣300。由於此黑色矩陣300係透過乾式蝕刻形成，所以黑色矩陣300之厚度D1比第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293之中每一個濾光片的厚度D2更薄。進而，黑色矩陣300形成於不發光區域內，而不是形成於發光區域內，因此可使所放置的黑色矩陣覆蓋岸層270。
如上所述，由於黑色矩陣300形成於第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294之間，可依據第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294之間之製程誤差確定黑色矩陣300之製程誤差。換言之，在習知技術中，在形成黑色矩陣與彩色濾光片時，黑色矩陣之製程誤差與彩色濾光片之製程誤差都要被考慮到。但是，依據本發明實施例，根據彩色濾光片之位置決定形成黑色矩陣的位置，因此僅需考慮彩色濾光片之製程誤差。
此外，在本發明中，由於可在第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294之間形成黑色矩陣300，所以黑色矩陣300覆蓋紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE與白色發光區域WE的可能性非常小。因此，依據本發明實施例，可防止因黑色矩陣與彩色濾光片中每一個的製程誤差而導致發光區域之開口率減小。
此外，在本發明實施例中，在第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293之間需要有將被填入黑色矩陣300的空間，因此第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293相互覆蓋的可能性也是很小的。因此，在本發明實施例中，可防止因黑色矩陣與彩色濾光片中每一個的製程誤差而造成色彩混合。
此外，在本發明實施例中，由於黑色矩陣300形成在第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294之間，所以可使黑色矩陣300和第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294上的無機層310具有同一個平面。換言之，黑色矩陣BM之頂面和第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293上的無機層310之頂面相齊。因此，依據本發明實施例，用於對彩色濾光片之階梯高度進行平化之外層可以不形成在黑色矩陣300與無機層310上。
第二基板112可被貼合至第一彩色濾光片291、第三彩色濾光片293與無機層310上。並且，此第二基板112可為一封裝膜。
圖6為本發明實施例之顯示裝置製造方法的流程圖。圖7A至圖7G為沿I-I’剖面線所得到之剖面圖，用以表述本發明實施例之顯示裝置的製造方法。
由於圖7A至圖7G所示剖面圖係為圖6所示顯示裝置的製造方法，所以相同的符號表示相同的原件。下面，將結合圖6與圖7A至圖7G對本發明實施例中顯示裝置的製造方法進行詳述。
首先，如圖7A所示，可形成薄膜電晶體210、有機發光裝置260與密封層280。
具體而言，在形成薄膜電晶體210之前，可於第一基板111上形成緩衝層，以防止穿透基板的水到達薄膜電晶體210與有機發光裝置260。此緩衝層用以防止水經由易於被水穿透的第一基板111到達薄膜電晶體210與有機發光裝置260，其中此緩衝層可包含有交替堆疊之複數個無機層。例如，此緩衝層可由一個多層結構形成，此多層結構中交替地堆疊了氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)與氮氧化矽(SiON)。同時，可透過化學氣相沉積(CVD，chemical vapor deposition)製程形成此緩衝層。
接下來，可於緩衝層上形成薄膜電晶體210所包含之主動層211。具體而言，透過濺射製程、金屬有機物化學氣相沉積（MOCVD）製程和/或類似製程可使主動金屬層遍及此緩衝層。接下來，可透過使用光阻圖案之光罩製程可經由對有機金屬層進行圖案化而形成主動層211。其中，可由矽基半導體材料或氧化物基半導體材料形成此主動層211。
接下來，可於此主動層211上形成閘極絕緣層220。其中，此閘極絕緣層220可形成為無機層，例如，可由氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)或這些材料之組合層形成此閘極絕緣層220。
接下來，可於閘極絕緣層220上形成包含於薄膜電晶體210中之閘極212。具體而言，可透過濺射製程、金屬有機物化學氣相沉積（MOCVD）製程和/或類似製程使第一金屬層遍及閘極絕緣層220。接下來，可透過使用光阻圖案之光罩製程可經由對第一金屬層進行圖案化而形成閘極212。其中，此閘極212可形成為包含鉬(Mo)、鋁(Al)、鉻(Cr)、金(Au)、鈦(Ti)、鎳(Ni)、釹(Nd)、銅(Cu)或這些材料的合金所形成的單層結構或多層結構。
接下來，可於此閘極212上形成層間絕緣層230。其中，可由氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)或這些材料之多層結構形成此層間絕緣層230。
接下來，可形成複數個接觸孔。這些接觸孔可貫穿閘極絕緣層220與層間絕緣層230，並可透過這些接觸孔曝露出主動層211。
接下來，可於層間絕緣層230上形成薄膜電晶體210所包含的源極215與汲極214。具體而言，可透過濺射製程、金屬有機物化學氣相沉積（MOCVD）製程和/或類似製程使第二金屬層遍及層間絕緣層230。接下來，可透過使用光阻圖案之光罩製程可經由對有機金屬層進行圖案化而形成源極215與汲極214。進而，源極215與汲極214可通過貫穿閘極絕緣層220與層間絕緣層230之接觸孔與主動層211相接觸。其中，此源極215與汲極214可形成為包含鉬(Mo)、鋁(Al)、鉻(Cr)、金(Au)、鈦(Ti)、鎳(Ni)、釹(Nd)、銅(Cu)或這些材料的合金所形成的單層結構或多層結構。
接下來，可於薄膜電晶體210之源極215與汲極214上形成鈍化層240。其中，可由此鈍化層240可形成為無機層，例如可由氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)或這些材料之組合層形成此鈍化層240。此處，可透過化學氣相沉積形成此鈍化層240。
接下來，可於鈍化層240上形成平化層250，此平化層250用於平化由薄膜電晶體210形成的階梯高度。此處，平化層250可透過如丙烯酸樹脂、環氧樹脂、酚醛樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂和/或其它材料之有機層形成。
接下來，可於此平化層250上形成包含於有機發光裝置260中之第一電極261。具體而言，可透過濺射製程、金屬有機物化學氣相沉積（MOCVD）製程和/或類似製程使第三金屬層遍及平化層250。接下來，可透過使用光阻圖案之光罩製程可經由對有機金屬層進行圖案化而形成第一電極261。進而，第一電極261可通過貫穿鈍化層240與平化層250之接觸孔而與薄膜電晶體210之汲極214相接觸。其中，第一電極261可透過具有高反射率之金屬材料，如鋁和鈦的堆疊結構、鋁和氧化銦錫的堆疊結構(Ti/Al/Ti)、鋁和氧化銦錫的堆疊結構(ITO/Al/ITO)、銀鈀銅（APC）合金或銀鈀銅（APC）合金和氧化銦錫的堆疊結構(ITO/APC/ITO)。
接下來，可於平化層250上形成岸層270，藉以覆蓋第一電極261之邊緣，進而定義紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE與白色發光區域WE。此處，岸層270可透過如丙烯酸樹脂、環氧樹脂、酚醛樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂和/或其它材料之有機層形成。
接下來，可透過沉積製程或溶液製程(solution process)於第一電極261與岸層270上形成有機發光層262。其中，有機發光層262可以是形成於紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE與白色發光區域WE中的共同層。在這種狀況中，此有機發光層262可發出白色光的白色發光層。
若有機發光層262是白色發光層，則有機發光層262可形成兩個或多個堆疊層之串聯結構。其中，每一堆疊層可包含：電洞傳輸層、至少一個發光層及電子傳輸層。
此外，可於上述堆疊層之間形成電荷產生層。此電荷產生層可包含：n型電荷產生層，係與下層堆疊層相鄰；及p型電荷產生層，係形成於n型電荷產生層上並與上層堆疊層相鄰。其中，n型電荷產生層可向下層堆疊層中注入電子，而p型電荷產生層可向上層堆疊層中注入電洞。此處，n型電荷產生層由有機層形成，此有幾層摻雜有如鋰(Li)、鈉(Na)、鉀(K)或銫(Cs)之鹼性金屬或者如鎂(Mg)、鍶(Sr)、鋇(Ba)或鐳(Ra)之鹼土金屬。同時，可透過向具有電洞傳送能力之有機材料中摻雜摻雜物而形成p型電荷產生層。
接下來，可於有機發光層262上形成第二電極263。此第二電極263可形成為紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE、白色發光區域WE中的一個共同層。其中，第二電極263可透過透明導電材料（或透明導電氧化物）如氧化銦錫或氧化銦鋅或者半透射導電材料（如：鎂、銀、或鎂銀合金）形成。此處，可透過如濺射製程和/或類似製程的物理氣相沉積（PVD）形成第二電極263。進而，可於此第二電極263上形成一蓋層。
接下來，可於此第二電極263上形成密封層280。此密封層280可防止氧氣或水滲入到有機發光層262與第二電極263中。為此，密封層280可包含至少一個無機層與至少一個有機層。
例如，此密封層280可包含：第一無機層281、有機層282、第二無機層283。在這種狀況中，可形成第一無機層281以覆蓋第二電極263。在這種狀況中，可形成第一無機層281以覆蓋第二電極263。可形成有機層282以覆蓋第一無機層281。其中，有機層282具有足夠的厚度，藉以防止顆粒經由第一無機層281滲入有機發光層262與第二電極263。進而，可形成第二無機層283以覆蓋有機層282。
此處，第一無機層281與第二無機層283中的每一個可由氮化矽、氮化鋁、氮化鋯、氮化鈦、氮化鉿、氮化鉭、氧化矽、氧化鋁、氧化鈦和/或類似材料製成。而有機層282可透過如丙烯酸樹脂、環氧樹脂、酚醛樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂和/或其它材料形成。（圖6所示之步驟S101）
其次，如圖7B所示，第一彩色濾光片291可形成為與紅色發光區域RE對應，第二彩色濾光片292可形成為與綠色發光區域GE對應，第三彩色濾光片293可形成為與藍色發光區域BE對應。其中，第一彩色濾光片291可為紅色濾光片、第二彩色濾光片292可為綠色濾光片、而第三彩色濾光片293可為藍色濾光片。
具體而言，可於密封層280上塗覆包含有紅色染料之有機材料，並透過光學製程於紅色發光區域RE中形成此第一彩色濾光片291。接下來，可密封層280上塗覆包含有綠色染料之有機材料，並透過光學製程於綠色發光區域GE中形成此第二彩色濾光片292。接下來，可密封層280上塗覆包含有藍色染料之有機材料，並透過光學製程於藍色發光區域BE中形成此第三彩色濾光片293。
如上所述，已經對依次形成紅色濾光片、綠色濾光片與藍色濾光片之實例進行了描述。但形成彩色濾光片之順序卻並非僅限於此。（圖6所示之步驟S102）
第三，如圖7C所示，可對應白色發光區域WE於密封層280上形成透明有機層294。
具體而言，可於密封層280上塗覆透明有機材料，並透過光學製程於白色發光區域WE中形成此透明有機層294。其中，透明有機層294可透過如丙烯酸樹脂、環氧樹脂、酚醛樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂和/或類似材料形成。
若將紅色子畫素、綠色子畫素及藍色子畫素定義為一個單元畫素，則可以省略白色畫素。在這種狀況中，可省略用於形成透明有機層294之步驟S103。同時，在步驟S102與步驟S103中，可在形成第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293之後形成透明有機層294，但這並不對本發明構成限制。在本發明其它實施例中，可在形成透明有機層294之後形成第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293。或者，可先形成第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293中的一部分彩色濾光片，進而在形成透明有機層294後形成其它的彩色濾光片。例如，可先形成第一彩色濾光片291，再形成透明有機層294，進而繼續形成第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293（圖6所示之步驟S103）。
第四，如圖7D所示，可於第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294上形成無機層310。
進而，可使此無機層310覆蓋第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294，並於第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294間之空隙處形成此無機層310。其中，無機層310可透過透明導電材料（或透明導電氧化物）如氧化銦錫或氧化銦鋅，或者透過SiOx、SiNx或這些材料所形成的多層結構形成。若此無機層310由透明金屬材料形成，則可透過濺射製程形成此無機層310。若此無機層310由氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)或這些材料之多層結構形成，則透過化學氣相沉積(CVD，chemical vapor deposition)製程形成此無機層310。（圖6中之步驟S104）。
第五，如圖7E所示，可使黑色矩陣層301覆蓋無機層310。其中，此黑色矩陣層301為包含有黑色染料之有機材料。（圖6之S105）
第六，如圖7F所示，應用不使用光罩的乾式蝕刻，可透過蝕刻黑色矩陣層301而形成黑色矩陣300。
其中，為乾式蝕刻提供之材料可以是O 2與CF 4的混合氣體。例如，O 2與CF 4之重量比（wt%）可以是60:150，但這並不對本發明構成限制。在這種透過O 2與CF 4之混合氣體對有機層與無機層進行乾式蝕刻的狀況中，其中有機層與無機層之蝕刻比可以是100:1至10:1。例如，可由透明金屬材料（或透明導電有機物）形成此黑色矩陣層310，則有機層與無機層之蝕刻比約為100:1。若此黑色矩陣層310由氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)或這些材料之多層結構形成，則有機層與無機層之蝕刻比約為10:1。
因此，即使在不用光罩而對黑色矩陣層301進行乾式蝕刻之狀況中，主要對有機材料進行蝕刻，而幾乎不對無機層310進行蝕刻。換言之，可透過未經蝕刻之無機層310保護第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294。
此外，可對乾式蝕刻時間進行調節，進而可使黑色矩陣300之頂面和第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、透明有機層294上的無機層310之頂面相齊。若乾式蝕刻時間短，則會使黑色矩陣300留在無機層310上，進而會透過黑色矩陣300擋住紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE與白色發光區域WE發出的光照。同時，若乾式蝕刻時間長，則會使此黑色矩陣300的厚度變薄，進而會降低黑色矩陣300之光阻擋率。換言之，此黑色矩陣300無法正常作業。因此，可透過經驗預先確定適當的乾式蝕刻時間。
此外，雖然黑色矩陣300並非由無機層310保護，但第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與透明有機層294卻受到無機層310之保護。因此，儘管可對乾式蝕刻時間進行調節，黑色矩陣300之厚度D1仍小於第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293之厚度D2。
此外，由於可透過不使用光罩的乾式蝕刻而不是須要光罩之光刻製程形成黑色矩陣300，因此可節省製造成本與製造時間。
此外，由於並不透過光刻製程形成黑色矩陣300，所以黑色矩陣300並不包含光起始劑。
而且，由於黑色矩陣300形成於非發光區域中而不是形成於發光區域EA中，所以可使黑色矩陣300與岸層270重疊。
此外，由於黑色矩陣300填充了第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與294間之間隔，所以黑色矩陣300之頂面與第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、透明有機層294上的無機層310之頂面在同一水平面。換言之，黑色矩陣BM之頂面和第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之頂面可保持相齊。因此，依據本發明實施例，如圖7G所示，可於黑色矩陣300與黑色矩陣層310上貼附未形成保護層之第二基板112。此第二基板112可以是封裝膜。（圖6之步驟S106）。
圖7A至圖7G所示之形成第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、透明有機層294、無機層310與黑色矩陣300之過程係為於密封層280上形成有機發光裝置260的過程，並且這一過程是一個於100℃或更低溫度下執行的低溫製程藉以防止有機發光裝置260受到損害。
在圖6與圖7A至圖7G中，已經描述了於密封層280上形成第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與無機層310的實例。但是，如圖6與圖7A至圖7G所描述的類似，還可於第二基板112上形成第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與無機層310。在這種狀況中，可進一步執行透過黏合層320使第一基板111與第二基板112相互接合之製程。
圖8為本發明實施例中沿圖4之剖面線I-I’之剖面圖。除第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、透明有機層294、黑色矩陣300與無機層310形成於第二基板112上而不是形成於密封層280上且第一基板111透過黏合層320與第二基板112接合之外，圖8之剖面圖與圖5大體相同。
此外，在圖8中，需要用黏合層320使第一基板111與第二基板112接合。其中，黏合層320可以是透明黏合膜或透明黏合樹脂。而且，在圖8中，可在使第一基板111與第二基板112接合時對齊第一基板111與第二基板112，進而使黑色矩陣300與岸層270重疊。
此外，除第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、透明有機層294、黑色矩陣300與無機層310形成於第二基板112上而不是形成於密封層280上的差異之外，用於在第二基板112上形成第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、透明有機層294、黑色矩陣300與無機層310的過程基本上與圖6所示之步驟S102至步驟S106相同。
圖9為本發明實施例中沿圖4之剖面線I-I’之剖面圖。
其中，除了第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、透明有機層294包含有用於散射光線的顆粒330之外，圖9這一剖面圖基本上可參照圖5進行描述。
其中，顆粒330可以是TiO 2或SiO 2。顆粒330的尺寸可以是0.05µm至1µm。而隨著顆粒330的尺寸的增大，會使第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、透明有機層294的透光度降低或使散射率增高。因此，可根據第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、透明有機層294的透光度與散射率預先確定每一個顆粒330之尺寸。
頭戴顯示裝置（HMD）係為用於虛擬實境（VR）或強化實境（AR）的眼鏡式監視裝置，這種頭戴顯示裝置可採用眼鏡式或頭盔式的方法穿戴並形成靠近使用者眼睛一定距離的焦點，同時此頭戴顯示裝置還可配置具有高解析度之小型有機發光顯示裝置。在本發明實施例中，由於第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、透明有機層294中的每一個都包含有顆粒330，所以可使來自紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE、白色發光區域WE的光線發生散射並進行顯示。因此，依據本發明實施例，若此頭戴顯示裝置配置有機發光顯示裝置，則可防止黑色矩陣見於晶格圖案（lattice pattern）中。
圖10A至圖10C為包含有彩色濾光片之不同結構之剖面圖，其中彩色濾光片包含有顆粒。
在圖10A中，示出了第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293位於黑色矩陣300上之結構。如圖10A所示，從包含於紅色發光區域RE中之有機發光層262發出的光線L可被第一彩色濾光片291的顆粒330散射而經過第二彩色濾光片292，再由第二彩色濾光片292之顆粒330散射並從第二彩色濾光片292之上部發出。換言之，從一個發光區域中所包含的有機發光層262發出的光線可經過與這一發光區域相鄰之發光區域所包含的彩色濾光片，這樣便引起了色彩混合。
在圖10B中，繪出了包含有顆粒330之散射層340被置於第一彩色濾光片291至第三彩色濾光片293上的結構。如圖10B所示，從紅色發光區域RE所包含的有機發光層262發出的光線L可穿過第一彩色濾光片291，並為散射層340之顆粒330所散射而經過綠色發光區域GE，進而此光線可被綠色發光區域GE所包含之顆粒330散射並被輸出。換言之，從一個發光區域中所包含之有機發光層262發出的光線可經過與這一發光區域相鄰之發光區域所包含的彩色濾光片，因此會降低可見度與影像銳度，進而產生模糊。
在圖10C中，示出了於密封層280上形成包含有顆粒330之散射層340並於此散射層340上形成黑色矩陣300、第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292及第三彩色濾光片293。如圖10C所示，從包含於紅色發光區域RE中之有機發光層262所發出之光線L可由散射層340之顆粒330散射而經過GE，而後此光線可通過第二彩色濾光片292。換言之，從包含於一個發光區域中之有機發光層262發出之光線可過與這一發光區域相鄰之發光區域所包含的彩色濾光片，這樣便引起了色彩混合。
另一方面，在本發明實施例中，如圖9所示，由於黑色矩陣300被置於第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、透明有機層294之間，所以可防止由紅色發光區域RE所包含之有機發光裝置260發出的光線透過第一彩色濾光片291的顆粒330發生散射而經過與紅色發光區域RE相鄰之發光區域所包含的彩色濾光片。換言之，在本發明實施例中，可防止色彩混與模糊。
圖11為顯示區域中畫素的另一示例之平面圖。為了便於描述，在圖11中僅示出了複數個畫素中所包含的紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE、第一彩色濾光層RF、第二彩色濾光層GF與第三彩色濾光層BF。
如圖11所示，紅色發光區域RE、綠色發光區域GE與藍色發光區域BE中的每一個發光區域可以對應一個區域，在此區域中對應於陽極之第一電極、有機發光層及對應於陰極之第二電極依次堆疊，進而來自第一電極之電洞與來自第二電極之電子內合併以發出光照。
其中，紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE中的每一個之有機發光層可作為紅色發光區域RE、綠色發光區域GE、藍色發光區域BE中的共同層並發出白色光照。其中，第一彩色濾光層RF可與紅色發光區域紅色發光區域RE相應地放置，第二彩色濾光層GF可與綠色發光區域GE相應地放置，且第三彩色濾光層BF可與藍色發光區域BE相應地放置。因此，紅色發光區域RE可用第一彩色濾光層RF發出紅色光，綠色發光區域GE可用第二彩色濾光層GF發出綠色光，且藍色發光區域BE可用第三彩色濾光層BF發出藍色光。同時，紅色子畫素包含紅色發光區域RE、綠色子畫素包含綠色發光區域GE且藍色子畫素包含藍色發光區域BE。
在本發明實施例中，每一彩色濾光片可被置於顏色與之不同的兩個相同的彩色濾光片之間。例如，如圖11所示，可於第K列（K為正整數）中將紅色子畫素置於兩個綠色子畫素之間，並於第K+1列中將藍色子畫素置於兩個綠色子畫素之間。換言之，可僅於第K列中放置紅色子畫素置與綠色子畫素，並於第K+1列中放置綠色子畫素與藍色子畫素。因此，可於陣列的同一列中放置紅色子畫素與綠色子畫素，並於陣列的同一行中放置綠色子畫素與藍色子畫素。
此外，可使第K列中之紅色子畫素與第K+1列中之綠色子畫素相鄰，並使第K列中之綠色子畫素與第K+1列中之藍色子畫素相鄰。換言之，可在對角線方向中放置第K列中之綠色子畫素與第K+1列中之綠色子畫素。
在本發明實施例中，由於具有上述排布方式，所以可將一個紅色子畫素、兩個綠色子畫素與一個藍色子畫素定義為一個單元畫素。
此外，本發明實施例並不受圖11所示實施例的限制。而在本發明另一實施例中，可於第j行（j為正整數）的綠色子畫素之間放置紅色子畫素，並於第j+1行的綠色子畫素之間放置藍色子畫素。
如上所述，本發明實施例中，由於如圖11所示將第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293放置於第二彩色濾光片292之間，便可劃分第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293，所以不需要使用劃分第一彩色濾光層RF、第二彩色濾光層GF與第三彩色濾光層BF的黑色矩陣。
圖12A為沿圖11中剖面線II-II’所獲得之本發明實施例的剖面圖。
其中，除第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、無機層310與第二基板112之外，圖12A之剖面圖基本上與圖5相同。
如圖12A所示，可將第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293置於密封層280上。其中，此第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293彼此間以一定距離隔開。
其中，第一彩色濾光片291為與紅色發光區域RE對應放置的紅色濾光片，而第三彩色濾光片293為與藍色發光區域BE對應放置的藍色濾光片。其中，第一彩色濾光片291可由包含有紅色染料之有機層形成，而第三彩色濾光片293可由包含有藍色染料之有機層形成。
進而，可於第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293上形成無機層310。換言之，如圖12A所示，可用310覆蓋第一彩色濾光片291、第三彩色濾光片293以及第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293間的間隔。其中，無機層310可透過透明導電材料（或透明導電氧化物）如氧化銦錫或氧化銦鋅或者透過SiOx、SiNx或這些材料所形成的多層結構形成。
其中，第二彩色濾光片292可形成於無機層310上。並且，此第二彩色濾光片292位於第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之間。其中，此第二彩色濾光片292可為與綠色發光區域GE對應放置的綠色濾光片。同時，此第一彩色濾光片292可由包含有綠色染料之有機層形成。
其中，此第二彩色濾光片292可填充於第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之間。由於此第二彩色濾光片292透過乾式蝕刻形成，因此第二彩色濾光片292之厚度D3比第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293中每一個的厚度D4更薄。
如上所述，在本發明實施例中，由於第二彩色濾光片292形成於第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之間，所以可不使用黑色矩陣BM而對第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292及第三彩色濾光片293進行劃分。因此，在本發明實施例中，可防止因黑色矩陣和彩色濾光片中的每一個的製程誤差而導致的發光區域之開口率降低。
此外，在本發明實施例中，由於第二彩色濾光片292形成於第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之間，因此第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293相互重疊的可能性十分小。因此，在本發明實施例中，可防止因黑色矩陣和彩色濾光片中的每一個的製程誤差導致色彩混合。
此外，在本發明實施例中，由於在第二彩色濾光片292形成於第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之間，第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之平面與第二彩色濾光片292上之無機層310的平面在同一層上。換言之，第二彩色濾光片292之頂面與第一彩色濾光片291及第三彩色濾光片293上之無機層310的頂面相齊。因此，在本發明實施例中，用於對彩色濾光片之階梯高度進行平化之外層可以不形成在第一彩色濾光片291、第三彩色濾光片293與無機層310上。
此第二基板112可貼附於第二彩色濾光片292及無機層310上。同時，此第二基板112可以是一封裝膜。
圖12B為沿圖11中剖面線III-III’所獲得之本發明實施例的剖面圖。
除沿圖11中剖面線III-III’並以第一彩色濾光片291替代第三彩色濾光片293以外，圖12B之剖面圖與圖12A之剖面圖大體相似。
圖13為本發明另一實施例之顯示裝置的製造方法之流程圖。圖14A至圖14F為沿剖面線II-II’所獲得之用於對本發明另一實施例之顯示裝置的製造方法進行說明的剖面圖。
圖14A至圖14F之剖面圖用以說明圖12中顯示裝置的製造方法，因此相同的標號用於表示相同的元件。下面，將結合圖13與圖14A至圖14F說明本發明另一實施例之顯示裝置的製造方法。
首先，如圖14A所示，可形成薄膜電晶體210、有機發光裝置260及密封層280。圖13中之步驟S201基本上與圖6中之S101大致相同，因此不再對圖13中之步驟S201進行贅述。（圖13之步驟S201）。
第二，如圖14B所示，可於密封層280上形成與紅色發光區域RE相對應的第一彩色濾光片291，並形成與藍色發光區域BE相對應的第三彩色濾光片293。
具體而言，可於密封層280上塗覆包含有紅色染料之有機材料，並透過光學製程於紅色發光區域RE中形成此第一彩色濾光片291。其中，此第一彩色濾光片291可以是第一彩色濾光層RF。同時，可於密封層280上塗覆包含有藍色染料之有機材料，並透過光學製程於藍色發光區域BE中形成此第三彩色濾光片293。其中，此第三彩色濾光片293可以是第三彩色濾光層BF。（圖13之步驟S202）
第三，如圖14C所示，可對應第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293上形成無機層310。
所形成之無機層310可覆蓋第一彩色濾光片291、第三彩色濾光片293以及第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293間之空間。其中，此無機層310可被置於第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293的整個表面上並可被置於第二彩色濾光片292之整個底面下方。其中，無機層310可透過透明導電材料（或透明導電氧化物）如氧化銦錫或氧化銦鋅或者透過SiOx、SiNx或這些材料所形成的多層結構形成。若此無機層310由透明金屬材料形成，則可透過濺射製程形成此無機層310。若此無機層310由氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)或這些材料之多層結構形成，則透過化學氣相沉積(CVD，chemical vapor deposition)製程形成此無機層310。（圖13中之步驟S203）。
第五，如圖14D所示，可使第二彩色濾光片292a覆蓋無機層310。其中，此第二彩色濾光片層292a為包含有綠色染料之有機材料。（圖13之步驟S204）
第六，如圖14E所示，應用不使用光罩的乾式蝕刻，可透過蝕刻第二彩色濾光片層292a而形成第二彩色濾光片292。
其中，為乾式蝕刻提供之材料可以是O 2與CF 4的混合氣體。例如，O 2與CF 4之重量比（wt%）可以是60:150，但這並不對本發明構成限制。在這種透過O 2與CF 4之混合氣體對有機層與無機層進行乾式蝕刻的狀況中，有機層與無機層之蝕刻比可以是100:1至10:1。例如，可由透明金屬材料（或透明導電有機物）形成此無機層310，則有機層與無機層之蝕刻比約為100:1。若此無機層310由氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)或這些材料之多層結構形成，則有機層與無機層之蝕刻比約為10:1。
因此，即使在不用光罩而對第二彩色濾光片層292a進行乾式蝕刻之狀況中，也可以主要對有機材料所對應的第二彩色濾光片層292a進行蝕刻，而幾乎不對無機層310進行蝕刻。換言之，可透過無機層310保護第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293，而使它們不受蝕刻。
此外，可對乾式蝕刻時間進行調節，進而可使第二彩色濾光片層292a之頂面和第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293上的無機層310之頂面相齊。若乾式蝕刻時間短，則會使第二彩色濾光片層292a留在無機層310上，進而導致色彩混合。同時，若乾式蝕刻時間長，則會使此第二彩色濾光片292的厚度變薄，並使其無法正常作業。因此，可透過經驗預先確定適當的乾式蝕刻時間。
此外，雖然第二彩色濾光片層292a並非由無機層310保護，但第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293卻受到無機層310之保護。因此，儘管可對乾式蝕刻時間進行調節，第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293中每一個濾光片之厚度仍小於第二彩色濾光片292之厚度。
此外，由於可透過不使用光罩的乾式蝕刻而不是須要光罩之光刻製程形成第二彩色濾光片層292a，因此可節省製造成本與製造時間。
此外，由於並不透過光刻製程形成第二彩色濾光片層292a，所以第二彩色濾光片層292a並不包含光起始劑。
此外，由於第二彩色濾光片292形成於第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之間，所以第二彩色濾光片292之頂面與第一彩色濾光片291、第三彩色濾光片293上的無機層310之頂面相齊。換言之，第二彩色濾光片292之頂面和第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293上無機層310之頂面可保持在同一水平面。因此，依據本發明實施例，用於平化彩色濾光片之階梯高度的外層並未形成於第二彩色濾光片292與無機層310上。
如圖14F所示，可將第二基板112貼附於第二彩色濾光片292與無機層310。此第二基板112可以是一個密封膜。（圖13之步驟S205）
透過將另一個紅色子畫素替換為藍色子畫素並將第一彩色濾光片291替換為第三彩色濾光片293，可將圖13與圖14A至圖14F應用於圖12B所示的實施例。
圖15為沿圖11中剖面線II-II’所獲得之本發明另一實施例的剖面圖。其中，除了其中第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與無機層310形成於第二基板112上而不是密封層280上再透過黏合層320使第一基板111與第二基板112相結合以外，圖15之剖面圖基本上參照圖12A。
在圖15中，第二基板112可以是玻璃基板或塑料基板。同時，如圖15所示，需要配設用以將第一基板111接合至第二基板112之黏合層320。此黏合層320可以是透明黏合膜或透明黏合樹脂。此外，在圖15中，當將第一基板111接合至第二基板112時，可將第一基板111與第二基板112對準，藉以使第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293對應紅色發光區域RE、綠色發光區域GE與藍色發光區域BE。
此外，除了於第二基板112而不是於密封層280上形成第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與無機層310之外，於第二基板112上形成第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293與無機層310之步驟基本上與圖13之步驟S202至步驟S205基本上相同。
圖16A為沿圖11的剖面線II-II’所獲得的本發明實施例之剖面圖。
除了第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292、第三彩色濾光片293、黑色矩陣300與第二基板112之外，圖16A之剖面圖基本上與圖12相似。
如圖16A所示，可於密封層280上放置第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293。同時，可透過一定間隔使第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293相互隔開。
其中，第一彩色濾光片291為與紅色發光區域RE對應放置的紅色濾光片，而第三彩色濾光片293為與藍色發光區域BE對應放置的藍色濾光片。第一彩色濾光片291可形成為包含有紅色染料之有機層，而第三彩色濾光片293可形成為包含有藍色染料之有機層。如圖9所示，第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293中的每一個彩色濾光片可包含有顆粒330，但這並不對本實施例構成限制。而在其它實施例中，可省略顆粒330。
第二彩色濾光片292可形成於第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之間。其中，第二彩色濾光片292為與綠色發光區域GE對應放置的綠色濾光片。其中，第二彩色濾光片292可形成為與綠色發光區域GE相對應的綠色彩色濾光片。同時，第二彩色濾光片292可為包含有綠色染料的有機層，如圖9所示，第二彩色濾光片292可包含顆粒330，但這並不對本實施例構成限制。在其它實施例中，可省略顆粒330。
此外，由於可透過乾式蝕刻形成第二彩色濾光片292，此第二彩色濾光片292之寬度D3比第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之寬度D4更薄。
此處，可於第一彩色濾光片291與第二彩色濾光片292之間以及第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293之間形成黑色矩陣300。此黑色矩陣300可透過具有較高反射率的鋁或銀形成。在本發明實施例中，因為此黑色矩陣300由反射金屬層形成，所以經過黑色矩陣300之光線L可完全地被反射並輸出。所以，相較於由光吸收材料形成黑色矩陣300之狀況，可進一步提高光效率。
此外，黑色矩陣300可包含有從黑色矩陣300之較低部位延伸的尾部311。而尾部311可形成於密封層280上並被第二彩色濾光片292所覆蓋。因此，黑色矩陣300可具有位於第一彩色濾光片291與第二彩色濾光片292之間的第一部分，此第一部分可位於第二彩色濾光片292的至少一部分的下方，而此第一部分可在物理上分離第二彩色濾光片292與第一彩色濾光片291。同樣地，此黑色矩陣300還可具有位於第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293之間的第二部分，此第二部分可位於第二彩色濾光片292的至少一部分的下方，而此第二部分可在物理上分離第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293。
此處，第二基板112可貼附於第二彩色濾光片292與黑色矩陣300上。而此第二基板112可以封裝膜。
圖16B為沿圖11的剖面線III-III’所獲得的本發明實施例之剖面圖。
除了是沿圖11的剖面線III-III’獲得剖面圖並透過另一個第一彩色濾光片291替換第三彩色濾光片293之外，圖16B之剖面圖基本上與圖16A相似。
圖17為本發明另一實施例之顯示裝置的製造方法的流程圖。圖18A至圖18H為沿剖面線II-II’所獲得的剖面線所獲得之剖面圖。
首先，可形成薄膜電晶體210、有機發光裝置260與密封層280。圖17中之步驟S301基本上與圖6中之步驟S101相同，所以此處不再對圖17中之步驟S301進行贅述。（圖17中之步驟S301）
其次，第一彩色濾光片291可形成於密封層280上藉以與紅色發光區域RE相對應，而第三彩色濾光片293與藍色發光區域BE相對應。其中，圖17中之步驟S302基本上與圖13中之步驟S202相同，所以此處不再對圖17中之步驟S302進行贅述。（圖17中之步驟S302）
第三，如圖18A所示，可形成覆蓋密封層280、第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292與第三彩色濾光片293之反射金屬層300a。
具體而言，可形成反射金屬層300a，藉以覆蓋第一彩色濾光片291、第三彩色濾光片293以及第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293間之空間。此處，可透過濺射製程用鋁或銀形成反射金屬層300a。（圖17中之步驟S303）
第四，如圖18B所示，可於反射金屬層300a上形成光阻圖案PR，藉以覆蓋第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293。其中，光阻圖案PR之寬度W1可被調節為較第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293中各彩色濾光片之寬度W2為寬。（圖17中之步驟S304）
第五，如圖18C所示，可對第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293間之區域中未被光阻圖案PR覆蓋而曝露出的反射金屬層300a之一部分進行濕式蝕刻。由於光阻圖案PR之寬度W1較第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293中各彩色濾光片之寬度W2為寬，所以在蝕刻後尾部311可被加入到反射金屬層300a中。
接下來，如圖18D所示，可移除光阻圖案PR。（圖17中之步驟S305）
第六，如圖18E所示，可於反射金屬層300a與未被反射金屬層300a所覆蓋之第二無機層280上形成第二彩色濾光片層292a。此處，第二彩色濾光片層292a可以是包含有綠色染料的有機材料。（圖17中之步驟S306）
第七，如圖18E所示，透過不使用光罩之乾式蝕刻對第二彩色濾光片層292a進行蝕刻可形成第二彩色濾光片292。
為乾式蝕刻提供之材料可以是O 2與CF 4的混合氣體。例如，O 2與CF 4之重量比（wt%）可以是60:150，但這並不對本發明構成限制。在這種透過O 2與CF 4之混合氣體對有機層與反射金屬層300a進行乾式蝕刻的狀況中，主要對與有機材料相對應之第二彩色濾光片層292a進行蝕刻，而幾乎不對反射金屬層300a進行蝕刻。換言之，透過反射金屬層300a進行的保護，第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293未被蝕刻。
此外，可對乾式蝕刻時間進行調節，進而可使第二彩色濾光片層292a之頂面和第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293上的反射金屬層300a之頂面相齊。若乾式蝕刻時間短，則會使第二彩色濾光片層292a留在反射金屬層300a上，進而防止發生色彩混合。同時，若乾式蝕刻時間長，則會使此第二彩色濾光片292的厚度變薄，此時第二彩色濾光片292無法進行正常作業。因此，可透過經驗預先確定適當的乾式蝕刻時間。
此外，雖然第二彩色濾光片層292a並未被反射金屬層300a保護，但是可透過反射金屬層300a保護第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293。因此，儘管對乾式蝕刻時間進行了調節，但是第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293的厚度較之第二彩色濾光片292的厚度為薄。
此外，第二彩色濾光片層292a可透過不使用光罩的乾式蝕刻形成，而不是使用需要光罩之光學製程，因此可減少製造成本與製造時間。
此外，由於並非透過光刻製程形成第二彩色濾光片層292a，所以第二彩色濾光片層292a並不包含光啟始劑。
此外，由於第二彩色濾光片292形成於第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之間，所以第二彩色濾光片292之頂面與第一彩色濾光片291、第三彩色濾光片293上的無機層310之頂面相齊。換言之，第二彩色濾光片292之頂面和反射金屬層300a之頂面可保持在同一水平面。因此，依據本發明實施例，用於平化彩色濾光片之階梯高度的外層並未形成於第二彩色濾光片292與反射金屬層300a上。（圖17中之步驟S307）
第八，如圖18G所示，可對第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293上的反射金屬層300a蝕刻，藉以曝露出第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293。
透過用藍色子畫素替換紅色子畫素並透過第三彩色濾光片293替換第一彩色濾光片291，圖17與圖18A至圖18G和圖16B相似。
具體而言，可於第一彩色濾光片291與第三彩色濾光片293之外的區域中形成光阻圖案，而後可對未被光阻圖案覆蓋而曝露出的反射金屬層300a進行濕式蝕刻。接下來，可移除此光阻圖案。因此，可使第二彩色濾光片292之頂面與第一彩色濾光片291和第三彩色濾光片293之頂面相齊。
如圖18H所示，第二基板112可貼附於第一彩色濾光片291、第二彩色濾光片292及第三彩色濾光片293上。其中，第二基板112為封裝膜。（圖17中之步驟S308）
雖然本發明以前述之實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。在不脫離本發明之精神和範圍內，所為之更動與潤飾，均屬本發明之專利保護範圍。關於本發明所界定之保護範圍請參考所附之申請專利範圍。
AND 陽極 BANK 岸層 BM 黑色矩陣 CAT 陰極 CF1 第一彩色濾光片 CF2 第二彩色濾光片 D1、D2 厚度 D3、D4 厚度 DA 顯示區域 NDA 非顯示區域 RE 紅色發光區域 GE 綠色發光區域 BE 藍色發光區域 WE 白色發光區域 RF 第一彩色濾光層 GF 第二彩色濾光層 BF 第三彩色濾光層 WF 透明有機層 PR 光阻圖案 EA 發光區域 OL 有機發光層 w1 寬度 w2 寬度 w3 寬度 L 光線 100 顯示裝置 110 顯示面板 111 第一基板 112 第二基板 120 閘極驅動器 130 源極驅動積體電路 140 撓性膜 150 電路板 160 時序控制器 210 薄膜電晶體 211 主動層 212 閘極 214 汲極 215 源極 220 閘極絕緣層 230 層間絕緣層 240 鈍化層 250 平化層 260 有機發光裝置 261 第一電極 262 有機發光層 263 第二電極 270 岸層 280 密封層 281 第一無機層 282 有機層 283 第二無機層 290 密封層 291 第一彩色濾光片 292 第二彩色濾光片 292a 第二彩色濾光片層 293 第三彩色濾光片 294 透明有機層 300 黑色矩陣 300a 反射金屬層 301 黑色矩陣層 310 無機層 311 尾部 320 黏合層 330 顆粒 340 散射層
圖1A至圖1C係為因黑色矩陣、彩色濾光片及岸層之設計誤差所造成的開口率降低與色彩混合的示意圖。 圖2係為根據本發明一實施例所繪示之顯示裝置的透視圖。 圖3係為根據本發明一實施例所繪示之圖2中第一基板、閘極驅動器、源極驅動積體電路、撓性膜、電路板及時序控制器的平面圖。 圖4係為根據本發明一實施例所繪示的顯示區域內畫素之實例的平面圖。 圖5為沿圖4中剖面線I-I’所獲得之剖面圖。 圖6係為根據本發明一實施例所繪示的顯示裝置之製造方法的流程圖。 圖7A至圖7G為沿剖面線I-I’所獲得之用於描述根據本發明一實施例所繪示的顯示裝置之製造方法的剖面圖。 圖8為根據本發明一實施例所繪示的沿圖4中剖面線I-I’所獲得之剖面圖。 圖9為根據本發明一實施例所繪示的沿圖4中剖面線I-I’所獲得之剖面圖。 圖10A至圖10C示出了包含有用於散射光照之顆粒的彩色濾光片的不同結構之剖面圖。 圖11為用於示出顯示區域內畫素之另一實例的平面圖。 圖12A為根據本發明一實施例所繪示的沿圖11中剖面線II-II’所獲得之剖面圖。 圖12B為根據本發明一實施例所繪示的沿圖11中剖面線III-III’所獲得之剖面圖。 圖13係為根據本發明另一實施例所繪示的顯示裝置之製造方法的流程圖。 圖14A至圖14F沿剖面線II-II’所獲得之用於描述根據本發明另一實施例所繪示的顯示裝置之製造方法的剖面圖。 圖15為根據本發明一實施例所繪示的沿圖11中剖面線II-II’所獲得之剖面圖。 圖16A為根據本發明一實施例所繪示的沿圖11中剖面線II-II’所獲得之剖面圖。 圖16B為根據本發明一實施例所繪示的沿圖11中剖面線III-III’所獲得之剖面圖。 圖17係為根據本發明另一實施例所繪示的顯示裝置之製造方法的流程圖。 圖18A至圖18H沿剖面線II-II’所獲得之用於描述根據本發明另一實施例所繪示的顯示裝置之製造方法的剖面圖。

Claims (13)

  1. 一種顯示裝置，係包含：一第一基板；一第二基板，係朝向該第一基板；一子畫素陣列，係置於該第一基板上，該子畫素陣列包含有：一第一子畫素、相鄰於該第一子畫素之一第二子畫素及相鄰於該第二子畫素之一第三子畫素；一第一彩色濾光片係位於該第一子畫素上，一第二彩色濾光片係位於該第二子畫素上及一第三彩色濾光片係位於該第三子畫素上；以及一保護層，係位於該第一彩色濾光片與該第二彩色濾光片之間，位於該第二彩色濾光片與該第三彩色濾光片之間，並位於該第一彩色濾光片、該第二彩色濾光片及該第三彩色濾光片的至少一個彩色濾光片之下方；其中該第二彩色濾光片與該第二基板相接觸。
  2. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該保護層係位於該第一彩色濾光片、該第二彩色濾光片及該第三彩色濾光片中的至少一個彩色濾光片之下方，以及位於其餘彩色濾光片之上方。
  3. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該保護層係為一無機層。
  4. 如請求項2所述之顯示裝置，其中該保護層由氧化銦錫、氧化銦鋅、SiOx、SiNx、SiON與Al2O3中的至少一種形成。
  5. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該第二彩色濾光片之一頂面與該第一彩色濾光片和該第三彩色濾光片上之該保護層的一部分相齊。
  6. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該保護層位於該第二彩色濾光片的至少一部分下方。
  7. 如請求項6所述之顯示裝置，其中該保護層為一反射金屬層。
  8. 如請求項7所述之顯示裝置，其中該反射金屬層由銀或鋁中之至少一種形成。
  9. 如請求項6所述之顯示裝置，其中該第二彩色濾光片的頂面、該第一彩色濾光片的頂面與該第三彩色濾光片的頂面相齊。
  10. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該第一子畫素與該第二子畫素位於該子畫素陣列內相同的列中，該第二子畫素與該第三子畫素位於該子畫素陣列內相同的行中。
  11. 如請求項10所述之顯示裝置，其中該第一彩色濾光片發出與從該第一子畫素接收光線相應的紅色光，該第二彩色濾光片發出與從該第二子畫素接收光線相應的綠色光，且該第三彩色濾光片發出與從該第三子畫素接收光線相應的藍色光。
  12. 如請求項1所述之顯示裝置，還包含一密封層，該密封層係位於該第一子畫素、該第二子畫素與該第三子畫素上，其中該第二彩色濾光片與該密封層接觸。
  13. 如請求項1所述之顯示裝置，其中較之該第一彩色濾光片與該第三濾光片，該第二彩色濾光片的厚度更薄。
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